JPS6141795A - 金属の連続電着法及びその装置 - Google Patents
金属の連続電着法及びその装置Info
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- JPS6141795A JPS6141795A JP16216885A JP16216885A JPS6141795A JP S6141795 A JPS6141795 A JP S6141795A JP 16216885 A JP16216885 A JP 16216885A JP 16216885 A JP16216885 A JP 16216885A JP S6141795 A JPS6141795 A JP S6141795A
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- JP
- Japan
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- cell
- strip
- electrolyte
- electrodeposition
- metal
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
- C25D7/06—Wires; Strips; Foils
- C25D7/0614—Strips or foils
- C25D7/0628—In vertical cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、竪形セルにて釡属金高篭流密度で遅続電着す
る方法および該方法を実権するための関連装置に関する
。詳述すれば、本発明は、流捧ヵ学条件の均−注並び°
に電解障と金属ストリップとの相対運動の均一性を確保
するよう設計された処理セルにて、金属ス） ＩＪタッ
グ高ｔｆｉ密度で一種以上の金屑によって１！漬塗装す
る方法に関するものである。
る方法および該方法を実権するための関連装置に関する
。詳述すれば、本発明は、流捧ヵ学条件の均−注並び°
に電解障と金属ストリップとの相対運動の均一性を確保
するよう設計された処理セルにて、金属ス） ＩＪタッ
グ高ｔｆｉ密度で一種以上の金屑によって１！漬塗装す
る方法に関するものである。
従来の技術
金属ストリップを保護物質、特に別種の金属で被覆する
電解法は、長時間の研究の後、現在では明確に確立され
ている。しかしながら、これらの方法は、時として近代
的な高生産の工業装置のニーズを満たすにはあ′１ｖに
も遅いために、製品の価格はあるべき価格よりも高くな
りがちである。
電解法は、長時間の研究の後、現在では明確に確立され
ている。しかしながら、これらの方法は、時として近代
的な高生産の工業装置のニーズを満たすにはあ′１ｖに
も遅いために、製品の価格はあるべき価格よりも高くな
りがちである。
また、最近では、一種類の金属ではなく、少なくとも二
種以上の金槁金電着した被膜が開発されてきている。こ
の観点から、Ｚｎ −Ｆｅ 並びはＺｎ −Ｎｘ？！
頃は％に将来有望なものとなるであろう。
種以上の金槁金電着した被膜が開発されてきている。こ
の観点から、Ｚｎ −Ｆｅ 並びはＺｎ −Ｎｘ？！
頃は％に将来有望なものとなるであろう。
一方では高を流密度の電着塗装を、他方では異種金属の
電Ｎ’（包含するこれらの技術的趨勢は、時として調和
させ難い様々な種類の一連の技術的問題全提起している
。
電Ｎ’（包含するこれらの技術的趨勢は、時として調和
させ難い様々な種類の一連の技術的問題全提起している
。
例えば、電気めっきラインの生産ａｔ−高める公費があ
れば、それは楚属ス） ＩＪツブの速１ｆｔ時には１５
０ｎｏ／ｍｉｎ以上にも上げなければならないことを意
味しておシ、それ故電解セル内で用いる電流密度もまた
高めなければならないのである。このことは、次には、
電着の諸問題を悪化させることになるが、それは電流ｆ
ｓ度の増加によって電解液内に存在する金属イオンがス
） ＩＪッグ上に析出する速度が悪化し、ス） ＩＪッ
グ近傍の電解質が浴残部と比較して欠乏する結果となる
ためである。
れば、それは楚属ス） ＩＪツブの速１ｆｔ時には１５
０ｎｏ／ｍｉｎ以上にも上げなければならないことを意
味しておシ、それ故電解セル内で用いる電流密度もまた
高めなければならないのである。このことは、次には、
電着の諸問題を悪化させることになるが、それは電流ｆ
ｓ度の増加によって電解液内に存在する金属イオンがス
） ＩＪッグ上に析出する速度が悪化し、ス） ＩＪッ
グ近傍の電解質が浴残部と比較して欠乏する結果となる
ためである。
電流密度を一部レベル以上に上げた場合に、析出速度は
、金属イオンがストリップ近傍の＠液主体から移動する
速さを超えてしまうのである。この状態は、電気めっき
効率およびプロセス速度に著しい低下を招き、その結果
が望んでいたものとまったく相反したものであることは
明白である。
、金属イオンがストリップ近傍の＠液主体から移動する
速さを超えてしまうのである。この状態は、電気めっき
効率およびプロセス速度に著しい低下を招き、その結果
が望んでいたものとまったく相反したものであることは
明白である。
この困難を克服するために、ストリップに接した電解質
の欠乏域の厚さが本質的に最小とするよう、電解液の流
れはかなりの乱流でなければならないことが見い出され
ている。
の欠乏域の厚さが本質的に最小とするよう、電解液の流
れはかなりの乱流でなければならないことが見い出され
ている。
上述の成果を達成するために、種々な装置が試みられて
きたが、全て電解液をストリップ（陰極）と陽極との間
の空間に圧送しようとする概念に基づいたものであった
。従って、これらの装置は、最長寸法部が水平であるセ
ル全ストリップが通過する横形か、或いは下方に進行す
るストリップに方向を変えて、再びストリップを上方に
送り出すリターンロールに底部に備えた浴内に進入する
、すなわち電解セルＦ３ｔ−ストリップが上昇路と降下
路の２つの通し’１通る竪形のいずれかの型式である。
きたが、全て電解液をストリップ（陰極）と陽極との間
の空間に圧送しようとする概念に基づいたものであった
。従って、これらの装置は、最長寸法部が水平であるセ
ル全ストリップが通過する横形か、或いは下方に進行す
るストリップに方向を変えて、再びストリップを上方に
送り出すリターンロールに底部に備えた浴内に進入する
、すなわち電解セルＦ３ｔ−ストリップが上昇路と降下
路の２つの通し’１通る竪形のいずれかの型式である。
横形配置の長所は、より小型のラインが可能な竪形配置
の場合よりもプラントがより単純であることである。
の場合よりもプラントがより単純であることである。
横形配置の１つの欠点は、水平に走行する金属ストリッ
プが垂曲線を形成しやすいので、ストリップは全ての点
で両電極から等距離ではないため、これが不拘−沈層を
生じるばかりでなく、ある場合にはセル内のストリング
に影＃ ’ｌ： ＪＸぼす振ｗＪ全開始させることもあ
り、またストリップの電極との短絡を招くことがあるこ
とである。これらの欠陥は、電解液を電極の中心から強
制供給して、垂曲線の最大沈下時にストリップを支持す
るある種の液圧クッションを形成すると共に、蛋ｇを減
衰させるのにも役立つ装置？採用することによって軽減
することができる。しかしながら、この解決策では、電
解セル内の電解液流は一部がストリップと同方向である
が、−ｓはストリップに対し逆方向であることは明らか
である。
プが垂曲線を形成しやすいので、ストリップは全ての点
で両電極から等距離ではないため、これが不拘−沈層を
生じるばかりでなく、ある場合にはセル内のストリング
に影＃ ’ｌ： ＪＸぼす振ｗＪ全開始させることもあ
り、またストリップの電極との短絡を招くことがあるこ
とである。これらの欠陥は、電解液を電極の中心から強
制供給して、垂曲線の最大沈下時にストリップを支持す
るある種の液圧クッションを形成すると共に、蛋ｇを減
衰させるのにも役立つ装置？採用することによって軽減
することができる。しかしながら、この解決策では、電
解セル内の電解液流は一部がストリップと同方向である
が、−ｓはストリップに対し逆方向であることは明らか
である。
竪形配＃に用いたプラントは、垂曲線問題に苦しむこと
もなく、振りの困難さも軽減されている。
もなく、振りの困難さも軽減されている。
しかるに、正確には自然配置であるために、電解液はセ
ル内を重力によって下方に流れるか、或いは、例えばポ
ンプによって底部から頂部へ圧送されるかいずれかであ
る。すでに述べたように、この方法では、これらの装置
内のストリップは最初は下方に、次いで上方に方向を変
える＞ｊｌｇを通るため、ストリップと電解液との相対
運＠は、当然のことながら、一方のセルでは逆方向、他
方のセルでは順方向となる。
ル内を重力によって下方に流れるか、或いは、例えばポ
ンプによって底部から頂部へ圧送されるかいずれかであ
る。すでに述べたように、この方法では、これらの装置
内のストリップは最初は下方に、次いで上方に方向を変
える＞ｊｌｇを通るため、ストリップと電解液との相対
運＠は、当然のことながら、一方のセルでは逆方向、他
方のセルでは順方向となる。
かかる状態は、単一金属による電気めっきの場合（この
場合、逆方向および順方向の流れ条件下では被覆率、即
ちｆｔＬ覆効率に必然的に差があるはずである）には、
許容できるものの、共電着の場合には、混ざった電解析
出物の組成はストリップ／電解液界面における流体力学
条件忙密接に依存することが広く冥証されていることか
ら、全く容認しがたいことである。従って、最近の高電
流密度手順により、かつ既存の、或いは提案済のプラン
トによる共電着の場合には、順流区間毎に被膜は逆流区
間の被膜の組成とは異なる組成を有すること罠なろう。
場合、逆方向および順方向の流れ条件下では被覆率、即
ちｆｔＬ覆効率に必然的に差があるはずである）には、
許容できるものの、共電着の場合には、混ざった電解析
出物の組成はストリップ／電解液界面における流体力学
条件忙密接に依存することが広く冥証されていることか
ら、全く容認しがたいことである。従って、最近の高電
流密度手順により、かつ既存の、或いは提案済のプラン
トによる共電着の場合には、順流区間毎に被膜は逆流区
間の被膜の組成とは異なる組成を有すること罠なろう。
それ故、現時点での結論として言えば、最新の高電流密
度電着プラント（約１００Ａ１０＋＋”、提案では１８
０ Ａ ７ｃｍ２以下）では、単一金属から成る被４は
、横形セルの両半部において、或いは一対の竪形セルに
おいて異なる流体力学条件のために、外観および／また
は品質に関し時には幾分か不満足なものとなり、また共
電着も同じ理由から多様な組成の不均一な被１に’を生
じている。
度電着プラント（約１００Ａ１０＋＋”、提案では１８
０ Ａ ７ｃｍ２以下）では、単一金属から成る被４は
、横形セルの両半部において、或いは一対の竪形セルに
おいて異なる流体力学条件のために、外観および／また
は品質に関し時には幾分か不満足なものとなり、また共
電着も同じ理由から多様な組成の不均一な被１に’を生
じている。
従って、共電着を行なうために、現在までは、生産性を
失なうほどに低い低電流密度ライン（約８０Ａ／ｃｒｎ
２未満）を用いるか、或いは近代的な竪形セルプラント
であるが、一対の電解セルの一方全除外しなければなら
ない（即ち、下向き区間のみで、或いは上向き区間のみ
でストリップを処理する）ため、この極のプラントが提
案していた小型化の利点を失ってしまった竪形セルブラ
ン）ｋ用いることが必要であった。
失なうほどに低い低電流密度ライン（約８０Ａ／ｃｒｎ
２未満）を用いるか、或いは近代的な竪形セルプラント
であるが、一対の電解セルの一方全除外しなければなら
ない（即ち、下向き区間のみで、或いは上向き区間のみ
でストリップを処理する）ため、この極のプラントが提
案していた小型化の利点を失ってしまった竪形セルブラ
ン）ｋ用いることが必要であった。
、発明の目的
本発明の目的は、方法および該方ｆ：、１に実刈するた
めの関連装置を、竪形セルブラントにおいて、実質的に
均一な流体力学条件を電解液内に確立すると共に、高電
流密度で稼動する各装置の一対の電解セル内に金属ス）
ＩＪッグと電解液との均一な相対速度を確立するうえ
で利用可能なものとする ′ことによって、上述の困難
ヲ全て克服することである。
めの関連装置を、竪形セルブラントにおいて、実質的に
均一な流体力学条件を電解液内に確立すると共に、高電
流密度で稼動する各装置の一対の電解セル内に金属ス）
ＩＪッグと電解液との均一な相対速度を確立するうえ
で利用可能なものとする ′ことによって、上述の困難
ヲ全て克服することである。
本発明の他の目的は、必然的に、一種類のみの金Ｊｌｉ
を電着する場合並びに多種類の金属を共電着する場合の
両方において、生じる被膜のすぐれた均一性を確立する
ことである。
を電着する場合並びに多種類の金属を共電着する場合の
両方において、生じる被膜のすぐれた均一性を確立する
ことである。
本発明の更に別な目的は、方法並びに小型で非常に融通
性があり、かつ極めて均一で良品質の電着或いは共電着
を、いずれの場合にせよ、高電流密度で行なうことがで
きる関連装置を提供することである。
性があり、かつ極めて均一で良品質の電着或いは共電着
を、いずれの場合にせよ、高電流密度で行なうことがで
きる関連装置を提供することである。
発明の構成
本発明の主題である方法は著しく単純であるが、高度に
巧妙な方法である。すなわち、本方法は、金属を金属ス
トリップに対し高電流密度で連続電着するＫあた夛、被
覆すべきストリップは処理装置の各々において、最初降
下区間を下方に、次いで上昇区間を上方に走行し、前記
各区間では電着用の電解液が流れる電解析出セル内を通
過し、かつ前記電解液が、降下区間内の流れ方向を上昇
区間内の流れ方向と逆にして、セル内を乱流にて上下方
向に流れるよ、うにすること全特徴としている。
巧妙な方法である。すなわち、本方法は、金属を金属ス
トリップに対し高電流密度で連続電着するＫあた夛、被
覆すべきストリップは処理装置の各々において、最初降
下区間を下方に、次いで上昇区間を上方に走行し、前記
各区間では電着用の電解液が流れる電解析出セル内を通
過し、かつ前記電解液が、降下区間内の流れ方向を上昇
区間内の流れ方向と逆にして、セル内を乱流にて上下方
向に流れるよ、うにすること全特徴としている。
セル内では、電解液が貧属ストリップに対し逆方向に流
通するようにすることが好ましい。
通するようにすることが好ましい。
本発明に関し上述の方法を実砲する装置は、降下区間の
電解セルおよび上昇区間の電解セルに、電解液がセル内
で激しく移動できるようにする手段（両区間とも同一の
手段）を、各セル内の同じ先端部近くに、即ちストリッ
プがセル内に進入するか、或いはセルを出て行く側の近
くに配置したことを特徴としている。
電解セルおよび上昇区間の電解セルに、電解液がセル内
で激しく移動できるようにする手段（両区間とも同一の
手段）を、各セル内の同じ先端部近くに、即ちストリッ
プがセル内に進入するか、或いはセルを出て行く側の近
くに配置したことを特徴としている。
この方法では、ストリップの移動方向に対する電解液の
移動方向を降下区間のセル内で同一に、また上昇区間の
セル内でも同一にすることがｏＴ能である。セル内の電
解液の乱流は圧送ポンプ、或いは吸込ポンプ（例えば、
エゼクタ型でもよい〕によって達成される。
移動方向を降下区間のセル内で同一に、また上昇区間の
セル内でも同一にすることがｏＴ能である。セル内の電
解液の乱流は圧送ポンプ、或いは吸込ポンプ（例えば、
エゼクタ型でもよい〕によって達成される。
所望により、電解液とストリップとの間を逆方向運動と
したいならば、圧送ポンプの送出し部を、ス） ＩＪツ
ブがセルを出て行く側の近くに設（重して、電解ＡＬｒ
セル内に送ジ出すようにしなければならないのは当然で
あり、反対に吸込ポンプの場合には、セル内の吸込み部
を、ストリップがセル内に進入する側の近くに設置して
、電解液をセルから吸引するよう罠しなければならない
。
したいならば、圧送ポンプの送出し部を、ス） ＩＪツ
ブがセルを出て行く側の近くに設（重して、電解ＡＬｒ
セル内に送ジ出すようにしなければならないのは当然で
あり、反対に吸込ポンプの場合には、セル内の吸込み部
を、ストリップがセル内に進入する側の近くに設置して
、電解液をセルから吸引するよう罠しなければならない
。
実施した小規模試験では、ストリップ速度２〜２０ｍ／
分で電流密度２５ＱＡ／ｃｍ２以下が達成された。この
試験によれば、用いた電流密度、ストリップと電解液と
の相対連層、並びに電解液自身の組成とに依存して、例
えば、１５〜１００９−／ａｎ２の重さの均一で緻密な
亜鉛析出物や、１０〜７５％（重１１）のｒｅ から
成る均一組成の緻密な亜鉛鉄共析物が生成された。
分で電流密度２５ＱＡ／ｃｍ２以下が達成された。この
試験によれば、用いた電流密度、ストリップと電解液と
の相対連層、並びに電解液自身の組成とに依存して、例
えば、１５〜１００９−／ａｎ２の重さの均一で緻密な
亜鉛析出物や、１０〜７５％（重１１）のｒｅ から
成る均一組成の緻密な亜鉛鉄共析物が生成された。
発明の実施例
添付図面に図解した実行可能な具体例を参照し、以下、
本発明をＩＩＦＩＪを挙げて説明する。なお、本ガは本
発明を限定するためのものではない。
本発明をＩＩＦＩＪを挙げて説明する。なお、本ガは本
発明を限定するためのものではない。
一般に左から右に移動し、ローラ２によって図示の如く
下方に方向を変え、電解液で満たされた槽６に入り、第
１セルフ円を下方に移動するストリップ１は、ローラ３
によって上方に転向され、第２セルフ′ を移動した
後、ローラ４によって水平姿勢に転向された後、槽６を
出る。
下方に方向を変え、電解液で満たされた槽６に入り、第
１セルフ円を下方に移動するストリップ１は、ローラ３
によって上方に転向され、第２セルフ′ を移動した
後、ローラ４によって水平姿勢に転向された後、槽６を
出る。
たは４でよい）？介して直流電気回路の陰極に電気的に
接続されているので、陰極として働く。前記回路の陽極
は、給電母線１２を介して陽極８に接続している。回路
は、ストリップ（＠極）と各セルの陽極８との間の空間
で、電解液によって閉成されているのは当然である。
接続されているので、陰極として働く。前記回路の陽極
は、給電母線１２を介して陽極８に接続している。回路
は、ストリップ（＠極）と各セルの陽極８との間の空間
で、電解液によって閉成されているのは当然である。
ストリップがセルに進入する側にあって、各セルは空室
１０とエゼクタ９とで図示されろエゼクタ！ｌｉｉを備
えており、電解液は供給・くイブ５を経て加圧供給され
、次いで槽６内のオー／くフロー１３によって供給され
る。符号１１および１１１は、′電解液がセルフによっ
て槽６から放出されるのを防止し、また空気がセルフ内
に吸引されるのを防止するためＫそれぞれ必要な保１１
ｊ装置である。陽極８が不溶性の場合は、析出のために
必要とされる電解液中の酋属イオン濃度を回復させるた
めに、また恐らくはｐＨを調節し、かつ必要に応じてそ
の組成の補正を行なうために、オーツくフロー１３と電
解液供給パイ１５の闇にｄ ＩＪアクタ金接続すること
か必要である。
１０とエゼクタ９とで図示されろエゼクタ！ｌｉｉを備
えており、電解液は供給・くイブ５を経て加圧供給され
、次いで槽６内のオー／くフロー１３によって供給され
る。符号１１および１１１は、′電解液がセルフによっ
て槽６から放出されるのを防止し、また空気がセルフ内
に吸引されるのを防止するためＫそれぞれ必要な保１１
ｊ装置である。陽極８が不溶性の場合は、析出のために
必要とされる電解液中の酋属イオン濃度を回復させるた
めに、また恐らくはｐＨを調節し、かつ必要に応じてそ
の組成の補正を行なうために、オーツくフロー１３と電
解液供給パイ１５の闇にｄ ＩＪアクタ金接続すること
か必要である。
運転中、エゼクタ９によって供給されセルの外側へと向
かう電解液の流れのために、空室１０内に部分的な真空
が生じるが、この部分真空は、他の電解液を乱流を伴な
ってセル内に激しく引き込むものである。図示の装置か
ら容易にわかるように、電解液はセルフでは底部から頂
部に、セルフ′では頂部から底部に引き込まれている。
かう電解液の流れのために、空室１０内に部分的な真空
が生じるが、この部分真空は、他の電解液を乱流を伴な
ってセル内に激しく引き込むものである。図示の装置か
ら容易にわかるように、電解液はセルフでは底部から頂
部に、セルフ′では頂部から底部に引き込まれている。
従って、両セルにおいて、流体力学条件に関し、所望か
つ必要な均ｉ！ｌＩ７状態が確立されている。
つ必要な均ｉ！ｌＩ７状態が確立されている。
発明の詳細
な説明してきたように、竪形セルにて酋属を連続電着す
る本発明の方法は、降下および上昇路を走行する釡稿ス
トリップに対し、両路において電解液を乱＃、にで上下
方向に流すことによって、セル内の流体力学条件を均衡
化させると共にストリップと電解液との相対速度を均一
にするため、単−酋属の電着並びに複数種類の全滅の共
電着を共に高電流密度で央痛することができ、均一な被
膜を得ることができる。また、本発明の方法を実施する
ための装置は、セル内にて電解液を激しく移動させる手
段として、圧送ポンプまたは吸込ボンダ（エゼクタ型）
ｔストリップの入口または出口近傍に配置しただけの単
純な構造であるため、プラントラ小型化できる竪形セル
の長所全損うことなく容易に実施できるものである。
る本発明の方法は、降下および上昇路を走行する釡稿ス
トリップに対し、両路において電解液を乱＃、にで上下
方向に流すことによって、セル内の流体力学条件を均衡
化させると共にストリップと電解液との相対速度を均一
にするため、単−酋属の電着並びに複数種類の全滅の共
電着を共に高電流密度で央痛することができ、均一な被
膜を得ることができる。また、本発明の方法を実施する
ための装置は、セル内にて電解液を激しく移動させる手
段として、圧送ポンプまたは吸込ボンダ（エゼクタ型）
ｔストリップの入口または出口近傍に配置しただけの単
純な構造であるため、プラントラ小型化できる竪形セル
の長所全損うことなく容易に実施できるものである。
図面は、本発明の方法を実施するための装置の断面図で
ある。 １・・Ｑ ｉ４ストリップ、２，３．４・・ローラ、５
・・電解液供給パイズ、６・・槽、７，７°・・第１お
よび第２セル、８−・陽極、９ψ−エゼクタ、ｉｏ・・
空室、１１．１１’ ・・保護装置、１２・・ｉｔ母
線、１３−・オーバフロー。
ある。 １・・Ｑ ｉ４ストリップ、２，３．４・・ローラ、５
・・電解液供給パイズ、６・・槽、７，７°・・第１お
よび第２セル、８−・陽極、９ψ−エゼクタ、ｉｏ・・
空室、１１．１１’ ・・保護装置、１２・・ｉｔ母
線、１３−・オーバフロー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 竪形セルにて金属を金属ストリップに対し高電流密
度で連続電着するにあたり、被覆すべき前記ストリップ
が処理装置の各々において降下区間を下方に、次いで上
昇区間を上方に走り、かつ前記各区間では少なくとも１
つの電解セルを走行する金属の連続電着方法において、
電着用の電解液が、前記降下区間内の流れ方向を前記上
昇区間内の流れ方向とは逆にして前記各セル内を乱流に
て上下方向に流れるようにすることを特徴とする、金属
の連続電着法。 ２ 前記各セル内では、前記電解液が前記ストリップに
対し逆方向に流れる、特許請求の範囲第１項記載の金属
の連続電着法。 ３ 竪形セルにて金属を金属ストリップに対し高電流密
度で連続電着するための装置において、前記ストリップ
用の入口側と出口側を備えた電解セルに、各処理装置の
降下および上昇区間において、電解液が前記セル内を激
しく移動できるようにする同一の手段を、各セル内の当
該入口側または出口側の近くに配置してなる、金属の連
続電着装置。 ４ 電解液が前記セル内を激しく移動できるようにする
前記手段が、前記各セル内において、前記ストリップが
前記セル内に進入する側の近くに送出し部が設定されて
いて、前記電解液をセルに送り出しする圧送ポンプであ
る、特許請求の範囲第３項記載の装置。 ５ 電解液が前記セル内を激しく移動できるようにする
前記手段が、前記各セル内において、前記ストリップが
前記セルを出て行く側の近くに吸込み部が設定されてい
て、前記電解液をセルから吸引する吸込ポンプである、
特許請求の範囲第３項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT48617A/84 | 1984-07-24 | ||
| IT48617/84A IT1177925B (it) | 1984-07-24 | 1984-07-24 | Procedimento per elettrodeposizione in continuo di metalli ad elevata denista' di corrente di celle verticali e relativo dispositivo di attuazione |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6141795A true JPS6141795A (ja) | 1986-02-28 |
Family
ID=11267656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16216885A Pending JPS6141795A (ja) | 1984-07-24 | 1985-07-24 | 金属の連続電着法及びその装置 |
Country Status (14)
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