JPS6142398B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6142398B2 JPS6142398B2 JP51107389A JP10738976A JPS6142398B2 JP S6142398 B2 JPS6142398 B2 JP S6142398B2 JP 51107389 A JP51107389 A JP 51107389A JP 10738976 A JP10738976 A JP 10738976A JP S6142398 B2 JPS6142398 B2 JP S6142398B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- saucer
- heating chamber
- mounting table
- frequency
- rotary mounting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
- Electric Ovens (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高周波加熱装置の加熱室の底板上に配
設される円形の受皿及び回転載置台の構成に関す
るものである。
設される円形の受皿及び回転載置台の構成に関す
るものである。
従来例の構成とその問題点
従来の一般的な高周波加熱装置や、いわゆるタ
ーンテーブルを備えた高周波加熱装置では、第１
図ないし第２図に示すように加熱室１の底板２に
15〜30（mm）程度のしぼり部３を設け、このしぼ
り部３の上方に受皿４を配設している。
ーンテーブルを備えた高周波加熱装置では、第１
図ないし第２図に示すように加熱室１の底板２に
15〜30（mm）程度のしぼり部３を設け、このしぼ
り部３の上方に受皿４を配設している。
これは、しぼり部３から矢印で示すように反射
した高周波電磁波を食品５の下部中央部分に吸収
させ、これによつてこの食品５の下部中央部分に
起きる生煮えを防止しようとするためである。
した高周波電磁波を食品５の下部中央部分に吸収
させ、これによつてこの食品５の下部中央部分に
起きる生煮えを防止しようとするためである。
しかしながら、このようにしても依然として食
品５の下部中央部分には生煮えが起きているのが
現状であり、また生煮えを防止できないのであれ
ば、このしぼり部３部分はたんに加熱室１の広さ
を狭くして使い勝手を悪くしたことになる。
品５の下部中央部分には生煮えが起きているのが
現状であり、また生煮えを防止できないのであれ
ば、このしぼり部３部分はたんに加熱室１の広さ
を狭くして使い勝手を悪くしたことになる。
また実公昭51―8199号公報に示す如く受皿のほ
ぼ中央部を他の部分よりも厚くし、かつ裏面に高
周波域で発熱する導電性物質をコートすることに
より、加熱室内で反射した高周波を導電性物質で
吸収し、受皿内面の熱をほぼ均一に分布させるこ
とができるため、被加熱物の下面に焦げ目をつけ
ることも可能であるが、肉厚部に対応する部分に
強電界を生じさせて加熱する効果は得られずしか
も加熱室内の容積を有効に活用することができな
いという欠点があつた。
ぼ中央部を他の部分よりも厚くし、かつ裏面に高
周波域で発熱する導電性物質をコートすることに
より、加熱室内で反射した高周波を導電性物質で
吸収し、受皿内面の熱をほぼ均一に分布させるこ
とができるため、被加熱物の下面に焦げ目をつけ
ることも可能であるが、肉厚部に対応する部分に
強電界を生じさせて加熱する効果は得られずしか
も加熱室内の容積を有効に活用することができな
いという欠点があつた。
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、高
周波による加熱調理時に加熱室を狭くすることな
く、食品の下部中央部分に起きる生煮えを防止す
ることのできる受皿及び回転載置台の提供を目的
とするものである。
周波による加熱調理時に加熱室を狭くすることな
く、食品の下部中央部分に起きる生煮えを防止す
ることのできる受皿及び回転載置台の提供を目的
とするものである。
発明の構成
上記目的を達成するため、本発明の高周波加熱
装置は、加熱室内に収容された被加熱物を載せる
受皿と、この受皿を載せて回転する回転載置台と
からなり、前記受皿の中央部に周縁部よりも厚い
円形の肉厚部を設け、この肉厚部と対向する前記
回転載置台に円形のしぼり部を設けた構成であ
り、高周波による加熱調理時に、受皿内の中央下
部に位置する被加熱物の生煮えを防止することが
できるとともに、加熱室内の容積を有効に活用す
ることができるという効果が得られる。
装置は、加熱室内に収容された被加熱物を載せる
受皿と、この受皿を載せて回転する回転載置台と
からなり、前記受皿の中央部に周縁部よりも厚い
円形の肉厚部を設け、この肉厚部と対向する前記
回転載置台に円形のしぼり部を設けた構成であ
り、高周波による加熱調理時に、受皿内の中央下
部に位置する被加熱物の生煮えを防止することが
できるとともに、加熱室内の容積を有効に活用す
ることができるという効果が得られる。
実施例の説明
以下、本発明の一実施例を第３図、第４図に基
づいて説明する。
づいて説明する。
第３図において、６は本体ケース（図示せず）
内に設けられた加熱室で、少なくとも底板７は非
磁性金属で形成されている。
内に設けられた加熱室で、少なくとも底板７は非
磁性金属で形成されている。
また、上記底板７には円形のしぼり部８が形成
されており、このしぼり部８の上面には第４図に
示すように金属製で円形の回転載置台９が配設さ
れ、またしぼり部８の下面にはモータ１０によつ
て回転させられる円形の回転体１１が配設されて
いる。
されており、このしぼり部８の上面には第４図に
示すように金属製で円形の回転載置台９が配設さ
れ、またしぼり部８の下面にはモータ１０によつ
て回転させられる円形の回転体１１が配設されて
いる。
さらに、上記回転載置台９の裏面には複数のロ
ーラ１２と永久磁石１３がそれぞれ同心円状に配
設され、また上記回転体１１の上面には複数の永
久磁石１４が同心円状に配設されている。
ーラ１２と永久磁石１３がそれぞれ同心円状に配
設され、また上記回転体１１の上面には複数の永
久磁石１４が同心円状に配設されている。
そして、上記永久磁石１３，１４の間には磁気
的な吸引力が働くようになつており、したがつて
回転体１１がモータ１０によつて回転駆動されれ
ば上記磁気的な結合手段により回転載置台９が追
従して回転駆動されるようになつている。
的な吸引力が働くようになつており、したがつて
回転体１１がモータ１０によつて回転駆動されれ
ば上記磁気的な結合手段により回転載置台９が追
従して回転駆動されるようになつている。
また、上記回転載置台９の中央部にはこの回転
載置台９の強度を強くするための円形のしぼり部
１５が設けられ、さらにこの回転載置台９には円
形の受皿１６が載せられている。この受皿１６は
加熱室６の側壁に達する程度の大きなものであ
り、耐熱ガラスで形成されている。なおこのよう
に受皿１６を大きくする理由は以下の通りであ
る。
載置台９の強度を強くするための円形のしぼり部
１５が設けられ、さらにこの回転載置台９には円
形の受皿１６が載せられている。この受皿１６は
加熱室６の側壁に達する程度の大きなものであ
り、耐熱ガラスで形成されている。なおこのよう
に受皿１６を大きくする理由は以下の通りであ
る。
(a) ローラ１２の回転の防げとなる煮こぼれを防
止する。
止する。
(b) 加熱室内いつぱいの大きな食品が載置でき
る。
る。
そして、その中央部、つまり上記回転載置台９
のしぼり部１５に対向する部分には周縁部に比し
て肉厚な肉厚部１７が形成されている。
のしぼり部１５に対向する部分には周縁部に比し
て肉厚な肉厚部１７が形成されている。
したがつて、受皿定部１６ａを回転載置台絞り
部９ａに当接させることにより、肉厚部１７を上
記しぼり部１５に対向させることができ、受皿１
６は回転載置台９の定位置に載せられたことにな
るのである。
部９ａに当接させることにより、肉厚部１７を上
記しぼり部１５に対向させることができ、受皿１
６は回転載置台９の定位置に載せられたことにな
るのである。
なお、食品１８は高周波損失が少ない樹脂で形
成された容器１９に入れられ、また容器１９はこ
の食品１８の下部中央部が上記肉厚部１７の上方
に位置するように置いている。
成された容器１９に入れられ、また容器１９はこ
の食品１８の下部中央部が上記肉厚部１７の上方
に位置するように置いている。
また、受皿１６の肉厚部１７の上面から、この
肉厚部１７の下面に対向する金属面、つまり上記
しぼり部１５までの距離は、食品１８の下部中央
部に生煮えが起きないよう10（mm）以上にしてお
り、この点については次の実験をもとに詳しくの
べる。
肉厚部１７の下面に対向する金属面、つまり上記
しぼり部１５までの距離は、食品１８の下部中央
部に生煮えが起きないよう10（mm）以上にしてお
り、この点については次の実験をもとに詳しくの
べる。
この実験とは、一般に用いられる2450（ＭHz）
の高周波電磁波の加熱室６内での波長λの1/4、
つまり金属面からλ／４の位置が最も電界が高い
ということに着眼してなされたものであり、この
場合その位置は金属面、つまり上記しぼり部１５
から約35（mm）程度上方になる。
の高周波電磁波の加熱室６内での波長λの1/4、
つまり金属面からλ／４の位置が最も電界が高い
ということに着眼してなされたものであり、この
場合その位置は金属面、つまり上記しぼり部１５
から約35（mm）程度上方になる。
したがつて、しぼり部１５から食品１８の下部
中央部までの距離を約35（mm）程度にすれば良い
のであるが、たんにこうしただけではこの部分の
生煮えを防止することができなかつた。
中央部までの距離を約35（mm）程度にすれば良い
のであるが、たんにこうしただけではこの部分の
生煮えを防止することができなかつた。
そこで種々の実験を行つた結果、受皿１６や容
器１９によつて上記距離が見かけの３５（mm）よ
り長くなつてしまうことが判明したのである。
器１９によつて上記距離が見かけの３５（mm）よ
り長くなつてしまうことが判明したのである。
これを理論的に説明すると次のようになる。一
般に波長λは次の()式で表わされる。
般に波長λは次の()式で表わされる。
λ＝Ｃ／ ……()
但し、Ｃ：電波の速さ、：周波数
また、誘電体中での電波の速さＣは次の()式
で表われるものである。
で表われるものである。
Ｃ＝Co／√S・S ……()
但しCo：真空中の電波の速度、εS：比誘電
率、μS：比透磁率 したがつて、()式に受皿１６を形成した耐熱
ガラスの比誘電率である４を代入すると誘電体中
での電波の速さは()式から1/2倍になる。
率、μS：比透磁率 したがつて、()式に受皿１６を形成した耐熱
ガラスの比誘電率である４を代入すると誘電体中
での電波の速さは()式から1/2倍になる。
そこで、このＣ＝1/2を上記()式に代入する
と結果的に誘電体中での波長の長さは加熱室６内
での波長の長さの1/2になることがわかる。
と結果的に誘電体中での波長の長さは加熱室６内
での波長の長さの1/2になることがわかる。
このことは換言すれば、例えば受皿１６の厚さ
を10（mm）にすれば、この10（mm）は高周波電磁
波に対しては２倍の20（mm）になるという事であ
る。
を10（mm）にすれば、この10（mm）は高周波電磁
波に対しては２倍の20（mm）になるという事であ
る。
このことをもとに種々の実験をさらに行つた結
果、受皿１６としては軽くて実用的な厚さ５
（mm）また肉厚部１７だけは厚さ８（mm）〔高周波
電磁波に対しては厚さ16（mm）〕のものを使用
し、この肉厚部１７の下面から上記しぼり部１５
までを２（mm）、つまり肉厚部１７の上面からし
ぼり部１５までを合計10（mm）にすれば加熱むら
が起きなかつたのである。
果、受皿１６としては軽くて実用的な厚さ５
（mm）また肉厚部１７だけは厚さ８（mm）〔高周波
電磁波に対しては厚さ16（mm）〕のものを使用
し、この肉厚部１７の下面から上記しぼり部１５
までを２（mm）、つまり肉厚部１７の上面からし
ぼり部１５までを合計10（mm）にすれば加熱むら
が起きなかつたのである。
なお、この場合には次の()式のように食品１
８の裏面から17（mm）の所に電界の最も高い位置
があると計算されるが、実際には誘電体である容
器１９によつてさらに波長は短くなるのである。
８の裏面から17（mm）の所に電界の最も高い位置
があると計算されるが、実際には誘電体である容
器１９によつてさらに波長は短くなるのである。
35−（８×２＋２）＝17（mm） ……()
この結果、食品１８の裏面から10（mm）程度の
位置に電界が最も高い位置があらわれることにな
り、したがつて食品１８の下部中央部分には生煮
えが起きずこのことは実験により明らかとなつ
た。
位置に電界が最も高い位置があらわれることにな
り、したがつて食品１８の下部中央部分には生煮
えが起きずこのことは実験により明らかとなつ
た。
なお、この実施例では肉厚部１７を８（mm）、
またこの肉厚部１７の下面からしぼり部１５まで
の距離を２（mm）にしたが、この肉厚部１７を８
（mm）以上にしても良い。
またこの肉厚部１７の下面からしぼり部１５まで
の距離を２（mm）にしたが、この肉厚部１７を８
（mm）以上にしても良い。
もちろん、肉厚部１７の厚さを８（mm）以下に
しても良いが、この場合には肉厚部１７の下面か
らしぼり部１５までの距離を長くする必要があ
り、軽くて実用的な５（mm）程度ものをこの受皿
１６として活用する場合には、肉厚部１７の上面
からしぼり部１５までの距離を10（mm）以上にす
れば生煮えが起きないことが実験により明らかと
なつた。
しても良いが、この場合には肉厚部１７の下面か
らしぼり部１５までの距離を長くする必要があ
り、軽くて実用的な５（mm）程度ものをこの受皿
１６として活用する場合には、肉厚部１７の上面
からしぼり部１５までの距離を10（mm）以上にす
れば生煮えが起きないことが実験により明らかと
なつた。
なお受皿の略中央部の周辺部については、回転
載置台を採用している為、庫内での相対的な被加
熱物の位置が変化している。また加熱室の電界分
布モードは一様ではなくかなり乱反射等が起こつ
ている。従つて電波の強い部分、弱い部分を回転
する為平均的には均一な加熱ができる。
載置台を採用している為、庫内での相対的な被加
熱物の位置が変化している。また加熱室の電界分
布モードは一様ではなくかなり乱反射等が起こつ
ている。従つて電波の強い部分、弱い部分を回転
する為平均的には均一な加熱ができる。
ところが、受皿の略中央部は、回転載置台を採
用しても庫内での相対的な位置はほとんど変化し
ていない。さらに金属部表面又は近傍では電界強
度は最小の為ほとんど加熱されないが、本発明に
よると金属部近傍に置かれた食品が受皿の肉厚部
を設けることにより、逆に定在波を積極的に利用
し電界の強い部分を食品の裏面から約10mmの所に
設定することにより生煮えを防止できるものであ
る。
用しても庫内での相対的な位置はほとんど変化し
ていない。さらに金属部表面又は近傍では電界強
度は最小の為ほとんど加熱されないが、本発明に
よると金属部近傍に置かれた食品が受皿の肉厚部
を設けることにより、逆に定在波を積極的に利用
し電界の強い部分を食品の裏面から約10mmの所に
設定することにより生煮えを防止できるものであ
る。
また、上記実施例では受皿１６を比誘電率が４
の耐熱ガラスで形成した例を説明したが、この受
皿１６をポリカーボネイトやポリサルフオン等の
高周波損失が少ない樹脂、または高アルミナ、ジ
ルコン等の磁器材料で形成しても良い。
の耐熱ガラスで形成した例を説明したが、この受
皿１６をポリカーボネイトやポリサルフオン等の
高周波損失が少ない樹脂、または高アルミナ、ジ
ルコン等の磁器材料で形成しても良い。
ただし、ポリカーボネイトやポリサルフオン等
の樹脂は比誘電率が約３であるのでこの値を上記
()に代入すれば明らかなようにこの場合には肉
厚部１７の上面から、この肉厚部１７の下面に対
向する金属面までの距離を約12（mm）以上にすれ
ば良い。また、高アルミナやジルコン等は比誘電
率が約９であるのでこの値を上記()式に代入す
れば明らかなように、この場合には肉厚部１７の
上面から、この肉厚部１７の下面に対向する金属
面までの距離を７（mm）以上にすれば良く、これ
ら両者についても食品１８の下部中央部に生煮え
が起きないということを実験により確認した。
の樹脂は比誘電率が約３であるのでこの値を上記
()に代入すれば明らかなようにこの場合には肉
厚部１７の上面から、この肉厚部１７の下面に対
向する金属面までの距離を約12（mm）以上にすれ
ば良い。また、高アルミナやジルコン等は比誘電
率が約９であるのでこの値を上記()式に代入す
れば明らかなように、この場合には肉厚部１７の
上面から、この肉厚部１７の下面に対向する金属
面までの距離を７（mm）以上にすれば良く、これ
ら両者についても食品１８の下部中央部に生煮え
が起きないということを実験により確認した。
発明の効果
以上のように本発明の高周波加熱装置によれ
ば、受皿の中央部に肉厚部を形成したことによ
り、肉厚部に対応する部分に強電界を生じさせる
ことができるため、食品の下部中央部が生煮えに
なることがなく、さらに構成はきわめて簡単なの
で非常に有用なものである。
ば、受皿の中央部に肉厚部を形成したことによ
り、肉厚部に対応する部分に強電界を生じさせる
ことができるため、食品の下部中央部が生煮えに
なることがなく、さらに構成はきわめて簡単なの
で非常に有用なものである。
また、肉厚部を形成することにより上述のごと
く生煮えが防止でき、このことは換言すれば受皿
の下面と金属面との間隙が有効に活用され、実際
面でもこの肉厚部を形成したことにより上記間隙
は従来のものに比して非常に狭くなり、したがつ
て加熱室は広くて使い勝つ手が良くなるという効
果を有する。
く生煮えが防止でき、このことは換言すれば受皿
の下面と金属面との間隙が有効に活用され、実際
面でもこの肉厚部を形成したことにより上記間隙
は従来のものに比して非常に狭くなり、したがつ
て加熱室は広くて使い勝つ手が良くなるという効
果を有する。
第１図、第２図は従来の高周波加熱装置の断面
図、第３図は本発明の一実施例にかかる高周波加
熱装置の断面図、第４図は同装置の要部拡大断面
図である。 ６……加熱室、７……加熱室の底板、９……回
転載置台、１５……しぼり部、１６……受皿、１
７……肉厚部。
図、第３図は本発明の一実施例にかかる高周波加
熱装置の断面図、第４図は同装置の要部拡大断面
図である。 ６……加熱室、７……加熱室の底板、９……回
転載置台、１５……しぼり部、１６……受皿、１
７……肉厚部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 2450MHzの高周波電磁波を利用した高周波加
熱装置の本体ケース内に加熱室を設けこの加熱室
の底板上に加熱室の側板に達する程度の大きさの
高周波電波透過性の円形の受皿を配設し、かつこ
の受皿の中央部には周縁部に比して肉厚な肉厚部
を形成し、かつ前記加熱室の底板上に金属性の円
形の回転載置台を配設し、前記受皿を前記回転載
置台上に載せた状態で、受皿の肉厚部に対向する
円形のしぼり部を前記回転載置台に設ける構成と
するとともに受皿の肉厚部の上面からこの肉厚部
の下面に対向するしぼり部までの距離Ｔを λ／４＞Ｔ＞λ／８（Ｔ＝t1×√S×S＋t2） （λ：高周波電磁波の波長、t1：受皿の肉厚部の
厚み、εS：受皿の比誘電率、μS：受皿の比誘磁
率、t2：回転載置台から受皿までの距離）の関係
にした高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10738976A JPS5332436A (en) | 1976-09-07 | 1976-09-07 | High-frequency heating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10738976A JPS5332436A (en) | 1976-09-07 | 1976-09-07 | High-frequency heating apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5332436A JPS5332436A (en) | 1978-03-27 |
| JPS6142398B2 true JPS6142398B2 (ja) | 1986-09-20 |
Family
ID=14457880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10738976A Granted JPS5332436A (en) | 1976-09-07 | 1976-09-07 | High-frequency heating apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5332436A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59184492A (ja) * | 1983-04-01 | 1984-10-19 | 松下電器産業株式会社 | 高周波加熱装置 |
| JPH0310104U (ja) * | 1989-06-16 | 1991-01-30 | ||
| JP2000267106A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Reyoon Kogyo:Kk | 液晶ディスプレイ基板処理方法と、その方法を利用した処理装置 |
| JP3834454B2 (ja) * | 2000-04-20 | 2006-10-18 | 株式会社フジマック | 調理用オーブンのターンテーブル駆動機構 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5244922Y2 (ja) * | 1972-08-18 | 1977-10-13 | ||
| JPS518199U (ja) * | 1974-07-04 | 1976-01-21 |
-
1976
- 1976-09-07 JP JP10738976A patent/JPS5332436A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5332436A (en) | 1978-03-27 |
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