JPS6142515A - オレフイン−スチレン共重合体の製造方法 - Google Patents
オレフイン−スチレン共重合体の製造方法Info
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- JPS6142515A JPS6142515A JP16283484A JP16283484A JPS6142515A JP S6142515 A JPS6142515 A JP S6142515A JP 16283484 A JP16283484 A JP 16283484A JP 16283484 A JP16283484 A JP 16283484A JP S6142515 A JPS6142515 A JP S6142515A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はオレフィン−スチレン共重合体の製造法に関し
、詳しくは塩素の含有量が極めて低量であるオレフィン
−スチレン共重合体の製造法に関する。
、詳しくは塩素の含有量が極めて低量であるオレフィン
−スチレン共重合体の製造法に関する。
従来より、オレフィンとスチレンとを塩化アルミニウム
、塩化鉄などのフリーデルタシフト型触媒の存在下で共
重合を行ない、オレフィン−スチレン共重合体を得るこ
とが知られている。このようにして得られる共重合体中
には触媒に由来する塩素が比較的多量に含有されている
。この塩素は該共重合体の体積抵抗率の低下を招き、除
去する必要がある。そのため、この脱塩素方法として、
活性白土処理または活性炭処理する方法等が提案されて
いる。しかしながら、これらの方法では充分に脱塩素が
行なわれず、得られる共重合体の体積抵抗率は低いもの
であった。
、塩化鉄などのフリーデルタシフト型触媒の存在下で共
重合を行ない、オレフィン−スチレン共重合体を得るこ
とが知られている。このようにして得られる共重合体中
には触媒に由来する塩素が比較的多量に含有されている
。この塩素は該共重合体の体積抵抗率の低下を招き、除
去する必要がある。そのため、この脱塩素方法として、
活性白土処理または活性炭処理する方法等が提案されて
いる。しかしながら、これらの方法では充分に脱塩素が
行なわれず、得られる共重合体の体積抵抗率は低いもの
であった。
そこで、本発明者は充分に脱塩素を行ない、体積抵抗率
の向上したオレフィ°ン、−スチレン共重合体の製造方
法を開発すべく研究した結果、特定の吸着剤が極めて効
率良く脱塩素を行ない、体積抵抗率の向上したス・レン
インー人ナレン共重合体が得られることを見い出し、こ
の知見に基づいて本発明を完成した。
の向上したオレフィ°ン、−スチレン共重合体の製造方
法を開発すべく研究した結果、特定の吸着剤が極めて効
率良く脱塩素を行ない、体積抵抗率の向上したス・レン
インー人ナレン共重合体が得られることを見い出し、こ
の知見に基づいて本発明を完成した。
すなわち本発明は、オレフィンとスチレンをフリーデル
タシフト型触媒の存在下で共重合を行ない、オレフィン
−スチレン共重合体を製造し、次いで、該共重合体を水
処理および乾燥処理した後、アルミナ処理することを特
徴とするオレフィン−スチレン共重合体の製造法を提供
するものである。
タシフト型触媒の存在下で共重合を行ない、オレフィン
−スチレン共重合体を製造し、次いで、該共重合体を水
処理および乾燥処理した後、アルミナ処理することを特
徴とするオレフィン−スチレン共重合体の製造法を提供
するものである。
本発明において原料であるオレフィンとしては、種々の
ものを用いることができる。具体的には、エチレン、プ
ロピレン、ブチレン、イソブチレン等が挙げられるが、
特に、石油の熱分解によって得られる炭素数4の留分か
らブタジェンを除いたイソブチレンを主成分とするブタ
ン−ブテン留分が好適である。
ものを用いることができる。具体的には、エチレン、プ
ロピレン、ブチレン、イソブチレン等が挙げられるが、
特に、石油の熱分解によって得られる炭素数4の留分か
らブタジェンを除いたイソブチレンを主成分とするブタ
ン−ブテン留分が好適である。
オレフィンとスチレンとの配合量は目的とする共重合体
により異なり、一義的に決定されないが、通常はオレフ
ィン100重量部に対してスチレン10〜80重量部、
好ましくは20〜40重量部である。スチレンの使用量
が80重量部を超えると、スチレンホモポリマーが生成
して好ましくない。
により異なり、一義的に決定されないが、通常はオレフ
ィン100重量部に対してスチレン10〜80重量部、
好ましくは20〜40重量部である。スチレンの使用量
が80重量部を超えると、スチレンホモポリマーが生成
して好ましくない。
本発明においてオレフィンとスチレンをフリーデルクラ
フト型触媒にて共重合を行なう。フリーデルクラフト型
触媒としては通常用いられるものであれば良く、特に制
限はないが、塩化アルミニウム、塩化鉄、塩化スズ、塩
化チタン、塩化亜鉛等があげられる。特に塩化アルミニ
ウムが好ましい。このフリーデルタシフト型触媒はほと
んどのものが塩素を含むものであり、共重合体中へ移行
する塩素の原因となっている。触媒の使用量は通常原料
オレフィンに対して0.05〜1.00モル%、好まし
くは0.10〜0.30モル%が好適である。
フト型触媒にて共重合を行なう。フリーデルクラフト型
触媒としては通常用いられるものであれば良く、特に制
限はないが、塩化アルミニウム、塩化鉄、塩化スズ、塩
化チタン、塩化亜鉛等があげられる。特に塩化アルミニ
ウムが好ましい。このフリーデルタシフト型触媒はほと
んどのものが塩素を含むものであり、共重合体中へ移行
する塩素の原因となっている。触媒の使用量は通常原料
オレフィンに対して0.05〜1.00モル%、好まし
くは0.10〜0.30モル%が好適である。
共重合反応における反応条件は特に制限はなく、使用す
るオレフィン、触媒の種類、使用量などにより適宜選定
すれば良い。通常は、温度O〜150℃、好ましくは5
0〜100℃、圧力1〜30kg/cm” 、好ましく
は2〜10kg/ca+”にて5〜60分、好ましくは
20〜60分間反応を行なう。共重合反応は無溶媒であ
っても反応は進行するが、溶媒を使用することも可能で
ある。溶媒を使用する場合は、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタンなどの脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素、シクロペンクン、シクロ
ヘキセンなどの脂環式炭化水素、塩化メチレン、ジクロ
ルエタン。
るオレフィン、触媒の種類、使用量などにより適宜選定
すれば良い。通常は、温度O〜150℃、好ましくは5
0〜100℃、圧力1〜30kg/cm” 、好ましく
は2〜10kg/ca+”にて5〜60分、好ましくは
20〜60分間反応を行なう。共重合反応は無溶媒であ
っても反応は進行するが、溶媒を使用することも可能で
ある。溶媒を使用する場合は、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタンなどの脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素、シクロペンクン、シクロ
ヘキセンなどの脂環式炭化水素、塩化メチレン、ジクロ
ルエタン。
クロルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素などが挙げら
れ、特にヘキサン、ヘプタン等が好適である。。
れ、特にヘキサン、ヘプタン等が好適である。。
以上の如き共重合反応により得られる反応性成物に水を
加えて触媒の分解、除去処理を行なう。
加えて触媒の分解、除去処理を行なう。
水の使用量は反応生成物に対して20〜100体積%、
好ましくは50〜100体積%程度である。
好ましくは50〜100体積%程度である。
次いで、水層と油層とを分離し、油層を乾燥処理する。
これは上記水処理において油層中に残存した水分を除く
ことを目的としたものであり、この水分が除去できる方
法であれば、種々の方法が適用できる。特に無水硫酸ナ
トリウムを油層に加え、12〜24時間室温にて放置す
る方法は油層を加熱することなく脱水を行なうことがで
き、好適である。
ことを目的としたものであり、この水分が除去できる方
法であれば、種々の方法が適用できる。特に無水硫酸ナ
トリウムを油層に加え、12〜24時間室温にて放置す
る方法は油層を加熱することなく脱水を行なうことがで
き、好適である。
このようにして得られた油層より溶媒、未反応原料等を
除去するため、たとえば減圧藩留などを行ない、オレフ
ィン−スチレン共重合体を得る。
除去するため、たとえば減圧藩留などを行ない、オレフ
ィン−スチレン共重合体を得る。
このオレフィン−スチレン共重合体は触媒に由来する塩
素を比較的多量に含んだものである。
素を比較的多量に含んだものである。
次に、得られた共重合体にアルミナ処理を行なう。アル
ミナ処理はアルミナと該共重合体を接触処理することに
より行なわれる。ここで用いられるアルミナは使用前に
400〜800℃、好ましくは500〜700℃で1〜
3時間、好ましくは1.5〜2.5時間焼成し、活性化
したものが好適である。アルミナ処理は上記オレフィン
−スチレン共重合体に対してアルミナを2〜10重量%
、好ましくは5〜10重量%を加え100〜200℃、
好ましくは150〜180℃にて1〜5時間、好ましく
は3〜5時間接触処理することにより行なわれる。アル
ミナ処理は無溶媒にて行なっても良く、また溶媒を用い
ても良い。
ミナ処理はアルミナと該共重合体を接触処理することに
より行なわれる。ここで用いられるアルミナは使用前に
400〜800℃、好ましくは500〜700℃で1〜
3時間、好ましくは1.5〜2.5時間焼成し、活性化
したものが好適である。アルミナ処理は上記オレフィン
−スチレン共重合体に対してアルミナを2〜10重量%
、好ましくは5〜10重量%を加え100〜200℃、
好ましくは150〜180℃にて1〜5時間、好ましく
は3〜5時間接触処理することにより行なわれる。アル
ミナ処理は無溶媒にて行なっても良く、また溶媒を用い
ても良い。
特に溶媒を使用すると、接触面積がより大きくなり、効
率よく脱塩素を行なうことができる。また、濾過も有効
である。用いられる触媒としてはヘキサン、ヘプタン、
オクタン等の不活性灰化水素などが挙げられる。
率よく脱塩素を行なうことができる。また、濾過も有効
である。用いられる触媒としてはヘキサン、ヘプタン、
オクタン等の不活性灰化水素などが挙げられる。
アルミナ処理後、アルミナを濾過等により分離すること
によりオレフィン−スチレン共重合体が得られる。
によりオレフィン−スチレン共重合体が得られる。
このようにして得られたオレフィンースチレン共重合体
は塩素の含有量が1〜5 ppmと極めて低く、したが
って体積抵抗率は80″CにおいてI Xl01th〜
2X10′&Ω1程度と非常に高いものである。したが
って、本発明の製造法により得られたオレフィン−スチ
レン共重合体は接着剤、塗料、可塑剤原料、シーラント
、バインダー等として極めて有効に使用することができ
る。
は塩素の含有量が1〜5 ppmと極めて低く、したが
って体積抵抗率は80″CにおいてI Xl01th〜
2X10′&Ω1程度と非常に高いものである。したが
って、本発明の製造法により得られたオレフィン−スチ
レン共重合体は接着剤、塗料、可塑剤原料、シーラント
、バインダー等として極めて有効に使用することができ
る。
次に、本発明を実施例により詳しく説明する。
実施例1
攪拌機、冷却器、温度針、原料注入口、触媒封管破裂機
を備えたオートクレーブに塩化アルミニウム1.0 g
を仕込んだ封管を取付けた。このオートクレーブ内を窒
素置換後、真空ポンプにて減圧とした。次いで、ブタン
−ブテン留分240. Ogおよびスチレン43.6g
を入れ、攪拌しながら触媒封管を破裂させて反応を行な
った。反応熱により昇温するため、冷却しながら約60
℃に調節しつつ1時間はど反応させた。その後、メタノ
ールを加えて反応を停止させた。次に、500m Il
の水を加えて触媒を分解後、水層静置分離し油層に無水
硫酸ナトリウム50gを加え24時間放置することによ
り脱水した。次いで、この油層を20mmHgで100
℃以上にて減圧蒸留を行ない、無色透明な粘稠液体を2
05.5 g得た。
を備えたオートクレーブに塩化アルミニウム1.0 g
を仕込んだ封管を取付けた。このオートクレーブ内を窒
素置換後、真空ポンプにて減圧とした。次いで、ブタン
−ブテン留分240. Ogおよびスチレン43.6g
を入れ、攪拌しながら触媒封管を破裂させて反応を行な
った。反応熱により昇温するため、冷却しながら約60
℃に調節しつつ1時間はど反応させた。その後、メタノ
ールを加えて反応を停止させた。次に、500m Il
の水を加えて触媒を分解後、水層静置分離し油層に無水
硫酸ナトリウム50gを加え24時間放置することによ
り脱水した。次いで、この油層を20mmHgで100
℃以上にて減圧蒸留を行ない、無色透明な粘稠液体を2
05.5 g得た。
このようにして得られたスチレン−イソブチン共重合体
100重足部に600℃で2時間焼成したアルミナ(水
沢化学、[ネオビートCB−4j)10重量部を加え、
オートクレーブ中で攪拌しながら150℃にて3時間加
熱を行なった。その後、ヘキサン100重量部を加えア
ルミナを濾過 分離してヘキサンを留去し生成物98.
5重量部を得た。このものの塩素含量9体積抵抗率、比
誘電率および誘電正接についての測定結果を第1表に示
す。
100重足部に600℃で2時間焼成したアルミナ(水
沢化学、[ネオビートCB−4j)10重量部を加え、
オートクレーブ中で攪拌しながら150℃にて3時間加
熱を行なった。その後、ヘキサン100重量部を加えア
ルミナを濾過 分離してヘキサンを留去し生成物98.
5重量部を得た。このものの塩素含量9体積抵抗率、比
誘電率および誘電正接についての測定結果を第1表に示
す。
実施例2
実施例1においてアルミナ処理を得られたスチレン−イ
ソブチン共重合体100重量部にn−ヘキサン100重
量部および600℃で2時間焼成したアルミナ(実施例
1に同じ)10重量部を加え、オートクレーブ中で攪拌
しながら150℃にて1時間加熱を行なったこと以外は
実施例1と同様にして生成物99.5重量部を得た。こ
の生成物にフいての測定結果を第1表に示す。
ソブチン共重合体100重量部にn−ヘキサン100重
量部および600℃で2時間焼成したアルミナ(実施例
1に同じ)10重量部を加え、オートクレーブ中で攪拌
しながら150℃にて1時間加熱を行なったこと以外は
実施例1と同様にして生成物99.5重量部を得た。こ
の生成物にフいての測定結果を第1表に示す。
比較例1
実施例1においてアルミナ処理を行なわなかったこと以
外は実施例1と同様にしてスチレン−イソブチン共重合
体を得た。結果を第1表に示す。
外は実施例1と同様にしてスチレン−イソブチン共重合
体を得た。結果を第1表に示す。
Claims (2)
- (1)オレフィンとスチレンとをフリーデルクラフト型
触媒の存在下で共重合を行ない、オレフィン−スチレン
共重合体を製造し、次いで該共重合体を水処理および乾
燥処理した後、アルミナ処理することを特徴とするオレ
フィン−スチレン共重合体の製造法。 - (2)アルミナ処理に用いるアルミナが400〜800
℃にて焼成されたものである特許請求の範囲第1項記載
の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16283484A JPS6142515A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | オレフイン−スチレン共重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16283484A JPS6142515A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | オレフイン−スチレン共重合体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6142515A true JPS6142515A (ja) | 1986-03-01 |
Family
ID=15762127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16283484A Pending JPS6142515A (ja) | 1984-08-03 | 1984-08-03 | オレフイン−スチレン共重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6142515A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63142316A (ja) * | 1986-12-04 | 1988-06-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 半導体レ−ザアレイ光源装置及び同光源装置を使用したレ−ザスキヤナ |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5087483A (ja) * | 1973-12-06 | 1975-07-14 |
-
1984
- 1984-08-03 JP JP16283484A patent/JPS6142515A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5087483A (ja) * | 1973-12-06 | 1975-07-14 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63142316A (ja) * | 1986-12-04 | 1988-06-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 半導体レ−ザアレイ光源装置及び同光源装置を使用したレ−ザスキヤナ |
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