JPS614283A - 光起電力装置のエイジング方法 - Google Patents

光起電力装置のエイジング方法

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JPS614283A
JPS614283A JP59125522A JP12552284A JPS614283A JP S614283 A JPS614283 A JP S614283A JP 59125522 A JP59125522 A JP 59125522A JP 12552284 A JP12552284 A JP 12552284A JP S614283 A JPS614283 A JP S614283A
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aging
photovoltaic device
photoelectric conversion
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JP59125522A
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Takeo Fukatsu
深津 猛夫
Masaru Takeuchi
勝 武内
Kazuyuki Goto
一幸 後藤
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Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Denki Co Ltd
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Sanyo Electric Co Ltd
Sanyo Denki Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F71/00Manufacture or treatment of devices covered by this subclass

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 げ)産業上の利用分野 本発明は光エネルギを電気エネルギに変換する光起電力
装置のエイジング方法に関する。
(ロ)従来技術 光電変換に寄与する電子及びまたは正孔を発生する光活
性層に、非晶質シリコン、非晶質シリコンカーバイド、
非晶質シリコンゲルマニウム、非晶質シリコンナイトラ
イド、非晶質シリコンスズ等の非晶質半導体、更には斯
る非晶質半導体と微結晶半導体との混和半導体、或いは
その他の半導一体とのへテロ接合を含めて、種々の形式
の半導体を用いることが提案されている。
この様な非晶質半導体を少なくとも光活性層に含む光起
電力装置の特有の問題として特開昭59−54274号
公報等に開示された如く、強い光を長時間照射した場合
の光電変換効率の低下が存在する。
上記公開公報は非晶質半導体そのものの膜質を改良し光
照射によ・る光電変換効率の劣化問題を改善しようとし
ているが、斯i方法に於いても光電変換効率の劣化問題
を完全に解決することができない。
そこで従来にあっては特性劣化の著しい晃起電力装置を
製造後直ちに出荷するのではなく、予め強い光を照射し
て光電変換領域が斯る光照射を受けても大幅に劣化しな
い状態にするエイジングが全数に対し施されている。そ
のエイジングの具体的方法として、光起電力装置を屋外
に敷設し直接太陽光に暴す方法と、ソーラシュミレータ
等を用いて擬似太陽光を照射する方法との2種類の方法
が存在する。
然し乍ら、屋外に於いて直接太陽光に暴す方法は、当然
のことながら太陽光は昼間のみしか得られないので1日
当りに照射される時間が短かく、またその照射時間及び
照射強度も晴天、曇天、雨天等の天候、更には夏と冬等
の季節により大幅に変動するためにエイジング時間を予
め決めるには不確定要素が多く、特に雨天が続けばエイ
ジング時間は長期化する。また擬似太陽光を用いると、
天候及び季節等に関係なくしかも夜間に於いても一定の
照射強度の光照射を付与することができるものの、1つ
のソーラシュミレータに於いて光照射することのできる
光起電力装置の数(面積)に限りがあるために、一度に
多数(大面積→の光起電力装置をエイジングすることは
難しく、更には消費電力の点に於いて問題を含んでいる
。仮に、多数のソーラシュミレータを準備することがで
きたとしても、消費電力の問題を解決することはできず
、また新たにこの様な多数のソーラシュミレータを配置
醒するためのスペースを必要とした。
(/→ 発明の目的 本発明は斯る点に鑑みて為されたものであって、その目
的としたところは、太陽光或いは擬似太陽光の如き光照
射を用いることな(エイジングを施すことにある。
に)発明の構成 本発明光起電力装置のエイジング方法は、少なくとも非
晶質半導体を光活性層に含む光起電力装置を準備し、こ
の先゛起電力装置の上記光活性層に順方向電流を通電す
る構成にある。
(ホ)) 実施例 第1図は本発明エイジング方法に供せられる光起電力装
置の典型例を示し、(1)はガラス、透明セラミックス
、透明耐熱高分子フィルム等の透光性、且つ絶縁性の基
板、+21+21・・・は上記基板(1)の絶縁表面に
一定間隔を隔てて一列配置された複数の光電変換領域で
ある。上記光電変換領域+21+21・・・は、例えば
基板(1)側から、酸化スズ、酸化インジウムスズ等の
透明導電膜(31(31・・・と、その内部に半導体接
成る光活性層(41(41・・・と、該光活性層(41
(41・・・とオーミック接触するアルミニウム等の裏
面電極膜(5051・・・と、が順次積層されたミクロ
ンオーダの膜状を呈する。
各光活性層(4)(41・・・は、その内部に例えば膜
面に平行なPIN接合を形成すべく受光面側から厚み程
度の■型(真性)層及び300〜600λ 程度のN型
層が順次積層被着され、従って基板(1)及び透明導電
膜(31(31・・・を透過して光入射があると、主に
I型層に於いて自由状態の電子及び正孔が発生し、斯る
電子及び正孔は上記各層が形成するPIN接合電界に引
かれて灸透明導電膜(31+31・・・及び裏面電極膜
(51(51・・・昏こ集電され、隣接する光電変換領
域(2)(2)・・の透明導電膜+31 (31・・・
と裏面電極膜(51(51・・・との重畳により電気的
に相加された電力が取り出される。
第2図は本発明エイジング方法を説明するための模式図
、第3図はその等価回路図である。即ち、本発明エイジ
ング方法は光起電力装置の光活性層(41(41・・・
に順方向電流を通電すると、光照射と同じく光電変換効
率が劣化する現雫に基づいている。
先ず、第1図に詳記した光起電力装置(6)を多数用意
し、温度調整可能なエイジング室(7)に収納する。
収納構造は従来のように光の照射を必要としない点から
第2図の如く、2つの光起電力装置(61(61・・・
の各基板(11(11・・・を、各々の光電変換領域+
2H2+・・・が外側に配置した状態で重ね合せたもの
を一組とし、それらを複数組縦力向棹び横方向に積み重
ねている。そして、それら多数の光起電力装[(61(
61・・・はエイジング室(7)の外部に設けられた直
呼電源(8)に第3図に示す如く、各光電変換領域+2
1(21・・・に於ける光活性層(41(41・・・が
順方向となるべく接続されている。
第4図は初期値で規格化した光電変換効率とエイジング
時間との関係を示しており、曲線Aは本発明方法による
ものであり、曲線Bはソーラシュミレータを用いた従来
方法の結果である。
エイジングに供せられた光起電力装置は本発明方法及び
従来方法とも基本的に第1図のそれと同一であり、本発
明方法に於いては5QmA/dの電流密度の順方向電流
が直流電源(8)から供給された。
尚、従来方法にあってはソーラシュミレータにより赤道
直下の太陽光に指摘するAM−1、照射強度1oomW
/dの擬似太陽光が照射された。
斯る実験の結果、本発明方法の光電変換効率の劣化は従
来方法のそれに比して著しいことが判明した。例えば光
電変換効率が20%劣化するまでに要するエイジング時
間は本発明方法にあっては約20時間であるのに対し、
従来方法にあっては4      +0゛引″′″″″
″6#100時間″r″′!、!計ると、20%劣化し
た時点をエイジングの終了としたと、本発明方法あって
は従来の15の20時間で済むと云うことである。
一方、第5図は本発明方法に於ける温度依存性を調べた
ものである。即ち、多数の光起電力装置(6)+61・
・・が収納されるエイジング室(7)を空調設備により
40℃、20℃、0℃に設定して夫々に50mA/dの
順方向電流を通電せしめたところ、曲線C1°D、Hの
ように低温度の方が、劣化の進行度合は早く、従って冷
却状態に於いてエイジングを施すことによって、そのエ
イジング時間が短縮されることが判明し7た。
(へ)発明の効果 本発明エイジング方法は以上の説明から明らかな如く、
光活性層に順方向電流を通電するので、昼夜を問わず一
日中安定したエイジングを一度に多数(大面積)の光起
電力装置に対し施すことができると共にソーラシュミレ
ータ利用の従来方法の如く1旦電気エネルギを光エネル
ギに変換することなく電気エネルギの形で直接供給する
ために変換ロス及び斯る光の吸収ロスがなく消費電力の
低減が図れる。特に実施例の如く冷却状態或いは多段に
積み重ねられた状態に於いてエイジングを施せば、エイ
ジング時間のより一層の短縮孔及び大量の処理を一度に
実行することができ極めて有益である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法が施される典型的な光起電力装置の
要部を示す斜視図、第2図は本発明方法を説明するため
の模式図、第3図は第2図の電気的等価回路図、第4図
は光電変換効率とエイジング時間との関係を示す曲線図
、第5図は本発明方法に於けるエイジング時間の温度依
存性を示す曲線図である。 (2)・・・光電変換領域、(4)・・・光活性層、(
6)・・・光起電力装置、(7)・・・エイジング室、
(8)−・・直流電源。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも非晶質半導体を光活性層に含む光起電
    力装置を準備し、この光起電力装置の上記光活性層の順
    方向電流を通電することを特徴とした光起電力装置のエ
    イジング方法。
  2. (2)上記順方向電流の通電は光起電力装置の冷却状態
    に於いて施されることを特徴とした特許請求の範囲第1
    項記載の光起電力装置のエイジング方法。
  3. (3)上記順方向電流は多数の光起電力装置が多段に積
    み重ねられた状態に於いて施されることを特徴とした特
    許請求の範囲第1項若しくは第2項記載の光起電力装置
    の製造方法。
JP59125522A 1984-06-18 1984-06-18 光起電力装置のエイジング方法 Expired - Lifetime JP2547533B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009139791A1 (en) * 2008-05-12 2009-11-19 Translucent Photonics, Inc. Thin film semiconductor-on-glass solar cell devices
JP2018182293A (ja) * 2017-04-19 2018-11-15 常州時創能源科技有限公司Changzhou Shichuang Energy Technology Limited Corporation 多結晶シリコンセル内部の金属複合体の除去方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009139791A1 (en) * 2008-05-12 2009-11-19 Translucent Photonics, Inc. Thin film semiconductor-on-glass solar cell devices
JP2018182293A (ja) * 2017-04-19 2018-11-15 常州時創能源科技有限公司Changzhou Shichuang Energy Technology Limited Corporation 多結晶シリコンセル内部の金属複合体の除去方法

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