JPS6145548A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
- Publication number
- JPS6145548A JPS6145548A JP59167415A JP16741584A JPS6145548A JP S6145548 A JPS6145548 A JP S6145548A JP 59167415 A JP59167415 A JP 59167415A JP 16741584 A JP16741584 A JP 16741584A JP S6145548 A JPS6145548 A JP S6145548A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- filament
- electron beam
- filaments
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J33/00—Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
- H01J33/02—Details
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の分野）
この発明は、電子線照射装置に関する。
（先行技術の説明）
電子線照射装置は、真空中で電子を高電圧にて加速し、
この加速された電子を空気中に取り出して物体に照射す
ることにより、その物体に化学反応を起こさせるもので
ある。
この加速された電子を空気中に取り出して物体に照射す
ることにより、その物体に化学反応を起こさせるもので
ある。
第１図は、従来の走査形電子線照射装置の一例を示す概
略図である。この電子線照射装置においては、フィラメ
ント１を加熱して熱電子を引出し、これを加速管２の中
で加速し、走査管４中の走査コイル３によって電子線Ｅ
Ｂの電磁走査を行い、照射窓５を通してこれを空気中に
取り出し被照射物に照射する。尚、符号１０は加速管タ
ンクであり、内部には絶縁ガスが充填されている。
略図である。この電子線照射装置においては、フィラメ
ント１を加熱して熱電子を引出し、これを加速管２の中
で加速し、走査管４中の走査コイル３によって電子線Ｅ
Ｂの電磁走査を行い、照射窓５を通してこれを空気中に
取り出し被照射物に照射する。尚、符号１０は加速管タ
ンクであり、内部には絶縁ガスが充填されている。
第２図は、従来の非走査形電子線照射装置の一例を示す
概略図である。この電子線照射装置においては、加速チ
ャンバ７内にブッシング８によって支持された線状のフ
ィラメント１が照射幅方向Ｗに平行に配置されている。
概略図である。この電子線照射装置においては、加速チ
ャンバ７内にブッシング８によって支持された線状のフ
ィラメント１が照射幅方向Ｗに平行に配置されている。
フィラメント１は、開口を有するカソード電極１２で囲
まれている。
まれている。
フィラメント１およびこれとほぼ同電位のカソード電極
１２が高圧側になり、照射窓５および加速チャンバ７が
接地側になってその間に加速電圧が印加される。そして
、フィラメント１を加熱して熱電子を照射幅方向Ｗの全
幅に亘って引出し、これを加速電圧で加速し、上記従来
例と同様に電子線ＥＢを照射窓５を通して被照射物に照
射する。
１２が高圧側になり、照射窓５および加速チャンバ７が
接地側になってその間に加速電圧が印加される。そして
、フィラメント１を加熱して熱電子を照射幅方向Ｗの全
幅に亘って引出し、これを加速電圧で加速し、上記従来
例と同様に電子線ＥＢを照射窓５を通して被照射物に照
射する。
第３図は、従来の非走査形電子線照射装置の他の例を示
す概略図である。第２図の装置との差は、この装置にお
いては線状のフィラメント１が照射幅方向Ｗに直交して
配置されていることである。
す概略図である。第２図の装置との差は、この装置にお
いては線状のフィラメント１が照射幅方向Ｗに直交して
配置されていることである。
例えば、照射窓５の幅を約１ｍとした場合、フィラメン
ト１は約４０本必要である。
ト１は約４０本必要である。
上述した従来の２つの夕・イブの電子線照射装置には、
それぞれに利点と欠点がある。まず第１図に示した走査
形においては、スポット状の電子綿を走査するため電子
線の分布は走査波形を外部より調整することによって容
易に均一にし得るという利点があるものの、加速管２お
よび走査管４を有しているため装置の寸法が大きくなる
という欠点がある。−力筒２図ないし第３図に示した非
走査形においては、走査手段を用いなくても照射幅方向
の全幅に亘って帯状の電子線を発生できるので装置をコ
ンパクトにできるという利点があるものの、電子線の分
布はフィラメントの形状、位置で決定されるため均一に
し離いという欠点がある。
それぞれに利点と欠点がある。まず第１図に示した走査
形においては、スポット状の電子綿を走査するため電子
線の分布は走査波形を外部より調整することによって容
易に均一にし得るという利点があるものの、加速管２お
よび走査管４を有しているため装置の寸法が大きくなる
という欠点がある。−力筒２図ないし第３図に示した非
走査形においては、走査手段を用いなくても照射幅方向
の全幅に亘って帯状の電子線を発生できるので装置をコ
ンパクトにできるという利点があるものの、電子線の分
布はフィラメントの形状、位置で決定されるため均一に
し離いという欠点がある。
（発明の目的）
この発明は、コンパクトでしかも電子線分布特性の良い
電子線照射装置を提供することを目的とする。
電子線照射装置を提供することを目的とする。
（発明の構成）
この発明は、１以上のフィラメントと、フィラメントか
らの電子線を各々のフィラメントごとに走査する走査電
極と、走査電極によって走査された電子線を加速する加
速手段とを備えることを特徴とする電子線照射装置であ
る。
らの電子線を各々のフィラメントごとに走査する走査電
極と、走査電極によって走査された電子線を加速する加
速手段とを備えることを特徴とする電子線照射装置であ
る。
（実施例の説明）
第４図および第５図は、それぞれ、この発明の実施例に
係る電子線照射装置を示す概略図である。
係る電子線照射装置を示す概略図である。
以下、上述した従来の装置との相違点を主にして説明す
る。この実施例においては、フィラメントｌを１個また
は複数個使用し、フィラメント１を加熱することにより
熱電子を引出し、走査電極９によ、り各々のフィラメン
トごとに予め電子線ＥＢを走査し、その後に走査された
電子線ＥＢを加速手段で加速し、これを照射窓５を通し
て被照射物に照射する。加速手段は、第４図の例では高
圧側のフィラメント１あるいはカソード電極１２に対し
て接地側の電位に保たれる照射窓５であり、第５５図の
例では加速電圧が印加される加速管２である。フィラメ
ント１としては、従来からあるヘアピン形のフィラメン
ト、あるいはスパイラル形のフィラメント等が使用でき
る。例えば、照射窓５０幅を約１ｍとした場合、フィラ
メントｌの数は３〜４個で十分である。もちろん、照射
幅がそれよりも小さい場合は、フィラメント１は１個で
もよい。
る。この実施例においては、フィラメントｌを１個また
は複数個使用し、フィラメント１を加熱することにより
熱電子を引出し、走査電極９によ、り各々のフィラメン
トごとに予め電子線ＥＢを走査し、その後に走査された
電子線ＥＢを加速手段で加速し、これを照射窓５を通し
て被照射物に照射する。加速手段は、第４図の例では高
圧側のフィラメント１あるいはカソード電極１２に対し
て接地側の電位に保たれる照射窓５であり、第５５図の
例では加速電圧が印加される加速管２である。フィラメ
ント１としては、従来からあるヘアピン形のフィラメン
ト、あるいはスパイラル形のフィラメント等が使用でき
る。例えば、照射窓５０幅を約１ｍとした場合、フィラ
メントｌの数は３〜４個で十分である。もちろん、照射
幅がそれよりも小さい場合は、フィラメント１は１個で
もよい。
第６図は第４図ないし第５図のフィラメントおよび走査
電極回りを詳細に示す断面図であり、第７図はその引出
電極回りを示す平面図である。ここではフィラメントｌ
はヘアピン形のフィラメントであり、その前方には円筒
状のカソードカップ１３が設りられている。カソードカ
ップ１３の内部にば面部状の引出電極１４が設けられて
おり、その内部には四方に１組の走査電極９が設けられ
ている。カソードカップ１３と引出電極１４との間には
、例えば２０ＫＶ位の引出電圧が印加される。走査電極
９には、引出電極１４の電位に対して例えば数百７位の
電位差がある走査電圧が印加される。これにより電子線
ＥＢのＸ軸およびＹ軸方向の走査が行われる。
電極回りを詳細に示す断面図であり、第７図はその引出
電極回りを示す平面図である。ここではフィラメントｌ
はヘアピン形のフィラメントであり、その前方には円筒
状のカソードカップ１３が設りられている。カソードカ
ップ１３の内部にば面部状の引出電極１４が設けられて
おり、その内部には四方に１組の走査電極９が設けられ
ている。カソードカップ１３と引出電極１４との間には
、例えば２０ＫＶ位の引出電圧が印加される。走査電極
９には、引出電極１４の電位に対して例えば数百７位の
電位差がある走査電圧が印加される。これにより電子線
ＥＢのＸ軸およびＹ軸方向の走査が行われる。
上述したようなこの発明に係る電子線照射装置は、言わ
ば前述した従来の走査形と非走査形の両方の利点を併存
している。即ち、この発明に係る電子線照射装置におい
ては、走査電極により個々のフィラメントごとに電子線
を走査するため、従来のような走査管が不要になり装置
が小形・コンパクトになる。更に、走査波形を外部より
ｆｉｌすることにより電子線分布を容易に均一にするこ
とができる。また、フィラメントを複数にすれば容易に
ビーム電流を増大させて大電流器を制作することができ
る。その場合、走査幅方向にフィラメントの数を増やせ
ば、ビームの走査幅を大にできると共に、個々のフィラ
メントごとにビーム電流および走査幅を調整できるので
、電子線分布を更に均一にすることができる。また、こ
の発明では寿命の短い線形フィラメントを用いることな
く、それよりも約３〜４倍寿命の長いヘアピン形フィラ
メントやスパイラル形フィラメントを用いることができ
る。更に、第４図に示したような低電圧形（例えば３０
０ＫＶ以下）の装置では加速管も不要となるので、装置
の横進は更に簡単になる。
ば前述した従来の走査形と非走査形の両方の利点を併存
している。即ち、この発明に係る電子線照射装置におい
ては、走査電極により個々のフィラメントごとに電子線
を走査するため、従来のような走査管が不要になり装置
が小形・コンパクトになる。更に、走査波形を外部より
ｆｉｌすることにより電子線分布を容易に均一にするこ
とができる。また、フィラメントを複数にすれば容易に
ビーム電流を増大させて大電流器を制作することができ
る。その場合、走査幅方向にフィラメントの数を増やせ
ば、ビームの走査幅を大にできると共に、個々のフィラ
メントごとにビーム電流および走査幅を調整できるので
、電子線分布を更に均一にすることができる。また、こ
の発明では寿命の短い線形フィラメントを用いることな
く、それよりも約３〜４倍寿命の長いヘアピン形フィラ
メントやスパイラル形フィラメントを用いることができ
る。更に、第４図に示したような低電圧形（例えば３０
０ＫＶ以下）の装置では加速管も不要となるので、装置
の横進は更に簡単になる。
（発明の効果）
以上のように、この発明によれば、小形・コンパクトで
しかも電子線分布特性の良い電子線照射装置が得られる
。
しかも電子線分布特性の良い電子線照射装置が得られる
。
第１図は、従来の走査形電子線照射装置の一例を示す概
略図である。第２図は、従来の非走査形電子線照射装置
の一例を示す概略図である。第３図は、従来の非走査形
電子線照射装置の他の例を示す概略図である。第４図お
よび第５図は、それぞれ、この発明の実施例に係る電子
線照射装置を示す概略図である。第６図は第４図ないし
第５図のフィラメントおよび走査電極回りを詳細に示す
断面図であり、第７図はその引出電極回りを示す平面図
である。 １・・・フィラメント、２・・・加速管、５・・・照射
窓、９・・・走査電極、１２・・・カソード電極。 ＥＢ・・・電子線
略図である。第２図は、従来の非走査形電子線照射装置
の一例を示す概略図である。第３図は、従来の非走査形
電子線照射装置の他の例を示す概略図である。第４図お
よび第５図は、それぞれ、この発明の実施例に係る電子
線照射装置を示す概略図である。第６図は第４図ないし
第５図のフィラメントおよび走査電極回りを詳細に示す
断面図であり、第７図はその引出電極回りを示す平面図
である。 １・・・フィラメント、２・・・加速管、５・・・照射
窓、９・・・走査電極、１２・・・カソード電極。 ＥＢ・・・電子線
Claims (1)
- （１）１以上のフィラメントと、フィラメントからの電
子線を各々のフィラメントごとに走査する走査電極と、
走査電極によって走査された電子線を加速する加速手段
とを備える電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59167415A JPS6145548A (ja) | 1984-08-09 | 1984-08-09 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59167415A JPS6145548A (ja) | 1984-08-09 | 1984-08-09 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6145548A true JPS6145548A (ja) | 1986-03-05 |
Family
ID=15849270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59167415A Pending JPS6145548A (ja) | 1984-08-09 | 1984-08-09 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6145548A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62290053A (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-16 | Canon Inc | 電子放出装置 |
-
1984
- 1984-08-09 JP JP59167415A patent/JPS6145548A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62290053A (ja) * | 1986-06-10 | 1987-12-16 | Canon Inc | 電子放出装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3786359A (en) | Ion accelerator and ion species selector | |
| JP3121157B2 (ja) | マイクロトロン電子加速器 | |
| US8592779B2 (en) | Ionizing device | |
| US3619684A (en) | Ion source | |
| KR0158875B1 (ko) | 전자비임 여기(勵起) 이온 원(源) | |
| US3783325A (en) | Field effect electron gun having at least a million emitting fibers per square centimeter | |
| CA1059656A (en) | Charged particle beam apparatus | |
| CA2011644C (en) | Vacuum switch apparatus | |
| US9928985B2 (en) | Robust emitter for minimizing damage from ion bombardment | |
| JPS6145548A (ja) | 電子線照射装置 | |
| US4288716A (en) | Ion source having improved cathode | |
| US2697788A (en) | Ion source | |
| US3731089A (en) | Mass spectrometer ion source having means for rapidly expelling ions from the source and method of operation | |
| US3022933A (en) | Multiple electron beam ion pump and source | |
| US3596091A (en) | Induced electron emission spectrometer having a unipotential sample chamber | |
| JP2713692B2 (ja) | イオン打込み装置 | |
| JPH07169426A (ja) | イオンビーム発生装置 | |
| US2931903A (en) | Acceleration and application of high intensity electron beams for radiation processing | |
| JPH06325710A (ja) | マイクロ波イオン源及びイオン打ち込み装置 | |
| JPS594819B2 (ja) | イオン源 | |
| JPH0676775A (ja) | イオン打込み方法 | |
| CN114188211B (zh) | 对于仪器到仪器可重复性的发射电流测量 | |
| US3260877A (en) | Multiple-beam injector for magnetic induction accelerators | |
| JP3962965B2 (ja) | イオン源及び核融合炉用中性粒子ビーム入射装置並びにイオンビームプロセス装置 | |
| JPH0665200B2 (ja) | 高速原子線源装置 |