JPS6145550A - 超高真空装置 - Google Patents
超高真空装置Info
- Publication number
- JPS6145550A JPS6145550A JP60172311A JP17231185A JPS6145550A JP S6145550 A JPS6145550 A JP S6145550A JP 60172311 A JP60172311 A JP 60172311A JP 17231185 A JP17231185 A JP 17231185A JP S6145550 A JPS6145550 A JP S6145550A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- flange
- chamber
- cylinder
- bellows
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、超高真空を必要とする装置に関し、特に電子
顕微鏡の電子銃のように超高真空を必要とし、かつ電子
源の交換機能をも要求される真空装置に関する。
顕微鏡の電子銃のように超高真空を必要とし、かつ電子
源の交換機能をも要求される真空装置に関する。
以後の説明では、超高真空を必要とする装置として、電
界放射型の電子顕微鏡用の電子銃の場合を例にとって述
べる。第１図は、ごく一般の電界放射型電子銃の構成を
示したものである。電界放射電子銃は１０’−８Ｐａ程
度の超高真空内でのみ安定な電子を放射する。例えばタ
ングステン単結晶のいる０フランジ１は、排気口３をも
った円筒２の上端に軟金属等で作られたガスケット１０
を介しで、強く締付は固定される（図ではポル、トナッ
トを省略しである）。円筒の下端は同様に電子顕微鏡の
レンズ部に接続される。第１陽極５と第２陽極６とがチ
ップ部組８に対向して配置され、両者は硝子の柱４で支
えられている。チップ部組８、第１陽極５には高電圧が
印加できるようにリード端９と１１が真空外に設けられ
ている。例えば２０ＫＶの電子ビームを得るには、チッ
プ部組８随 に魚篭Ｊ２０ＫＶを、第１陽極には負電圧１５ＫＶ前後
を印加する。第１陽極の電圧値は必要とする電子流量で
変化する。チップ部組８は、長時厚 開側用すると電子放射が少く鋺ったり、また放電 。
界放射型の電子顕微鏡用の電子銃の場合を例にとって述
べる。第１図は、ごく一般の電界放射型電子銃の構成を
示したものである。電界放射電子銃は１０’−８Ｐａ程
度の超高真空内でのみ安定な電子を放射する。例えばタ
ングステン単結晶のいる０フランジ１は、排気口３をも
った円筒２の上端に軟金属等で作られたガスケット１０
を介しで、強く締付は固定される（図ではポル、トナッ
トを省略しである）。円筒の下端は同様に電子顕微鏡の
レンズ部に接続される。第１陽極５と第２陽極６とがチ
ップ部組８に対向して配置され、両者は硝子の柱４で支
えられている。チップ部組８、第１陽極５には高電圧が
印加できるようにリード端９と１１が真空外に設けられ
ている。例えば２０ＫＶの電子ビームを得るには、チッ
プ部組８随 に魚篭Ｊ２０ＫＶを、第１陽極には負電圧１５ＫＶ前後
を印加する。第１陽極の電圧値は必要とする電子流量で
変化する。チップ部組８は、長時厚 開側用すると電子放射が少く鋺ったり、また放電 。
等により針が破損したりする。このためフランジ１を円
筒２と分離し、チップ部組８を交換する０この交換作業
ではカスケラト１０は高価であること、またこのフラン
ジの締付は不良により超高真空が（４？られない作業不
良等、超高真空であるがための困難な問題をもっている
。
筒２と分離し、チップ部組８を交換する０この交換作業
ではカスケラト１０は高価であること、またこのフラン
ジの締付は不良により超高真空が（４？られない作業不
良等、超高真空であるがための困難な問題をもっている
。
なお、この種の装置として関連するものには例えば特Ｉ
Ｍ１１ｆｆｉ４８−５２１７０号等が挙げられる。
Ｍ１１ｆｆｉ４８−５２１７０号等が挙げられる。
本発明（ｊ、上記の点に属目してなされたものであり、
特殊で高価なガスゲットを使用することなく、また作業
不良等を生じることのない超高真空装置を提供すること
を目的とする。
特殊で高価なガスゲットを使用することなく、また作業
不良等を生じることのない超高真空装置を提供すること
を目的とする。
上記目的を達成するための本発明ｌこおいては。
フランジを装着するこにより、真空シールの周囲部分が
真空容器本体の真空と差動排気を形成するように超高真
空装置を横取したことを特徴としている。
真空容器本体の真空と差動排気を形成するように超高真
空装置を横取したことを特徴としている。
以下、本発明を実施例を参照して詳細に説明する。第２
図は本発明の一実施例を示す。この実施例ではチップ部
組８を含む空間（電子源室）の排気と第１陽極１３と給
２陽極３７とで作る空間（中間室）の排気は分離されて
いる。この雨空間は電子ビームが通過する第１陽極の開
口３３でのみつながっている。この中間室は電子銃下部
に接続される比較的低真空（１０−２〜ＩＱ−５Ｐａ）
の電子ビーム集束部や試料室の緩衝部になっている。
図は本発明の一実施例を示す。この実施例ではチップ部
組８を含む空間（電子源室）の排気と第１陽極１３と給
２陽極３７とで作る空間（中間室）の排気は分離されて
いる。この雨空間は電子ビームが通過する第１陽極の開
口３３でのみつながっている。この中間室は電子銃下部
に接続される比較的低真空（１０−２〜ＩＱ−５Ｐａ）
の電子ビーム集束部や試料室の緩衝部になっている。
この実施例では、フランジ２５と円筒３０との接続部の
空間（フランジ室）は電子源室とはベローズ２０で分離
され、真空排管３１で中間室に接続されている。ベロー
ズ２０は高圧硝子１８を支持している筒３７に固定され
でいる。フランジ２５を正しい位置に装着するどベロー
ズ２０の先端についたリング１９は円筒３０内に作られ
た隔壁３８に機械的に接触しζ電子源室とフランジ室と
を真空的に分離する。高圧硝子１８を支持している筒３
７はベローズ２１を介してｅ勤フランジ２３に溶接され
ている。この移動フランジ２３は調整ネジ２４で動θ）
すことができ、電子源の軸調整を行う。また、￥６吻フ
ランジ２３は、上下ネジ本実施例では、ガスケット２７
に金属を使用した例を示したが、ゴム製のガスケット等
に代ることにより容易でかつ安価にすることもできる。
空間（フランジ室）は電子源室とはベローズ２０で分離
され、真空排管３１で中間室に接続されている。ベロー
ズ２０は高圧硝子１８を支持している筒３７に固定され
でいる。フランジ２５を正しい位置に装着するどベロー
ズ２０の先端についたリング１９は円筒３０内に作られ
た隔壁３８に機械的に接触しζ電子源室とフランジ室と
を真空的に分離する。高圧硝子１８を支持している筒３
７はベローズ２１を介してｅ勤フランジ２３に溶接され
ている。この移動フランジ２３は調整ネジ２４で動θ）
すことができ、電子源の軸調整を行う。また、￥６吻フ
ランジ２３は、上下ネジ本実施例では、ガスケット２７
に金属を使用した例を示したが、ゴム製のガスケット等
に代ることにより容易でかつ安価にすることもできる。
また、本実施例で（ま、第１陽極１３は円筒状になって
いる。こｎはヒーター３９により加熱脱ガスした部分以
外を放射電子（陽極の底で散乱した電子をも含む）が衝
撃することを防ぐためである。ヒーター３９にはリード
端子１７．１８を通して通電加熱される。このリード端
子１７．１８は第１陽極に電圧を印加する端子をも兼ね
ている。第１陽極１３は円筒状の絶縁硝子１２に固定さ
れている。こイ１は真空の隔壁になるとともに高圧絶縁
、ヒーター３９の効率をあげるための熱絶縁になってい
る。電子源室は排気口２８と通じて超高真空に排気され
、中間室は排気口２９を通して真空排気される。中間室
側には通電、ソープションによる予備排気系が接続され
ている。
いる。こｎはヒーター３９により加熱脱ガスした部分以
外を放射電子（陽極の底で散乱した電子をも含む）が衝
撃することを防ぐためである。ヒーター３９にはリード
端子１７．１８を通して通電加熱される。このリード端
子１７．１８は第１陽極に電圧を印加する端子をも兼ね
ている。第１陽極１３は円筒状の絶縁硝子１２に固定さ
れている。こイ１は真空の隔壁になるとともに高圧絶縁
、ヒーター３９の効率をあげるための熱絶縁になってい
る。電子源室は排気口２８と通じて超高真空に排気され
、中間室は排気口２９を通して真空排気される。中間室
側には通電、ソープションによる予備排気系が接続され
ている。
以上読切したごとく、本発明によれば、より超高真空を
得らｎるうえに作業不良等による不充分な真空到達度が
皆無となり、またより安価なガスケットの採用も可能と
なり、電界放射型の電子銃等に用いて工業的な価値は大
きい。
得らｎるうえに作業不良等による不充分な真空到達度が
皆無となり、またより安価なガスケットの採用も可能と
なり、電界放射型の電子銃等に用いて工業的な価値は大
きい。
第１図は従来の構造を示す断面図、第２図は本発明の一
実施例を示す断面図である。 図中、８・・・チップ部組、１３−・・第１陽極、２０
゜２１・・・ベローズ、２３・・・移動フランジ、２５
・・・フランジ、２８．２９・・・排気口。 代理人 弁理士 小 川 勝 男 第 １ 図 第 Ｚ 区
実施例を示す断面図である。 図中、８・・・チップ部組、１３−・・第１陽極、２０
゜２１・・・ベローズ、２３・・・移動フランジ、２５
・・・フランジ、２８．２９・・・排気口。 代理人 弁理士 小 川 勝 男 第 １ 図 第 Ｚ 区
Claims (1)
- １、超高真空を必要とする超高真空装置において、フラ
ンジを装着することにより、真空シールの周囲部分が真
空容器本体の真空と差動排気を形成する如く構成したこ
とを特徴とする超高真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60172311A JPS6145550A (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 | 超高真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60172311A JPS6145550A (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 | 超高真空装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6145550A true JPS6145550A (ja) | 1986-03-05 |
Family
ID=15939561
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60172311A Pending JPS6145550A (ja) | 1985-08-07 | 1985-08-07 | 超高真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6145550A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000016372A1 (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-23 | Japan Science And Technology Corporation | High energy electron diffraction apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4852170A (ja) * | 1971-10-29 | 1973-07-21 | ||
| JPS54136170A (en) * | 1978-04-14 | 1979-10-23 | Hitachi Ltd | Field radiation electronic gun |
-
1985
- 1985-08-07 JP JP60172311A patent/JPS6145550A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4852170A (ja) * | 1971-10-29 | 1973-07-21 | ||
| JPS54136170A (en) * | 1978-04-14 | 1979-10-23 | Hitachi Ltd | Field radiation electronic gun |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000016372A1 (en) * | 1998-09-11 | 2000-03-23 | Japan Science And Technology Corporation | High energy electron diffraction apparatus |
| US6677581B1 (en) | 1998-09-11 | 2004-01-13 | Japan Science And Technology Corporation | High energy electron diffraction apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1355365A (en) | Electron guns | |
| EP0411043B1 (en) | Encapsulated high brightness electron beam source and system therefor | |
| US11923166B2 (en) | Guard electrode and field emission device | |
| US2453003A (en) | Television projection tube | |
| US4544845A (en) | Electron gun with a field emission cathode and a magnetic lens | |
| US3794872A (en) | Moving target spring loaded x-ray tube | |
| JPS6145550A (ja) | 超高真空装置 | |
| JP3766763B2 (ja) | 電界放射電子銃 | |
| US4057746A (en) | Demountable high power electron beam gun | |
| US11443912B2 (en) | High voltage vacuum feedthrough | |
| US5150001A (en) | Field emission electron gun and method having complementary passive and active vacuum pumping | |
| US3286187A (en) | Ion source utilizing a spherically converging electric field | |
| JP7502359B2 (ja) | 荷電粒子線源および荷電粒子線装置 | |
| US3099762A (en) | Cathode ray tube using replaceable cathode | |
| GB1291221A (en) | Electron probe forming system | |
| US4831308A (en) | Ion beam gun wherein the needle emitter is surrounded by a tubular nozzle so as to produce an increased ion beam | |
| JPS588104B2 (ja) | 加熱、溶解及び乾燥のための電子銃 | |
| US2889481A (en) | Gaseous discharge devices | |
| US3141605A (en) | Magnetron type getter ion pump | |
| JPS63202832A (ja) | 電子銃 | |
| US3614510A (en) | Nonthermionic cathode discharge devices | |
| US5550430A (en) | Gas discharge closing switch with unitary ceramic housing | |
| RU2792844C1 (ru) | Импульсная рентгеновская трубка | |
| JP3369020B2 (ja) | 超小型走査電子顕微鏡 | |
| US2420561A (en) | Electron microscope structure |