JPS6146088A - 導体配線を備えるセラミツク基板の製法 - Google Patents
導体配線を備えるセラミツク基板の製法Info
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- JPS6146088A JPS6146088A JP60157624A JP15762485A JPS6146088A JP S6146088 A JPS6146088 A JP S6146088A JP 60157624 A JP60157624 A JP 60157624A JP 15762485 A JP15762485 A JP 15762485A JP S6146088 A JPS6146088 A JP S6146088A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0306—Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本願発明は次に述べる問題点の解決を目的とする。
(産業上の利用分野) この発明はセラミック基板に間
する。
する。
(従来の技術) 従来のセラミック基板にあって酸化ア
ルミニウムの量に対する2酸化硅素の量の比率が小さい
ものは、製造時、焼結に高温度が必要であるという問題
点があった。また抗折強度が弱かフたり、電気絶縁性が
悪いという問題点もあつた・ (発明が解決しようとする問題点) この発明は上記従
来の問題点を除き、抗折強度が高く更に電気絶縁性が高
く、しかも製造時には比較的低温で容易に焼結すること
のできる組成のセラミック基板を提供しようとするもの
である。
ルミニウムの量に対する2酸化硅素の量の比率が小さい
ものは、製造時、焼結に高温度が必要であるという問題
点があった。また抗折強度が弱かフたり、電気絶縁性が
悪いという問題点もあつた・ (発明が解決しようとする問題点) この発明は上記従
来の問題点を除き、抗折強度が高く更に電気絶縁性が高
く、しかも製造時には比較的低温で容易に焼結すること
のできる組成のセラミック基板を提供しようとするもの
である。
本願発明の構成は次の通りである。
(問題点を解決する為の手段) 本願発明は前記請求の
範囲記載の通りの手段を講じたものである。
範囲記載の通りの手段を講じたものである。
(実施例)
(1)先ず酸化アルミニウムA1□o、(20〜6ON
量%)、酸化ホウ素BzOs(3〜15重量%)、2酸
化硅素5iOz (20〜70重量%)、アルカリ金
属酸化物(1〜5重量%)、■族元素酸化物(0,01
〜0.5重量%)の組成範囲で総量が100ffij1
%となるように選んだセラミック組成物(粉末)をボー
ルミルを用いて24時間、乾式にて粉砕混合する。
量%)、酸化ホウ素BzOs(3〜15重量%)、2酸
化硅素5iOz (20〜70重量%)、アルカリ金
属酸化物(1〜5重量%)、■族元素酸化物(0,01
〜0.5重量%)の組成範囲で総量が100ffij1
%となるように選んだセラミック組成物(粉末)をボー
ルミルを用いて24時間、乾式にて粉砕混合する。
(2)粉砕したセラミック粉末(組成物)に対し水(純
水)(15〜40重量%)と分散剤(合成ポリカルボン
酸塩:例えばアロンA−6114(東亜合成化学製))
(0,1〜10重量%)をそれぞれの範囲内において添
加し、ボールミルで2〜3時間混練する。
水)(15〜40重量%)と分散剤(合成ポリカルボン
酸塩:例えばアロンA−6114(東亜合成化学製))
(0,1〜10重量%)をそれぞれの範囲内において添
加し、ボールミルで2〜3時間混練する。
(3)次に混練中のものに有機バインダー(アクリル系
水溶性樹脂:例えばアロンAS−1600(東亜合成化
学製))(10〜25瓜量%)を添加し、その後再び2
〜3時間混練する。
水溶性樹脂:例えばアロンAS−1600(東亜合成化
学製))(10〜25瓜量%)を添加し、その後再び2
〜3時間混練する。
(4)さらに混練したものに消泡剤(0,1〜5[41
%)を添加し再び2〜3時間混練してスラリーにする。
%)を添加し再び2〜3時間混練してスラリーにする。
(5)このスラリーを真空脱泡(30分〜1時間)した
あと約10〜20時間放置する。
あと約10〜20時間放置する。
(6)次にスラリーをドクタブレード法によってフィル
ム上に流し200μm〜500μm程度の均一の厚さの
生シート(グリーンシートとも呼ぶ)にしたあと、自然
乾燥(室内放置20℃10〜20時間)し、さらに加熱
乾燥(40℃、60’C。
ム上に流し200μm〜500μm程度の均一の厚さの
生シート(グリーンシートとも呼ぶ)にしたあと、自然
乾燥(室内放置20℃10〜20時間)し、さらに加熱
乾燥(40℃、60’C。
80°C各30分〜1時間)する。・・・熱風乾燥。
(7)次にグリーンシートを所要寸法例えば5゜mm
X B Ommの矩形に打抜き(例えば打抜型、ポンチ
、ダイを利用)、スルホールの必要な層にはスルホール
をあける。
X B Ommの矩形に打抜き(例えば打抜型、ポンチ
、ダイを利用)、スルホールの必要な層にはスルホール
をあける。
(8)打抜いたブリーフシート上へPt、Au−P t
SAu−Pd−P tSAg−Pd、Au−Pd、Pd
、AuSAg−Au、Ag−CIJ。
SAu−Pd−P tSAg−Pd、Au−Pd、Pd
、AuSAg−Au、Ag−CIJ。
Ni、Cr等を主成分とした導体ペーストをスクリーン
印刷によ)て所定の位置に印刷し、またスルホールにも
導体ペーストを注入する。印刷したグリーンシートは加
熱乾燥する。(例えば遠赤外線により120℃にて10
〜20分間)(9)乾燥したグリーンシートが所定の回
路を形成しかつ基板の厚さが所定の厚みになるようにシ
ートを複数枚積層し、これら相互間を加圧接着(圧力1
0〜60Kg/■2、加圧時間10〜30秒)し、その
あとカッタにて所定形状に切断する。なお、上記の加圧
接着はシートが柔軟性を保持する状態において行なうこ
とが必要であり、一般には印刷後すぐに行なう。尚湿度
の管理された室に一定時間放置した後行なうか、スプレ
ー等により水分を吹付けて行なうようにしてもよい。
印刷によ)て所定の位置に印刷し、またスルホールにも
導体ペーストを注入する。印刷したグリーンシートは加
熱乾燥する。(例えば遠赤外線により120℃にて10
〜20分間)(9)乾燥したグリーンシートが所定の回
路を形成しかつ基板の厚さが所定の厚みになるようにシ
ートを複数枚積層し、これら相互間を加圧接着(圧力1
0〜60Kg/■2、加圧時間10〜30秒)し、その
あとカッタにて所定形状に切断する。なお、上記の加圧
接着はシートが柔軟性を保持する状態において行なうこ
とが必要であり、一般には印刷後すぐに行なう。尚湿度
の管理された室に一定時間放置した後行なうか、スプレ
ー等により水分を吹付けて行なうようにしてもよい。
上記加圧接着の場合、上記シートは、親水性基を有する
バインダーが用いられている為に常に水分を含んでいる
から、上記重合状のシートに加圧力を加えるとその含ま
れている水分によってシート相互の重合面が糊状になる
。その結果、その糊状となったものによってシート相互
は元から一材であったかの如く接着する。
バインダーが用いられている為に常に水分を含んでいる
から、上記重合状のシートに加圧力を加えるとその含ま
れている水分によってシート相互の重合面が糊状になる
。その結果、その糊状となったものによってシート相互
は元から一材であったかの如く接着する。
(10)積層したグリーンシートを電気炉に入れ、空気
中(酸化雰囲気中)にて800〜1000℃の温度範1
m(例えば850℃)で1時間焼結する。
中(酸化雰囲気中)にて800〜1000℃の温度範1
m(例えば850℃)で1時間焼結する。
その焼成のパターンは、例えば、250〜b〜1000
℃まで昇温させ、次にその温度で1時間保持して焼結さ
せ、その後2時間程の時間をかけて常温まで冷却する。
℃まで昇温させ、次にその温度で1時間保持して焼結さ
せ、その後2時間程の時間をかけて常温まで冷却する。
なお、グリーンシートに含まれるバインダーは上記焼成
過程の昇温時に脱バインダーされる。
過程の昇温時に脱バインダーされる。
(11)上記の如き焼成の結果、多層セラミック基板が
完成する。
完成する。
次にセラミック組成物およびバインダー等の夫々につい
て更に詳細に説明する。
て更に詳細に説明する。
セラミック組成物はいわゆるガラス−セラミックと称さ
れるもので、低温での焼結を可能とするため酸化アルミ
ニウム(At203)に対する2酸化硅素(Sio2)
の比率を高めるようにした組成であり、ざらに低温での
焼結を目的としてアルカリ土類金属(酸化す・トリウム
Na2O、酸化カリウムに2Q、酸化マグネシムMgO
1酸化力ルシユウムCaO1)をごくわずか使用してい
る。
れるもので、低温での焼結を可能とするため酸化アルミ
ニウム(At203)に対する2酸化硅素(Sio2)
の比率を高めるようにした組成であり、ざらに低温での
焼結を目的としてアルカリ土類金属(酸化す・トリウム
Na2O、酸化カリウムに2Q、酸化マグネシムMgO
1酸化力ルシユウムCaO1)をごくわずか使用してい
る。
なお、セラミックの組成において、
(a)アルミナ(酸化アルミニウムAuto3’)が酸
化物換算で20重量%未満では抗折強度が低下する外、
絶縁性等の電気的特性が悪くなり、640皿量%を;え
るとi QQQ℃以下では焼結できない。
化物換算で20重量%未満では抗折強度が低下する外、
絶縁性等の電気的特性が悪くなり、640皿量%を;え
るとi QQQ℃以下では焼結できない。
(b)2酸化硅素(S i 02L )が20重置火未
満では1000℃以下でのセラミックの焼結が困難であ
り、70重量%を越えると抗折強度が低くなる。
満では1000℃以下でのセラミックの焼結が困難であ
り、70重量%を越えると抗折強度が低くなる。
(c)酸化ホウ素(B203)が3重回%未満ては10
00°C以下での焼結が困難であり、16重量%を越え
ると焼結時の膨張係数が大きくなって好ましくない。
゛ (d)アルカリ土類金属が0.1ffi量%未満ては1
000℃での焼結が不可能であり、6重量%を越えると
電気的特性(絶縁抵抗、誘電体正接)が低下する。
00°C以下での焼結が困難であり、16重量%を越え
ると焼結時の膨張係数が大きくなって好ましくない。
゛ (d)アルカリ土類金属が0.1ffi量%未満ては1
000℃での焼結が不可能であり、6重量%を越えると
電気的特性(絶縁抵抗、誘電体正接)が低下する。
(e)■族金属(酸化鉄FezO3、酸化ニッケルNi
01酸化ルチウムRu0z、酸化ロジウムRhz 02
)が0.01重量%以下では抗折力などの物理特性が
低下し、0.5!ffi%を越えると絶縁抵抗など電気
的特性が悪くなる。
01酸化ルチウムRu0z、酸化ロジウムRhz 02
)が0.01重量%以下では抗折力などの物理特性が
低下し、0.5!ffi%を越えると絶縁抵抗など電気
的特性が悪くなる。
以上の組成物にして始めて電気的ならびに機械的に満足
な性能を有し実用に耐えしかも膨張率が小さく(シリコ
ーンに接近した)かつ1000℃以下の低温にて緻密に
焼結できるセラミック基板を得ることができる。またこ
れにより、導体としてAg、Au、Pd、Pt、CuS
Ni等の単体およびこれらの合金など低抵抗の導体材料
が使用できるため、配線が一段と微細化でき、実装密度
を高めることができる。
な性能を有し実用に耐えしかも膨張率が小さく(シリコ
ーンに接近した)かつ1000℃以下の低温にて緻密に
焼結できるセラミック基板を得ることができる。またこ
れにより、導体としてAg、Au、Pd、Pt、CuS
Ni等の単体およびこれらの合金など低抵抗の導体材料
が使用できるため、配線が一段と微細化でき、実装密度
を高めることができる。
また導体ペーストとセラミック組成物の焼結反応が同時
に起こり焼結時の収縮が縦横、厚み方向で生じるように
自由な状態で焼成できるためボイドやピンホールの発生
のない緻密なセラミック基板が得られる。なお上記にお
いて使用する導電ペーストとしては、焼結時に導電ペー
ストに含まれるフリット(ガラス粉末)がセラミック層
と反応して境界内に沈み込まないように、導電性の金属
微粉末と溶剤と有機バインダーとからなるいわゆるフリ
ットレスタイプの導電ペーストを使用することが預まし
いく導体配線の抵抗値を高めないようにすると同時に半
田付ができるようにするため)。
に起こり焼結時の収縮が縦横、厚み方向で生じるように
自由な状態で焼成できるためボイドやピンホールの発生
のない緻密なセラミック基板が得られる。なお上記にお
いて使用する導電ペーストとしては、焼結時に導電ペー
ストに含まれるフリット(ガラス粉末)がセラミック層
と反応して境界内に沈み込まないように、導電性の金属
微粉末と溶剤と有機バインダーとからなるいわゆるフリ
ットレスタイプの導電ペーストを使用することが預まし
いく導体配線の抵抗値を高めないようにすると同時に半
田付ができるようにするため)。
次に有機バインダー、水(純水)、消泡剤について説明
する。
する。
上記有機バインダーとしては水溶性アクリル系樹脂を使
用する。この水溶性アクリル系樹脂は下記の分子構造か
らなる。
用する。この水溶性アクリル系樹脂は下記の分子構造か
らなる。
疎水性基 1 親水性基
?
−CH−CH−1−CH,CH−
1、1
区
C0ORI Coo (NH)
このバインダーを水と共にセラミック粉末に混ぜて混練
すれば、親水性基のアクリル酸アンモンがあるためこれ
が水と結合してバインダーが水に溶解し、良好なスラリ
ーを得ることができる。
すれば、親水性基のアクリル酸アンモンがあるためこれ
が水と結合してバインダーが水に溶解し、良好なスラリ
ーを得ることができる。
また上記のスラリーから造られたグリーンシートにあっ
ては、上記製造工程において例えばグリーンシート成形
後、あるいはスクリーン印刷後の加熱乾燥されるときに
その加熱によってアンモニア(N、H3)が放出される
。
ては、上記製造工程において例えばグリーンシート成形
後、あるいはスクリーン印刷後の加熱乾燥されるときに
その加熱によってアンモニア(N、H3)が放出される
。
−CH−CH−−1−−CH2−CH−COORI
C0OH ■ 1 (アクリル酸) ■ しかしシート中には依然として親水性基のアクリル酸(
cooH)が残るため、これが空気中(室内)の水分と
結合してグリーンシートの柔軟性を保持することができ
る。つまり、湿度を一定に管理してグリーンシートを保
存するようにすれは長期間放置していてもいつでも使用
することが可能となる。
C0OH ■ 1 (アクリル酸) ■ しかしシート中には依然として親水性基のアクリル酸(
cooH)が残るため、これが空気中(室内)の水分と
結合してグリーンシートの柔軟性を保持することができ
る。つまり、湿度を一定に管理してグリーンシートを保
存するようにすれは長期間放置していてもいつでも使用
することが可能となる。
尚上記バインダーを含んだグリーンシートを長期間放置
して極度に乾燥させたり、打抜き等の製造工程において
不良にした場合には、これらのグリーンシートを細かく
切断し、アンモニア水てPHを調整し、ン昆練すると、
水に溶解できるため再度スラリーとして使用が可能とな
る。
して極度に乾燥させたり、打抜き等の製造工程において
不良にした場合には、これらのグリーンシートを細かく
切断し、アンモニア水てPHを調整し、ン昆練すると、
水に溶解できるため再度スラリーとして使用が可能とな
る。
次に、上記のバインダーはその熱分解特性が、昇温スピ
ードが5℃/minの条件によって2時間加熱したとき
つまり600℃に達したときほぼ100%の熱分解状態
となる特注のため、上記積層シートの焼成時の昇温過程
(5℃/min、3時間)において完全に脱バインダー
が行なえる。
ードが5℃/minの条件によって2時間加熱したとき
つまり600℃に達したときほぼ100%の熱分解状態
となる特注のため、上記積層シートの焼成時の昇温過程
(5℃/min、3時間)において完全に脱バインダー
が行なえる。
なお、上記バインダーが10ffffi%未溝では焼結
時にクラックが発生して良好なシートができない。
時にクラックが発生して良好なシートができない。
一方25重量%を越えると柔軟性がなくなり、ハンドリ
ングが悪くなり、また積層時の加圧接着が不充分となる
。
ングが悪くなり、また積層時の加圧接着が不充分となる
。
次に、水(純水)が15重量%未満ではスラリーの粘度
が高くて充分混練できない。また40重量%を越えると
グリーンシートの乾燥に長い時間を必要とする。
が高くて充分混練できない。また40重量%を越えると
グリーンシートの乾燥に長い時間を必要とする。
次に、分散剤が0.1filt%未満では粘度(性)が
高すぎて水を多く必要とする。また2重量%を越えると
シートにクラックが生じ易くなる次に、消泡剤が0.1
重量%未満では泡が消えず、セラミックの焼結体に気孔
(ボイド)を発生させる。1.0ffiffi%を越え
るとシートの表面がなめらかでなくなる。
高すぎて水を多く必要とする。また2重量%を越えると
シートにクラックが生じ易くなる次に、消泡剤が0.1
重量%未満では泡が消えず、セラミックの焼結体に気孔
(ボイド)を発生させる。1.0ffiffi%を越え
るとシートの表面がなめらかでなくなる。
(発明の効果) 以上のようにこの発明のセラミック基
板は、酸化アルミニウム20〜60重量%、酸化ホウ素
3〜15重量%、2酸化硅素20〜70重量%、アルカ
リ金属酸化物1〜5重量%、■族元素酸化物0.01〜
0.5重量%の組成範囲で総量が100重ffi%とな
るように進んだセラミック組成物から成るものであるか
ら、抗折強度が高くて、破損し難く、また電気の絶縁性
が非密に良好であるという特長がある。
板は、酸化アルミニウム20〜60重量%、酸化ホウ素
3〜15重量%、2酸化硅素20〜70重量%、アルカ
リ金属酸化物1〜5重量%、■族元素酸化物0.01〜
0.5重量%の組成範囲で総量が100重ffi%とな
るように進んだセラミック組成物から成るものであるか
ら、抗折強度が高くて、破損し難く、また電気の絶縁性
が非密に良好であるという特長がある。
しかも上記のような組成の基板は、それを製造する場合
において焼結させる場合、比較的低温度で容易に焼結さ
せられる製造上の効果も有する。
において焼結させる場合、比較的低温度で容易に焼結さ
せられる製造上の効果も有する。
Claims (1)
- 酸化アルミニウム20〜60重量%、酸化ホウ素3〜1
5重量%、2酸化硅素20〜70重量%、アルカリ金属
酸化物1〜5重量%、VIII族元素酸化物0.01〜0.
5重量%の組成範囲で総量が100重量%となるように
選んだセラミック組成物から成るセラミック基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60157624A JPS6146088A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 導体配線を備えるセラミツク基板の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60157624A JPS6146088A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 導体配線を備えるセラミツク基板の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6146088A true JPS6146088A (ja) | 1986-03-06 |
| JPH0431196B2 JPH0431196B2 (ja) | 1992-05-25 |
Family
ID=15653795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60157624A Granted JPS6146088A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 導体配線を備えるセラミツク基板の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6146088A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62198509U (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-17 |
-
1985
- 1985-07-17 JP JP60157624A patent/JPS6146088A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62198509U (ja) * | 1986-06-04 | 1987-12-17 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0431196B2 (ja) | 1992-05-25 |
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