JPS6146822B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6146822B2 JPS6146822B2 JP9281677A JP9281677A JPS6146822B2 JP S6146822 B2 JPS6146822 B2 JP S6146822B2 JP 9281677 A JP9281677 A JP 9281677A JP 9281677 A JP9281677 A JP 9281677A JP S6146822 B2 JPS6146822 B2 JP S6146822B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- emulsion
- photomask
- glass substrate
- baking
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、集積回路製造の際のホトエツチング
などで使用されるエマルジヨンホトマスクの製造
法に関する。
などで使用されるエマルジヨンホトマスクの製造
法に関する。
エマルジヨンホトマスクは、一般に塩化銀
（AgCl）などの感材をゼラチンに分散させてなる
感光乳剤をガラス基板上に塗布して乾板とし、所
望パターンを持つマスクを当てて露光し、次いで
現像して製作される。即ち第１図に示すように所
望のパターンを持つマスク６を乾板５に密着さ
せ、露光すると、該乾板の乳剤の照射を受けた部
分２が光反応（内部光電効果又は電離作用）を生
じ、次の現像処理において該乳剤部分は黒化す
る。非露光の乳剤部分３には何ら変化は起らな
い。次いで定着、水洗、乾燥処理を順次行ない、
ガラス基板１上に黒化部２を有するホトマスクを
得る。
（AgCl）などの感材をゼラチンに分散させてなる
感光乳剤をガラス基板上に塗布して乾板とし、所
望パターンを持つマスクを当てて露光し、次いで
現像して製作される。即ち第１図に示すように所
望のパターンを持つマスク６を乾板５に密着さ
せ、露光すると、該乾板の乳剤の照射を受けた部
分２が光反応（内部光電効果又は電離作用）を生
じ、次の現像処理において該乳剤部分は黒化す
る。非露光の乳剤部分３には何ら変化は起らな
い。次いで定着、水洗、乾燥処理を順次行ない、
ガラス基板１上に黒化部２を有するホトマスクを
得る。
しかしこのようにして製作されたエマルジヨン
ホトマスクは乳剤膜４とガラス基板１との密着性
が悪く、そのためガラス基板に下引層を被着させ
たりして密着度を強くしているが、この下引層に
よつても該乳剤膜とガラス基板との密着度は十分
ではなく、IC（集積回路）用ホトマスクとして
何度か使用するとICパターンを有する乳剤膜４
が部分的に剥れたりする。またこの乳剤膜４は薄
膜であり、膜としての機械的強度が弱いため、ホ
トマスクとして使用した後に行なう表面洗浄など
の処理の際にスポンジで表面をこすると該乳剤膜
に引つ掻き傷が付いてホトマスクとしての寿命を
縮める等の問題がある。また場合によつてはマス
ク製作工程終了直後で既に第２図に点線で示すよ
うにホトマスク端部の乳剤膜４がガラス基板１か
ら剥れたり、使用中に該乳剤膜の一部がガラス基
板１から剥れたりしてホトマスクとして使用でき
なくなる場合もある。これらの欠点は通常のネガ
タイプのものだけでなくリバーサル（ポジ）処理
により製作されるエマルジヨンマスクについても
同様にある。
ホトマスクは乳剤膜４とガラス基板１との密着性
が悪く、そのためガラス基板に下引層を被着させ
たりして密着度を強くしているが、この下引層に
よつても該乳剤膜とガラス基板との密着度は十分
ではなく、IC（集積回路）用ホトマスクとして
何度か使用するとICパターンを有する乳剤膜４
が部分的に剥れたりする。またこの乳剤膜４は薄
膜であり、膜としての機械的強度が弱いため、ホ
トマスクとして使用した後に行なう表面洗浄など
の処理の際にスポンジで表面をこすると該乳剤膜
に引つ掻き傷が付いてホトマスクとしての寿命を
縮める等の問題がある。また場合によつてはマス
ク製作工程終了直後で既に第２図に点線で示すよ
うにホトマスク端部の乳剤膜４がガラス基板１か
ら剥れたり、使用中に該乳剤膜の一部がガラス基
板１から剥れたりしてホトマスクとして使用でき
なくなる場合もある。これらの欠点は通常のネガ
タイプのものだけでなくリバーサル（ポジ）処理
により製作されるエマルジヨンマスクについても
同様にある。
本発明はかゝるエマルジヨンホトマスクの欠点
を改善し、ガラス基板と乳剤膜との密着度を十分
に強くすることができ、また乳剤膜自身の機械的
強度も強くすることができるエマルジヨンホトマ
スクの製作方法を提供しようとするものである。
本発明はハロゲン化銀をゼラチンに分散させた写
真乳剤をガラス基板に塗布してなる乾板を用いる
エマルジヨンホトマスクの製造法において、所望
パターンを持つマスクを当てて該乾板を露光し、
次いで現像、定着し、かかる乾板を更にベーキン
グしてガラス基板上の被膜強度および接着強度を
高めることを特徴とするが、次に実施例につきこ
れを詳細に説明する。
を改善し、ガラス基板と乳剤膜との密着度を十分
に強くすることができ、また乳剤膜自身の機械的
強度も強くすることができるエマルジヨンホトマ
スクの製作方法を提供しようとするものである。
本発明はハロゲン化銀をゼラチンに分散させた写
真乳剤をガラス基板に塗布してなる乾板を用いる
エマルジヨンホトマスクの製造法において、所望
パターンを持つマスクを当てて該乾板を露光し、
次いで現像、定着し、かかる乾板を更にベーキン
グしてガラス基板上の被膜強度および接着強度を
高めることを特徴とするが、次に実施例につきこ
れを詳細に説明する。
まず前述したように塩化銀（AgCl）などの感
材をゼラチンに分散させてなる感光乳剤を塗布し
た乾板５にノーマル（ネガ）処理かリバーサル
（ポジ）処理により第３図に示す如きエマルジヨ
ンホトマスクを作る。この図で２は前述の黒化部
であり、４ａはかゝる黒化部を持つ現像、定着処
理された乳剤膜を示す。次に普通の雰囲気内つま
り大気中において温度60〜300℃、時間30分以上
の範囲でベーキングを行なう。するとこのベーキ
ングの際に乳剤膜４から水分（H2O）や空気、或
は炭化水素等のガスが発生し、これによつて該乳
剤膜に含まれているゼラチンを構成するポリペプ
チド鎖結合が破壊され、ゼラチンの性質である膨
潤性がなくなり、かゝる結果該乳剤膜とガラス基
板１との密着度が増し、該乳剤膜の強度も強くな
る。例えば前述のスポンジでやゝ強引に引掻いて
も傷、剥離などが生じることはない。第３図で太
線ｌはこの高温ベーキングにより乳剤膜４ａがガ
ラス基板１と強固に密着したことを示す。このベ
ーキングを行なつても乳剤膜４ａの状態、例えば
色相とかICパターンの形状等には何ら変化はな
い。
材をゼラチンに分散させてなる感光乳剤を塗布し
た乾板５にノーマル（ネガ）処理かリバーサル
（ポジ）処理により第３図に示す如きエマルジヨ
ンホトマスクを作る。この図で２は前述の黒化部
であり、４ａはかゝる黒化部を持つ現像、定着処
理された乳剤膜を示す。次に普通の雰囲気内つま
り大気中において温度60〜300℃、時間30分以上
の範囲でベーキングを行なう。するとこのベーキ
ングの際に乳剤膜４から水分（H2O）や空気、或
は炭化水素等のガスが発生し、これによつて該乳
剤膜に含まれているゼラチンを構成するポリペプ
チド鎖結合が破壊され、ゼラチンの性質である膨
潤性がなくなり、かゝる結果該乳剤膜とガラス基
板１との密着度が増し、該乳剤膜の強度も強くな
る。例えば前述のスポンジでやゝ強引に引掻いて
も傷、剥離などが生じることはない。第３図で太
線ｌはこの高温ベーキングにより乳剤膜４ａがガ
ラス基板１と強固に密着したことを示す。このベ
ーキングを行なつても乳剤膜４ａの状態、例えば
色相とかICパターンの形状等には何ら変化はな
い。
水分、空気、炭化水素等のガスはベーキング温
度が高くなればなる程、またベーキング時間が長
くなければなる程その発生量は多くなり、乳剤膜
についての上述の効果は増大する。しかし温度が
余り高すぎると乳剤膜に変色が起り、また時間が
長過ぎると生産能率を落すなどの欠点が出てくる
ため、これらベーキング時間および温度は使用す
る乾板の種類やその使用目的、製作工程等に応じ
て適当に変えればよく、例えば時間重視の場合
は、温度を上げて時間を短くすればよい。なおベ
ーキングの上限温度300℃は、ゼラチンの軟化点
からも制限を受ける。またベーキング時間が30分
以下では十分な膜強度は得られない。
度が高くなればなる程、またベーキング時間が長
くなければなる程その発生量は多くなり、乳剤膜
についての上述の効果は増大する。しかし温度が
余り高すぎると乳剤膜に変色が起り、また時間が
長過ぎると生産能率を落すなどの欠点が出てくる
ため、これらベーキング時間および温度は使用す
る乾板の種類やその使用目的、製作工程等に応じ
て適当に変えればよく、例えば時間重視の場合
は、温度を上げて時間を短くすればよい。なおベ
ーキングの上限温度300℃は、ゼラチンの軟化点
からも制限を受ける。またベーキング時間が30分
以下では十分な膜強度は得られない。
実際に行なつたベーキング結果によれば、通常
の雰囲気内で温度150℃、時間60分のベーキング
でエマルジヨンホトマスクとしては十分な密着度
と強度が得られることが分つた。この判定は高温
ベーキングしたエマルジヨンホトマスクと、高温
ベーキングしない従来のエマルジヨンホトマスク
に対し、強くこすつて傷の付き具合、膜剥れの状
態などを見る破壊検査等により行なつた。
の雰囲気内で温度150℃、時間60分のベーキング
でエマルジヨンホトマスクとしては十分な密着度
と強度が得られることが分つた。この判定は高温
ベーキングしたエマルジヨンホトマスクと、高温
ベーキングしない従来のエマルジヨンホトマスク
に対し、強くこすつて傷の付き具合、膜剥れの状
態などを見る破壊検査等により行なつた。
ベーキングは通常の雰囲気で行なう代りに不活
性雰囲気内で行なえば、乳剤膜の酸化等を心配す
る必要もなく、より良いベーキング効果が得られ
る。また乾板としては前述の塩化銀（AgCl）の
代りに、臭化銀など一般的にはハロゲン化銀とゼ
ラチンよりなる感光乳剤をガラス基板上に塗布し
たものを用いてもよく、同じように高温ベーキン
グすることにより同一効果を得ることができる。
性雰囲気内で行なえば、乳剤膜の酸化等を心配す
る必要もなく、より良いベーキング効果が得られ
る。また乾板としては前述の塩化銀（AgCl）の
代りに、臭化銀など一般的にはハロゲン化銀とゼ
ラチンよりなる感光乳剤をガラス基板上に塗布し
たものを用いてもよく、同じように高温ベーキン
グすることにより同一効果を得ることができる。
以上詳細に説明したように本発明によれば、ガ
ラス基板と乳剤膜との密着度を十分に強くするこ
とができ、また乳剤膜の強度も強くすることがで
きる。その結果ホトマスクとしての耐久性が十分
になり半導体装置の製作に寄与する所が大きい。
ラス基板と乳剤膜との密着度を十分に強くするこ
とができ、また乳剤膜の強度も強くすることがで
きる。その結果ホトマスクとしての耐久性が十分
になり半導体装置の製作に寄与する所が大きい。
第１図は従来のエマルジヨンホトマスクの製作
工程を説明する断面図、第２図は乳剤膜の剥離状
態を説明する断面図、第３図は本発明によるエマ
ルジヨンホトマスクの断面図である。 図面で１はガラス基板、２は黒化部、３は非黒
化部、４，４ａは現像、定着した乳剤膜である。
工程を説明する断面図、第２図は乳剤膜の剥離状
態を説明する断面図、第３図は本発明によるエマ
ルジヨンホトマスクの断面図である。 図面で１はガラス基板、２は黒化部、３は非黒
化部、４，４ａは現像、定着した乳剤膜である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ハロゲン化銀をゼラチンに分散させた写真乳
剤をガラス基板に塗布してなる乾板を用いるエマ
ルジヨンホトマスクの製造法において、所望パタ
ーンを持つマスクを当てて該乾板を露光し、次い
で現像、定着し、かかる乾板を更にベーキングし
てガラス基板上の被膜強度および接着強度を高め
ることを特徴とするエマルジヨンホトマスクの製
造法。 ２ ベーキングを、60〜300℃好ましくは150℃の
温度で、30分以上好ましくは60分行なうことを特
徴とする、特許請求の範囲第１項記載のエマルジ
ヨンホトマスクの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9281677A JPS5427373A (en) | 1977-08-02 | 1977-08-02 | Manufacture of emulsion photo mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9281677A JPS5427373A (en) | 1977-08-02 | 1977-08-02 | Manufacture of emulsion photo mask |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5427373A JPS5427373A (en) | 1979-03-01 |
| JPS6146822B2 true JPS6146822B2 (ja) | 1986-10-16 |
Family
ID=14064937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9281677A Granted JPS5427373A (en) | 1977-08-02 | 1977-08-02 | Manufacture of emulsion photo mask |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5427373A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5697013B2 (ja) * | 2010-05-26 | 2015-04-08 | 国立大学法人 千葉大学 | 写真画像転写物の作製方法 |
-
1977
- 1977-08-02 JP JP9281677A patent/JPS5427373A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5427373A (en) | 1979-03-01 |
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