JPS6147634A - パタ−ンの欠陥検査方法 - Google Patents
パタ−ンの欠陥検査方法Info
- Publication number
- JPS6147634A JPS6147634A JP59168753A JP16875384A JPS6147634A JP S6147634 A JPS6147634 A JP S6147634A JP 59168753 A JP59168753 A JP 59168753A JP 16875384 A JP16875384 A JP 16875384A JP S6147634 A JPS6147634 A JP S6147634A
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- JP
- Japan
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- pattern
- width
- directions
- pixels
- rule
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- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はパターンの欠陥検査方法、特にパターンルール
よりも狭いパターンを検出する方法に関するものである
。
よりも狭いパターンを検出する方法に関するものである
。
(従来の技術)
回路パターンの最小線幅は3μm、2.5μm。
2μmと年々微細になり、量産レベルでは2.5μm、
開発・研究レベルでは1.5μmから0.5μm程度と
さらに細く描くことも可能となっている。同様にパター
ンとパターンとの間隔も狭くなってきている。本明細書
ではパターンそのものの幅だけでなく、パターンとパタ
ーンの間隔もパターン幅と称することにする。
開発・研究レベルでは1.5μmから0.5μm程度と
さらに細く描くことも可能となっている。同様にパター
ンとパターンとの間隔も狭くなってきている。本明細書
ではパターンそのものの幅だけでなく、パターンとパタ
ーンの間隔もパターン幅と称することにする。
このような微細のパターンルールで描かれた回路パター
ンでは、各パターンの線幅が予定の線幅よりも狭いとす
ぐに欠陥に結びつく危険性があり、さらに実際のパター
ンを作製するのに使用するレチクルテープに記憶したパ
ターンがパターンルールの線幅よりも狭いと実際のパタ
ーン作成時に欠陥となる可能性が非常に高いため、その
線幅が一定に描かれているかを検知する装置が望まれて
いlこ 。
ンでは、各パターンの線幅が予定の線幅よりも狭いとす
ぐに欠陥に結びつく危険性があり、さらに実際のパター
ンを作製するのに使用するレチクルテープに記憶したパ
ターンがパターンルールの線幅よりも狭いと実際のパタ
ーン作成時に欠陥となる可能性が非常に高いため、その
線幅が一定に描かれているかを検知する装置が望まれて
いlこ 。
(発明が解決しようとする問題点)
回路パターンの欠陥を検知する装置として、本願人は特
開昭58−46636号公報において、レチクルテープ
から読み出された基準信号と実際のパターンを走査して
得た走査情報とを比較して正確な欠陥検査を実施できる
装置を提案している。
開昭58−46636号公報において、レチクルテープ
から読み出された基準信号と実際のパターンを走査して
得た走査情報とを比較して正確な欠陥検査を実施できる
装置を提案している。
しかしながら、上述した装置はパターンの細りたけでな
く種々の欠陥を検知するために作製されたものであるの
で、パターンの細りも通常の欠陥と同じように判断され
パターンの細りだけを検出することができないとともに
、レチクルテープに誤まってパターンルールよりも細い
データが含まれている場合はその欠陥を検出できない欠
点があった。
く種々の欠陥を検知するために作製されたものであるの
で、パターンの細りも通常の欠陥と同じように判断され
パターンの細りだけを検出することができないとともに
、レチクルテープに誤まってパターンルールよりも細い
データが含まれている場合はその欠陥を検出できない欠
点があった。
本発明の目的は、上述した不具合を解消して、簡単な方
法で迅速にパターンの幅を検出できるパターンの欠陥検
査方法を提供しようとするものである。
法で迅速にパターンの幅を検出できるパターンの欠陥検
査方法を提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段)
本発明のパターンの欠陥検査方法は、中心画素と、画像
の水平方向に対して一45°、0’、45°。
の水平方向に対して一45°、0’、45°。
90°の傾きを有する4方向において、各々パターンル
ールの幅に対応した幅を隔てて設けられた両端画素より
構成される空間格子フィルタにより、 ・パターンの
幅を検知するにあたり、中心画素の2値信号と各方向の
両端の画素の値を比較し、中心画素の値と両端画素の値
が同時に異なる値である方向が3方向以上のとき、対象
パターンの幅がパターンルールで規定される幅よりも狭
いと判定することを特徴とするものである。
ールの幅に対応した幅を隔てて設けられた両端画素より
構成される空間格子フィルタにより、 ・パターンの
幅を検知するにあたり、中心画素の2値信号と各方向の
両端の画素の値を比較し、中心画素の値と両端画素の値
が同時に異なる値である方向が3方向以上のとき、対象
パターンの幅がパターンルールで規定される幅よりも狭
いと判定することを特徴とするものである。
(作 用)
以下、本発明を図面を参照して詳細に説明する。
第2図は本発明で使用する空間格子フィルタの一例を示
す線図である。第2図において、空間格子フィルタは、
その中心の画素POと、画像の水平方向に対して一45
°、0°、 456.90’の傾きを有する4方向にお
いて、各々パターンルールの幅に対応した幅を隔てて設
けられた両端画素P1〜P8より構成されている。この
空間格子フィルタの幅はパターンルールの幅に合わせて
設定されており、その幅は後述するように可変になるよ
う構成されている。第2図中斜線の部分tよデータをと
る画素を示している。
す線図である。第2図において、空間格子フィルタは、
その中心の画素POと、画像の水平方向に対して一45
°、0°、 456.90’の傾きを有する4方向にお
いて、各々パターンルールの幅に対応した幅を隔てて設
けられた両端画素P1〜P8より構成されている。この
空間格子フィルタの幅はパターンルールの幅に合わせて
設定されており、その幅は後述するように可変になるよ
う構成されている。第2図中斜線の部分tよデータをと
る画素を示している。
本発明において、上述した空間格子フィルタを使用した
パターンルールの幅より狭いパターンに対する欠陥検査
の方法は以下の通りである。まず中心画素Poがパター
ン部分(例えばバイナリ−の1)かパターン部分でない
(バイナリ−のO)かを検出する。次に各方向において
その両端の画素が1かOかを検出する。中心画素の値と
各方向の両端の値とを比較し、両端同時に中心画素と相
違するときは、その方向では欠陥と判定する。4方向の
すべてについて同様の判定を行ない、そのうちの3方向
以上すなわち3方向または4方向で欠陥と判断された場
合に、そのパターンがパターンルールの幅よりも狭いも
のと判定する。上述した処理を対象領域のすべての画素
について行なえば、パターンルールで設定した幅よりも
狭い部分の検出を行なうことができる。このとき判定し
なければならない幅はフォトマスク上では数μmの幅で
あるが、レチクルパターンは一般に十倍の大きさで作成
されるため、レチクルパターン上では測定対象となる空
間格子フィルタの幅は数十μmとなり、1画素1μm程
度の画素を考えれば上述した処理を簡単に行なうことが
できる。
パターンルールの幅より狭いパターンに対する欠陥検査
の方法は以下の通りである。まず中心画素Poがパター
ン部分(例えばバイナリ−の1)かパターン部分でない
(バイナリ−のO)かを検出する。次に各方向において
その両端の画素が1かOかを検出する。中心画素の値と
各方向の両端の値とを比較し、両端同時に中心画素と相
違するときは、その方向では欠陥と判定する。4方向の
すべてについて同様の判定を行ない、そのうちの3方向
以上すなわち3方向または4方向で欠陥と判断された場
合に、そのパターンがパターンルールの幅よりも狭いも
のと判定する。上述した処理を対象領域のすべての画素
について行なえば、パターンルールで設定した幅よりも
狭い部分の検出を行なうことができる。このとき判定し
なければならない幅はフォトマスク上では数μmの幅で
あるが、レチクルパターンは一般に十倍の大きさで作成
されるため、レチクルパターン上では測定対象となる空
間格子フィルタの幅は数十μmとなり、1画素1μm程
度の画素を考えれば上述した処理を簡単に行なうことが
できる。
次に上述した判定を行なう回路を第3図および第4図に
より説明する。第3ぽはある一方向、例えば水平方向の
欠陥判定回路を示す線図である。
より説明する。第3ぽはある一方向、例えば水平方向の
欠陥判定回路を示す線図である。
中心画素POの2値出力の値と検出したいパターンルー
ルの幅を隔てて設けられた各両端の画素PI、P2の2
値出力の値を各別に排他的ORゲートXOR+およびX
0R2に供給し、それらの出力をさらにANDゲートA
NDに供給して一方向での欠陥を検出する。
ルの幅を隔てて設けられた各両端の画素PI、P2の2
値出力の値を各別に排他的ORゲートXOR+およびX
0R2に供給し、それらの出力をさらにANDゲートA
NDに供給して一方向での欠陥を検出する。
上述した回路によれば、中心画素Poの値と両端画素P
+、P2の値とが同時に相違するときずなわら画素Po
の値がOまたは1で画素P1およびP2の(直が共に1
またはOのときは、ANDゲートの出力が1となり、そ
の方向では欠陥と判定できる。また実際の回路としては
、第4図に示すように各方向において多数の画素を配列
し、中心画素POの出力とそれ以外の各画素の出力とを
各画素毎に排他的ORゲートXORを設けておき、判定
したいパターンルールの幅に応じてその排他的ORゲー
トの数を選択し、その出力をORゲートOR+ 、OR
2に接続し、これらO,Rゲートの出力をANDゲート
ANDに接続する構成となっている。上述した構成の空
間格子フィルタによれば、空間格子フィルタの大きさを
容易に変えることができると画素P1とPOとの間隔を
ピッチとするス1へライブ状パターンのような欠陥も、
有効に判定することができる。
+、P2の値とが同時に相違するときずなわら画素Po
の値がOまたは1で画素P1およびP2の(直が共に1
またはOのときは、ANDゲートの出力が1となり、そ
の方向では欠陥と判定できる。また実際の回路としては
、第4図に示すように各方向において多数の画素を配列
し、中心画素POの出力とそれ以外の各画素の出力とを
各画素毎に排他的ORゲートXORを設けておき、判定
したいパターンルールの幅に応じてその排他的ORゲー
トの数を選択し、その出力をORゲートOR+ 、OR
2に接続し、これらO,Rゲートの出力をANDゲート
ANDに接続する構成となっている。上述した構成の空
間格子フィルタによれば、空間格子フィルタの大きさを
容易に変えることができると画素P1とPOとの間隔を
ピッチとするス1へライブ状パターンのような欠陥も、
有効に判定することができる。
このようなストライプ状パターンの欠陥は第3図に示す
ような空間格子フィルタでは見逃してしまうものである
。
ような空間格子フィルタでは見逃してしまうものである
。
なお、上述した実施例で4方向の判定の結果、3方向ま
たは4方向で欠陥と判断された場合にそのパターンがパ
ターンルールの幅よりも狭いと判定するようにした理由
は、第5図(A)に示すように一般的にパターンがパタ
ーンルールの幅よりも狭い場合は常に3方向で欠陥と判
定され、また第5図(B)に示すように欠陥として判定
しなければならないパターンルールよりも小さな穴があ
った場合は4方向で欠陥と判定されるのに対し、第5図
(C)に示すような正常なパターンの角度は2方向でし
か欠陥として判定されないためである。
たは4方向で欠陥と判断された場合にそのパターンがパ
ターンルールの幅よりも狭いと判定するようにした理由
は、第5図(A)に示すように一般的にパターンがパタ
ーンルールの幅よりも狭い場合は常に3方向で欠陥と判
定され、また第5図(B)に示すように欠陥として判定
しなければならないパターンルールよりも小さな穴があ
った場合は4方向で欠陥と判定されるのに対し、第5図
(C)に示すような正常なパターンの角度は2方向でし
か欠陥として判定されないためである。
(実施例)
第1図は本発明のパターンの欠陥検査方法をパターンの
欠陥検査装置に組み込んだ一実施例を示す線図である。
欠陥検査装置に組み込んだ一実施例を示す線図である。
全体の構成は大きく分類してステージユニット10.ビ
デオ信号変換ユニット30.制御ユニット40の3つの
ユニットから成っている。
デオ信号変換ユニット30.制御ユニット40の3つの
ユニットから成っている。
以下上述した順に各部の動作を簡単に説明する。
まずステージユニット10においては、被検体18のパ
ターン(例えばレチクルパターン等)に光源11よりの
光を照射し、その透過光をどツ1〜アレイよりなるイメ
ージセンサ23に入射して1ライン分の走査データを得
た後、その走査データを制御部40へ出力している。自
動焦点l11m 14を具えた対物レンズ17は透過光
を例えば25倍に拡大して、イメージセンサ23のごッ
トアレイに投影するのに使用されている。本例で使用す
る自動焦点の機構は、本願人による特公昭54−313
4’8号公報で提案されている機構と同一である。走査
領域の選択および走査はXテーブル15.Yテーブル1
6を駆動機構13.12によって駆動することで実行し
ている。
ターン(例えばレチクルパターン等)に光源11よりの
光を照射し、その透過光をどツ1〜アレイよりなるイメ
ージセンサ23に入射して1ライン分の走査データを得
た後、その走査データを制御部40へ出力している。自
動焦点l11m 14を具えた対物レンズ17は透過光
を例えば25倍に拡大して、イメージセンサ23のごッ
トアレイに投影するのに使用されている。本例で使用す
る自動焦点の機構は、本願人による特公昭54−313
4’8号公報で提案されている機構と同一である。走査
領域の選択および走査はXテーブル15.Yテーブル1
6を駆動機構13.12によって駆動することで実行し
ている。
X、Yテーブル15.16の制御は、それらの動きをリ
ニアエンコーダ19.20により検知してステージポジ
ションコレクタ21に供給することによって行なわれる
。ここで、X、Y方向のずれが検知され、そのずれより
得られる補正信号が駆動機構13.12に供給されて補
正が行なわれる。また、この補正だけでは精度の面で問
題があるため、特にX方向に対しては、ステージポジシ
ョンコレクタ21からのX方向のずれ部に対する補正信
号をイメージセンサドライバ22に供給してイメージセ
ンサ23中のビットアレイに入射する光のうち、左端、
右端の余りの12個のビットを使用して、誤差に対して
ずらして1000点での走査データを得るようにする。
ニアエンコーダ19.20により検知してステージポジ
ションコレクタ21に供給することによって行なわれる
。ここで、X、Y方向のずれが検知され、そのずれより
得られる補正信号が駆動機構13.12に供給されて補
正が行なわれる。また、この補正だけでは精度の面で問
題があるため、特にX方向に対しては、ステージポジシ
ョンコレクタ21からのX方向のずれ部に対する補正信
号をイメージセンサドライバ22に供給してイメージセ
ンサ23中のビットアレイに入射する光のうち、左端、
右端の余りの12個のビットを使用して、誤差に対して
ずらして1000点での走査データを得るようにする。
次に第1図中のビデオ変換ユニット30について説明す
るaCADシステム等ににり作成されたPGテープは、
本システムのフォーマットを持つ検査用レチクルテープ
31に変換され、ビデオ変換ユニットに供給される。こ
のフォーマットは各単位走査領域のX方向の一列の群を
1フアイルとして構成されていて、その内容は例えばパ
ターンの4隅の点の集合として記憶されている。このレ
チクルテープ31は、テープユニット32に取り付けら
れた後、制御ユニット40中のCPUの制御により磁気
テープ制御部36を介してステージ部10で検査されて
いるレチクルマスク18に対応する場所をレチクルテー
プ31から読み出し、2つ設けである磁気テープメモリ
33.34のうちの一方へ記憶する。
るaCADシステム等ににり作成されたPGテープは、
本システムのフォーマットを持つ検査用レチクルテープ
31に変換され、ビデオ変換ユニットに供給される。こ
のフォーマットは各単位走査領域のX方向の一列の群を
1フアイルとして構成されていて、その内容は例えばパ
ターンの4隅の点の集合として記憶されている。このレ
チクルテープ31は、テープユニット32に取り付けら
れた後、制御ユニット40中のCPUの制御により磁気
テープ制御部36を介してステージ部10で検査されて
いるレチクルマスク18に対応する場所をレチクルテー
プ31から読み出し、2つ設けである磁気テープメモリ
33.34のうちの一方へ記憶する。
この磁気テープメモリに記憶されたレチクルテープ31
よりの点の座標群より、磁気テープ制御部36からの同
期信号の制御のもとにビデオ信号変換部35により画像
に変換された後、2つ設けであるビデオメモリ37.3
8のうちの一方に記憶される。画像としてビデオメモリ
に記憶されたデータは、磁気テープ制御部36の制御に
よりステージ部10の第1のイメージはンサ23で走査
された部分に対応してビデオ信号出力制御部39より読
み出され、制御ユニット40の比較器45に出力される
。
よりの点の座標群より、磁気テープ制御部36からの同
期信号の制御のもとにビデオ信号変換部35により画像
に変換された後、2つ設けであるビデオメモリ37.3
8のうちの一方に記憶される。画像としてビデオメモリ
に記憶されたデータは、磁気テープ制御部36の制御に
よりステージ部10の第1のイメージはンサ23で走査
された部分に対応してビデオ信号出力制御部39より読
み出され、制御ユニット40の比較器45に出力される
。
上述したようにして作成されたステージユニット10.
ビデオ変換ユニット30からの両川力は、制御ユニット
40に供給され比較器45により比較されるどともに、
空間格子フィルタ49.50によりパターンの細りを検
出している。すなわち、ビデオメモリ37または38に
記憶されたデータは空間格子フィルタ49の画素に対応
する領域毎に読み出され、空間格子フィルタ49により
そのレチクルテープに誤ってパターンルールよりも細い
データが含まれることにより生じる欠陥を検出し、その
結果をデータ処理部47に供給する。同様に、イメージ
ヒンサ23で走査されたデータはビデオ増幅部46でビ
デオ画像とされるとともに、ビデオ増幅部46中に設け
られた最低空間格子フィルタの幅x 1oooビット分
のメモリに記憶され、空間格子フィルタ50によりパタ
ーンの細りを判定し、その結果をデータ処理部47に供
給する。
ビデオ変換ユニット30からの両川力は、制御ユニット
40に供給され比較器45により比較されるどともに、
空間格子フィルタ49.50によりパターンの細りを検
出している。すなわち、ビデオメモリ37または38に
記憶されたデータは空間格子フィルタ49の画素に対応
する領域毎に読み出され、空間格子フィルタ49により
そのレチクルテープに誤ってパターンルールよりも細い
データが含まれることにより生じる欠陥を検出し、その
結果をデータ処理部47に供給する。同様に、イメージ
ヒンサ23で走査されたデータはビデオ増幅部46でビ
デオ画像とされるとともに、ビデオ増幅部46中に設け
られた最低空間格子フィルタの幅x 1oooビット分
のメモリに記憶され、空間格子フィルタ50によりパタ
ーンの細りを判定し、その結果をデータ処理部47に供
給する。
データ処理部47は各種I10インターフェース。
RAM、ROM、CPU、表示部から構成され、処理さ
れたデータはプリンタ48より出力される。
れたデータはプリンタ48より出力される。
さらに、モニタ41〜44によって各画像を映出し、そ
の処理を確認できる。
の処理を確認できる。
本発明は上述した実施例にのみ限定されるものではなり
、幾多の変形、変更を加えることができる。例えば、上
述した実施例では従来のパターンの欠陥検査装置に本発
明の方法を組み込んだ例を示したが、本発明のパターン
の欠陥検査方法によりパターンの細りだけを判定する専
用機とづ゛ることもできる。ざらに上述した実施例で示
した空間格子フィルタの画素数は一例として表わしたも
のであり、任意の数にすることができる。
、幾多の変形、変更を加えることができる。例えば、上
述した実施例では従来のパターンの欠陥検査装置に本発
明の方法を組み込んだ例を示したが、本発明のパターン
の欠陥検査方法によりパターンの細りだけを判定する専
用機とづ゛ることもできる。ざらに上述した実施例で示
した空間格子フィルタの画素数は一例として表わしたも
のであり、任意の数にすることができる。
〈発明の効果〉
本発明のパターンの欠陥検査方法によれば、簡単なアル
ゴリズムで迅速にパターンの幅を検出できるとともに、
従来のパターンの欠陥検査装置に簡単に適用できパター
ンの幅に関する有用な情報を得ることができる。また、
本発明で使用づる空間格子フィルタは方向性がなく、パ
ターンの細りゃ小孔状の欠陥だけを有効に検出すること
ができる。
ゴリズムで迅速にパターンの幅を検出できるとともに、
従来のパターンの欠陥検査装置に簡単に適用できパター
ンの幅に関する有用な情報を得ることができる。また、
本発明で使用づる空間格子フィルタは方向性がなく、パ
ターンの細りゃ小孔状の欠陥だけを有効に検出すること
ができる。
第1図は本発明のパターンの欠陥検査方法を実施するパ
ターンの欠陥検査装置の全体の構成を示すブロック図、 第2図は本発明で使用する空間格子フィルタの一例を示
す線図、 第3図および第4図は本発明のパターンの欠陥検査方法
を実施する回路の一例を示す線図、第5図(A)、(B
)および(C)は空間格子フィルタによるパターン判定
の一例を示す線図である。 Pa〜P8・・・画素 10・・・ステージユニット
30・・・ビデオ変換ユニット 40・・・制御ユニット 49.50・・・空間格子
フィルタ。
ターンの欠陥検査装置の全体の構成を示すブロック図、 第2図は本発明で使用する空間格子フィルタの一例を示
す線図、 第3図および第4図は本発明のパターンの欠陥検査方法
を実施する回路の一例を示す線図、第5図(A)、(B
)および(C)は空間格子フィルタによるパターン判定
の一例を示す線図である。 Pa〜P8・・・画素 10・・・ステージユニット
30・・・ビデオ変換ユニット 40・・・制御ユニット 49.50・・・空間格子
フィルタ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、中心画素と、画像の水平方向に対して−45°、0
°、45°、90°の傾きを有する4方向において、各
々パターンルールの幅に対応した幅を隔てて設けられた
両端画素より構成される空間格子フィルタにより、パタ
ーンの幅を検知するにあたり、中心画素の2値信号と各
方向の両端の画素の値を比較し、中心画素の値と両端画
素の値が同時に異なる値である方向が3方向以上のとき
、対象パターンの幅がパターンルールで規定される幅よ
りも狭いと判定することを特徴とするパターンの欠陥検
査方法。 2、各方向において多数の画素を配列しておき、パター
ンルールの幅に応じた画素の出力を選択することにより
空間格子フィルタの大きさを変えることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のパターンの欠陥検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59168753A JPS6147634A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | パタ−ンの欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59168753A JPS6147634A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | パタ−ンの欠陥検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6147634A true JPS6147634A (ja) | 1986-03-08 |
| JPH0428139B2 JPH0428139B2 (ja) | 1992-05-13 |
Family
ID=15873789
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59168753A Granted JPS6147634A (ja) | 1984-08-14 | 1984-08-14 | パタ−ンの欠陥検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6147634A (ja) |
-
1984
- 1984-08-14 JP JP59168753A patent/JPS6147634A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0428139B2 (ja) | 1992-05-13 |
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