JPS6147902B2 - - Google Patents
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- JPS6147902B2 JPS6147902B2 JP59226568A JP22656884A JPS6147902B2 JP S6147902 B2 JPS6147902 B2 JP S6147902B2 JP 59226568 A JP59226568 A JP 59226568A JP 22656884 A JP22656884 A JP 22656884A JP S6147902 B2 JPS6147902 B2 JP S6147902B2
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- Japan
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- carburizing
- gas
- grain boundary
- quenching
- treatment
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/80—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/06—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
- C23C8/08—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
- C23C8/20—Carburising
- C23C8/22—Carburising of ferrous surfaces
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本発明はMn、Cr等を含有する鋼材部品のガス
浸炭焼入方法に関するものである。
浸炭焼入方法に関するものである。
＜従来技術＞
肌焼き鋼等のMn、Cr等を含有する鋼材をガス
浸炭する方法は、ガス浸炭時に用いる浸炭ガスに
よつて、下記の２種類に大別される。すなわち、
プロパン、メタンなどの炭化水素系ガスを変成し
て、この変成ガスを使用する変成ガス方式、ある
いは低級アルコール、低級脂肪酸エステルなどの
液状の有機剤を熱分解させ、この変成ガスを使用
する滴注式方式などの浸炭性ガスを使用する方法
と、プロパン、メタン等の炭化水素系ガス単体あ
るいはN2ガスと炭化水素系ガスの混合ガスを炉
内に供給し、この炭化水素系ガスの熱分解を利用
する方法とである。
浸炭する方法は、ガス浸炭時に用いる浸炭ガスに
よつて、下記の２種類に大別される。すなわち、
プロパン、メタンなどの炭化水素系ガスを変成し
て、この変成ガスを使用する変成ガス方式、ある
いは低級アルコール、低級脂肪酸エステルなどの
液状の有機剤を熱分解させ、この変成ガスを使用
する滴注式方式などの浸炭性ガスを使用する方法
と、プロパン、メタン等の炭化水素系ガス単体あ
るいはN2ガスと炭化水素系ガスの混合ガスを炉
内に供給し、この炭化水素系ガスの熱分解を利用
する方法とである。
＜発明が解決しようとする問題点＞
しかしながら、浸炭性ガスを使用する方法での
ガス浸炭は、主として、 2CO→(C)＋CO2 ……(1) からなる鋼表面での熱分解反応により起こるが、
この際、鋼材部品に含まれるCr、Mn、Siなどの
合金元素〔Ｍ〕は酸素と親和性が強いため、 CO＋〔Ｍ〕→〔Ｍ〕Ｏ＋Ｃ ……(2) CO2＋〔Ｍ〕→〔Ｍ〕Ｏ＋CO ……(3) の反応のうち、いづれかで選択酸化される。この
選択酸化は鋼材表面および結晶粒界に沿つて起こ
り、その結果、鋼材表面および内部粒界にCr、
Mn等の合金元素が濃縮するとともに、マトリツ
クスでの濃度の低下が起きる。そのため、浸炭処
理した後に、焼入処理を施すと、不完全焼入組織
（トルースタイト）をもつ異常浸炭層が発生し、
表面硬さ、疲労強度、衝撃値を低下させるという
問題がある。
ガス浸炭は、主として、 2CO→(C)＋CO2 ……(1) からなる鋼表面での熱分解反応により起こるが、
この際、鋼材部品に含まれるCr、Mn、Siなどの
合金元素〔Ｍ〕は酸素と親和性が強いため、 CO＋〔Ｍ〕→〔Ｍ〕Ｏ＋Ｃ ……(2) CO2＋〔Ｍ〕→〔Ｍ〕Ｏ＋CO ……(3) の反応のうち、いづれかで選択酸化される。この
選択酸化は鋼材表面および結晶粒界に沿つて起こ
り、その結果、鋼材表面および内部粒界にCr、
Mn等の合金元素が濃縮するとともに、マトリツ
クスでの濃度の低下が起きる。そのため、浸炭処
理した後に、焼入処理を施すと、不完全焼入組織
（トルースタイト）をもつ異常浸炭層が発生し、
表面硬さ、疲労強度、衝撃値を低下させるという
問題がある。
一方、真空浸炭などの炭化水素系ガスの熱分解
を利用する方法では、浸炭ガスにCO、CO2など
が含まれないため、前記異常浸炭層あるいは選択
酸化（粒界酸化物）の問題はほとんどないが、表
面炭素量は過剰浸炭を行つて、そのあと拡散によ
り調整する。
を利用する方法では、浸炭ガスにCO、CO2など
が含まれないため、前記異常浸炭層あるいは選択
酸化（粒界酸化物）の問題はほとんどないが、表
面炭素量は過剰浸炭を行つて、そのあと拡散によ
り調整する。
したがつて、処理材表面形状により浸炭層の拡
散の状況が異なり、凸部の表面炭素量は高く、凹
部のそれは低くなる傾向を有し、浸炭層の均一性
に問題があるだかりか、生産性が低く設備費が高
いという問題がある。
散の状況が異なり、凸部の表面炭素量は高く、凹
部のそれは低くなる傾向を有し、浸炭層の均一性
に問題があるだかりか、生産性が低く設備費が高
いという問題がある。
＜問題点を解決するための手段＞
本発明は、吸熱型変成ガス等の浸炭性ガスを使
用するガス浸炭法における前記選択酸化物（粒界
酸化層）が、前記(2)式および(3)式の反応により形
成され、また前記(2)式、(3)式を分解すると、 CO＝(C)＋1/2O2 ……(4) CO2＝CO＋1/2O2 ……(5) 〔Ｍ〕＋1/2O2＝〔Ｍ〕Ｏ ……(6) となることにより、前記選択酸化物が浸炭雰囲気
中の微量酸素に起因することに着目し、Mn、Cr
等を含有する鋼材部品を雰囲気中でガス浸炭処理
したのち、前記処理時に生じる粒界酸化物に対し
て還元領域の高温雰囲気下で所定時間保持して、
前記粒界酸化物を還元処理し、その後、焼入処理
を行うようにした。
用するガス浸炭法における前記選択酸化物（粒界
酸化層）が、前記(2)式および(3)式の反応により形
成され、また前記(2)式、(3)式を分解すると、 CO＝(C)＋1/2O2 ……(4) CO2＝CO＋1/2O2 ……(5) 〔Ｍ〕＋1/2O2＝〔Ｍ〕Ｏ ……(6) となることにより、前記選択酸化物が浸炭雰囲気
中の微量酸素に起因することに着目し、Mn、Cr
等を含有する鋼材部品を雰囲気中でガス浸炭処理
したのち、前記処理時に生じる粒界酸化物に対し
て還元領域の高温雰囲気下で所定時間保持して、
前記粒界酸化物を還元処理し、その後、焼入処理
を行うようにした。
＜実施例＞
つぎに、本発明を図面にしたがつて説明する。
本発明は、鋼材部品を浸炭性ガス中で浸炭処理
する際に必然的に形成される粒界酸化物を、焼入
処理以前に、O2分圧等により管理される前記酸
化物に対して還元領域の高温雰囲気中で所定時間
保持することにより、浸炭性ガス中での浸炭処理
にもかかわらず、粒界酸化物の少ない浸炭焼入鋼
材部品を得ようとするものである。
する際に必然的に形成される粒界酸化物を、焼入
処理以前に、O2分圧等により管理される前記酸
化物に対して還元領域の高温雰囲気中で所定時間
保持することにより、浸炭性ガス中での浸炭処理
にもかかわらず、粒界酸化物の少ない浸炭焼入鋼
材部品を得ようとするものである。
まず、本発明の基礎となす考え方について、第
１図を参照して説明する。第１図は、鋼の主要合
金成分の平衡O2分圧を純金属として計算して図
示したもので、例えば、温度が850℃、O2分圧が
10-25atmのとき、Cr、Mn、Siは酸化領域にあ
り、Mo、Feは還元領域にあることを示す。な
お、図中の実線Ａは浸炭期の炭素ポテンシヤル値
を0.9としたときの炉内O2分圧を示すものであ
る。
１図を参照して説明する。第１図は、鋼の主要合
金成分の平衡O2分圧を純金属として計算して図
示したもので、例えば、温度が850℃、O2分圧が
10-25atmのとき、Cr、Mn、Siは酸化領域にあ
り、Mo、Feは還元領域にあることを示す。な
お、図中の実線Ａは浸炭期の炭素ポテンシヤル値
を0.9としたときの炉内O2分圧を示すものであ
る。
第１図に示すように、炭素ポテンシヤル値を
0.9として浸炭処理すると、合金元素であるCr、
Mn、Siは、酸化領域にさらされることになり、
それぞれCr2O3、MnO、SiO2などの酸化物とし
て、鋼材表面および結晶粒界部に形成される。
0.9として浸炭処理すると、合金元素であるCr、
Mn、Siは、酸化領域にさらされることになり、
それぞれCr2O3、MnO、SiO2などの酸化物とし
て、鋼材表面および結晶粒界部に形成される。
したがつて、前記酸化物による粒界酸化層を軽
減するには、浸炭後の焼入性に影響する合金元素
がCr、Mnであることにより、焼入処理前に、前
記粒界酸化物を還元処理すればよく、しかもMn
の還元領域はCrの還元領域であることによりMn
酸化物を還元処理すれば、Cr酸化物も還元処理
されることがわかる。
減するには、浸炭後の焼入性に影響する合金元素
がCr、Mnであることにより、焼入処理前に、前
記粒界酸化物を還元処理すればよく、しかもMn
の還元領域はCrの還元領域であることによりMn
酸化物を還元処理すれば、Cr酸化物も還元処理
されることがわかる。
そこで、鋼中のMnについて考察すると、Mn
は、炉内酸素と 2Mn＋O2＝2MnO ……(7) からなる反応により酸化されるものである。換言
すれば、Mn酸化物は、第１図に示すようにO2の
量により還元されることになる。この還元領域を
呈するO2量は、前記(7)式の平衡O2分圧の関係を
示す下記(8)式により、理論的に求めることができ
る。
は、炉内酸素と 2Mn＋O2＝2MnO ……(7) からなる反応により酸化されるものである。換言
すれば、Mn酸化物は、第１図に示すようにO2の
量により還元されることになる。この還元領域を
呈するO2量は、前記(7)式の平衡O2分圧の関係を
示す下記(8)式により、理論的に求めることができ
る。
Po2＝ｅ〓FT/1.987T ……(8)
ただし、ΔFT：(7)式に関する自由エネルギ（c
ａｌ／ｍｏｌ） Ｔ：絶対温度（゜Ｋ） すなわち、浸炭性ガス中で処理した鋼材部品に
形成される粒界酸化物は、浸炭処理後、前記粒界
酸化物に対して還元領域の雰囲気中に所定時間保
持すれば、前記粒界酸化物は還元され、その結
果、粒界酸化層は軽減されることになる。
ａｌ／ｍｏｌ） Ｔ：絶対温度（゜Ｋ） すなわち、浸炭性ガス中で処理した鋼材部品に
形成される粒界酸化物は、浸炭処理後、前記粒界
酸化物に対して還元領域の雰囲気中に所定時間保
持すれば、前記粒界酸化物は還元され、その結
果、粒界酸化層は軽減されることになる。
また、前記(8)式により求められた値に基づき、
Mn酸化物に対して実質的に還元領域となるO2分
圧値は、炉内を真空排気装置により排気する方法
あるいは、高純度のN2ガスあるいはArガス等の
不活性ガスを連続的に炉内に供給する方法などに
より容易に得ることができる。
Mn酸化物に対して実質的に還元領域となるO2分
圧値は、炉内を真空排気装置により排気する方法
あるいは、高純度のN2ガスあるいはArガス等の
不活性ガスを連続的に炉内に供給する方法などに
より容易に得ることができる。
第２図は、本発明のガス浸炭焼入方法の代表的
な熱処理サイクル図で、鋼材部品を浸炭温度まで
加熱昇温し、要望される浸炭層に対応する炭素ポ
テンシヤル値に管理された状態でガス浸炭処理
し、引続き、粒界酸化物に対して還元領域に維持
される雰囲気中で保持し、その後焼入処理するこ
とからなるものである。
な熱処理サイクル図で、鋼材部品を浸炭温度まで
加熱昇温し、要望される浸炭層に対応する炭素ポ
テンシヤル値に管理された状態でガス浸炭処理
し、引続き、粒界酸化物に対して還元領域に維持
される雰囲気中で保持し、その後焼入処理するこ
とからなるものである。
つぎに、還元領域の雰囲気を形成する手段とし
て、炉内を真空排気する方法における本発明の具
体的な実施例を説明する。
て、炉内を真空排気する方法における本発明の具
体的な実施例を説明する。
第１図中の破線は、炉内の真空度と炉内O2分
圧との関係を(1)式と(3)式により計算して図示した
もので、例えば、炉内の真空度を５×10-2Torr
とし、炉内温度を860℃とすれば、炉内雰囲気は
合金元素であるCr、Mnに対して還元領域となる
ことを示す。
圧との関係を(1)式と(3)式により計算して図示した
もので、例えば、炉内の真空度を５×10-2Torr
とし、炉内温度を860℃とすれば、炉内雰囲気は
合金元素であるCr、Mnに対して還元領域となる
ことを示す。
なお、必要とする炉内O2分圧値を計算するに
際し、(3)式を使用する理由は、(2)式の反応による
酸化力より(3)式の反応による酸化力が強いことに
よる。
際し、(3)式を使用する理由は、(2)式の反応による
酸化力より(3)式の反応による酸化力が強いことに
よる。
実施例 １
処理材：SCr415丸棒、SCr420歯車
浸炭処理：浸炭温度：930℃
浸炭期：c.p値＝1.2、時間＝105分
拡散期：c.p値＝0.9、時間＝45分
還元処理：拡散後、10-2Torrの真空下で30分保
持 焼入処理：浸炭温度（930℃）から直接油焼入 （結果）SCr415丸棒、SCr420歯車とも粒界酸化
層は５〜10μであつた。
持 焼入処理：浸炭温度（930℃）から直接油焼入 （結果）SCr415丸棒、SCr420歯車とも粒界酸化
層は５〜10μであつた。
比較例 １
実施例１と同一条件で還元処理をしない場合、
粒界酸化層はSCr415丸棒：15〜20μ、SCr420歯
車：15〜20μであつた。
粒界酸化層はSCr415丸棒：15〜20μ、SCr420歯
車：15〜20μであつた。
実施例 ２
処理材、浸炭処理条件は実施例１と同一とし、
還元処理を焼入温度（850℃）までの降温期に同
一条件（10-2Torr×30分）で行い、その後、油
焼入を行つた。その結果、SCr715丸棒、SCr420
歯車とも粒界酸化層は７〜12μであつた。
還元処理を焼入温度（850℃）までの降温期に同
一条件（10-2Torr×30分）で行い、その後、油
焼入を行つた。その結果、SCr715丸棒、SCr420
歯車とも粒界酸化層は７〜12μであつた。
比較例 ２
実施例２と同一条件で還元処理をしない場合、
粒界酸化層はSCr415丸棒：15〜20μ、SCr420歯
車：15〜25μであつた。
粒界酸化層はSCr415丸棒：15〜20μ、SCr420歯
車：15〜25μであつた。
実施例 ３
処理材：SCM420H丸棒
浸炭処理：浸炭温度：930℃
浸炭期：c.p値＝1.1、時間＝120分
還元処理：浸炭期後、５×10-2Torrの真空下で
30分保持し（拡散期）、その後焼入温度（850
℃）まで20分で降温 焼入温度：降温後、油焼入 （結果）粒界酸化層は５μ以下であつた。
30分保持し（拡散期）、その後焼入温度（850
℃）まで20分で降温 焼入温度：降温後、油焼入 （結果）粒界酸化層は５μ以下であつた。
比較例 ３
処理材：SCM420丸棒
浸炭処理：浸炭温度：930℃
浸炭期：c.p値＝1.1、時間＝105分
拡散期：c.p値＝0.9、時間＝45分
焼入処理：拡散後、焼入温度（850℃）に降温
し、油焼入 （結果）粒界酸化層は15〜20μであつた。
し、油焼入 （結果）粒界酸化層は15〜20μであつた。
前記実施例で示すように、焼入処理前に、浸炭
材を該浸炭材の粒界酸化物に対して還元領域であ
る雰囲気中に所定時間保持すれば、粒界酸化層が
減少していることが確認できた。
材を該浸炭材の粒界酸化物に対して還元領域であ
る雰囲気中に所定時間保持すれば、粒界酸化層が
減少していることが確認できた。
また、炉内の真空度は、理論値により求めた
O2分圧よりやや低くしてテストした結果におい
ても同様の効果を得ることができた。これは、鋼
中に１％程度含有するMnに関しては、理論値よ
りも高い酸素分圧で平衡するものと考えられる。
O2分圧よりやや低くしてテストした結果におい
ても同様の効果を得ることができた。これは、鋼
中に１％程度含有するMnに関しては、理論値よ
りも高い酸素分圧で平衡するものと考えられる。
そして、還元処理条件の保持を、850℃×１時
間、850℃×２時間、930℃×１時間、930℃×２
時間と変更して実施したところ、ほぼ前記実施例
と同一の傾向が認められたが、同一真空度であれ
ば、温度の高い方がより粒界酸化層が軽減されて
いた。
間、850℃×２時間、930℃×１時間、930℃×２
時間と変更して実施したところ、ほぼ前記実施例
と同一の傾向が認められたが、同一真空度であれ
ば、温度の高い方がより粒界酸化層が軽減されて
いた。
さらに、粒界酸化物の還元処理は、拡散期工程
の後半あるいは、降温保持後に行つても同様の効
果が得ることが判明した。
の後半あるいは、降温保持後に行つても同様の効
果が得ることが判明した。
すなわち、浸炭処理後、焼入温度まで降温させ
る場合は、降温保持工程時に、また、浸炭処理
後、直ちに焼入処理する場合は拡散期の後半にお
いて、還元処理を行うものである。また、焼入処
理は、油焼入処理に限らず、ガス焼入処理であつ
てもよい。さらに、還元領域の雰囲気を形成させ
る手段としては、高純度のN2ガスあるいはArガ
ス等のO2を含まない雰囲気ガスを供給してもよ
いが、真空排気方式を採用すれば、炉内のO2分
圧と真空度の関係に基づき、容易に炉内雰囲気を
管理することができる。
る場合は、降温保持工程時に、また、浸炭処理
後、直ちに焼入処理する場合は拡散期の後半にお
いて、還元処理を行うものである。また、焼入処
理は、油焼入処理に限らず、ガス焼入処理であつ
てもよい。さらに、還元領域の雰囲気を形成させ
る手段としては、高純度のN2ガスあるいはArガ
ス等のO2を含まない雰囲気ガスを供給してもよ
いが、真空排気方式を採用すれば、炉内のO2分
圧と真空度の関係に基づき、容易に炉内雰囲気を
管理することができる。
＜発明の効果＞
以上説明で明らかなように、本発明によれば、
吸熱型ガスの浸炭性ガスによる浸炭処理工程の後
に、粒界酸化物に対して還元領域となる高温雰囲
気中で、浸炭処理を所定時間保持して、焼入処理
するので、浸炭処理時に形成された粒界酸化層が
軽減でき、それだけ疲労強度を向上させることが
でき、また、粒界酸化層の軽減により後工程であ
るシヨツト処理を省略することも可能となる。
吸熱型ガスの浸炭性ガスによる浸炭処理工程の後
に、粒界酸化物に対して還元領域となる高温雰囲
気中で、浸炭処理を所定時間保持して、焼入処理
するので、浸炭処理時に形成された粒界酸化層が
軽減でき、それだけ疲労強度を向上させることが
でき、また、粒界酸化層の軽減により後工程であ
るシヨツト処理を省略することも可能となる。
第１図は、浸炭時の合金元素の酸化、還元特性
を示す図で、第２図は本発明のガス浸炭焼入方法
の熱処理サイクル図である。
を示す図で、第２図は本発明のガス浸炭焼入方法
の熱処理サイクル図である。
Claims (1)
- １ Mn、Cr等を含有する鋼材部品を浸炭性ガス
雰囲気中で浸炭処理したのち、浸炭時に形成する
粒界酸化物に対して還元領域の高温雰囲気中で所
定時間保持して前記粒界酸化物を還元し、その
後、焼入処理を行うことを特徴とするMn、Cr等
を含有する鋼材部品のガス浸炭焼入方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22656884A JPS61104066A (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | 鋼材部品のガス浸炭焼入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22656884A JPS61104066A (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | 鋼材部品のガス浸炭焼入方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61104066A JPS61104066A (ja) | 1986-05-22 |
| JPS6147902B2 true JPS6147902B2 (ja) | 1986-10-21 |
Family
ID=16847197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22656884A Granted JPS61104066A (ja) | 1984-10-27 | 1984-10-27 | 鋼材部品のガス浸炭焼入方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61104066A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5837282B2 (ja) * | 2010-03-15 | 2015-12-24 | オリエンタルエンヂニアリング株式会社 | 表面改質方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5129703A (ja) * | 1974-09-06 | 1976-03-13 | Seiko Instr & Electronics | Ryutaitoshutsusochi |
-
1984
- 1984-10-27 JP JP22656884A patent/JPS61104066A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61104066A (ja) | 1986-05-22 |
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