JPS61501053A - 厚さの連続的測定装置 - Google Patents

厚さの連続的測定装置

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JPS61501053A
JPS61501053A JP60500616A JP50061685A JPS61501053A JP S61501053 A JPS61501053 A JP S61501053A JP 60500616 A JP60500616 A JP 60500616A JP 50061685 A JP50061685 A JP 50061685A JP S61501053 A JPS61501053 A JP S61501053A
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electrode
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JP60500616A
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ネスケ、オイゲン
ベルクマン、エツクハルト
ベツヘム、カール‐ハインツ
クルムス、カール
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フラウンホ−フア−−ゲゼルシヤフト ツ−ル フエルデルング デア アンゲヴアンテン フオルシユング エ−.フアウ.
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/542Controlling the film thickness or evaporation rate
    • C23C14/545Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement on deposited material
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 厚さの連□続的測定装置 この発明は、評価回路の入力端子と接続され電界を発生する2つの電極を備えた 基準ゾンデの上の堆積厚さを測定することによって基礎材料の上に被覆装置によ って生じた物質堆積層の厚さを連続的に測定する装置であって、前記基準ゾンデ は、基礎材料の近くの被覆装置において絞り孔としての役割りをなす少くとも1 つの人口を備えたハウジング内に設けられ、交流電圧が印加される形式のものに 関する。
西ドイツ特許出願公開第3120443号公報から知られたこのような装置では 、水晶共振子測定ヘッドが使用され、この場合には電界を発生する2つの電極が 水晶共振子の2つの面に設けられ、交流電圧が印加された場合には、水晶共振子 が励起されて振動し評価回路の発振回路の周波数を決定するように交番電界か起 生される。水晶共振子の共振周波数は、被覆の過程において変化する層の厚さに 依存し、従って、被覆時における周波数の変化を評価することによって被覆厚さ を測定することができる。厚さの測定を成る程度正確にするため、評価可能な周 波数変化が僅少なパーセントの変化に縮小されている。さらに、公知の装置は、 水晶の被覆か増加するに伴って感度が著しく低減するため、数マイクロメータの 範囲の層厚さ、または1秒間に数マイクロメータの速度には適しない。このため 、水晶共振子の技術において不可避な疲れ現象を回避するため、水晶交換装置が 使用される。
西ドイツ特許出願公告第2923066号公報から知られている装置の場合には 、渦電流方式によって導電材料上の非導電層の厚さを測定するため、被覆処理の 終了後にサーチコイルの装着が行われる。従って。
被覆処理の過程を監視するセとは不可能である。
西ドイツ特許出願公告第1017372号公報において、同様に渦電流効果およ び誘導方式を使用した厚さ測定装置が記載されている。この厚さ測定装置はサー チコイルを使用しており、このサーチコイルは。
サーチコイルの負荷期間中、減衰可能な振動回路に接続される。サーチコイルは 、このコイルの周波数で振動する振動回路と接続され1発振器の動作周波数に依 存して、大きさに差異はあるか1層物質に浸透する渦電流を発生する。発振器の 周波数を変化させる場合。
高周波電流の誘導は、低周波数の場合より少い浸透深さで行われる。この理由か ら1発振器の負荷は1周波数の減少に伴って発振器の振動が最終的になくなるま で高くなり、その場合に生しる周波数か被覆厚さの量に相当する。
本発明の基本的な目的は、広い厚さの範囲に亘って正確な測定を連続的に行なう ことが可能な前頭に述べた形式の装置を提供することにある。
この目的は1本発明によれば、基準ゾンデは電界を発生する2つの電極の電界内 に設けられて被評価信号を引き出す固定した測定電極を備え、電界を発生する2 つの電極は互に180°の位相差をもつ交流電圧が印加され、この交流電圧の振 幅は、電界を発生する双方の電極によって測定電極に生じる電流が互に補償され るように、少くとも測定開始時に評価回路の電界発生電極の駆動部によって調整 可能であるようにすることによって達成される。
逆相の交流電圧が印加された電極によって、平衡状態において完全に相殺する電 流が、 71111定電極に生じる。測定電極上の物質の堆積による電界の影響 が生じた場合には、測定電極に測定信号が発生し、この信号は1測定W g6上 の堆積厚さ測定用として接続された評価回路において1層の厚さについて評価さ れる。
本発明の好適な実施例において、電界発生電極はリング状に形成され、 1fl ll定電極は、縦軸と直角に2つのリング状電極の間に設けられる。このように して、被覆材料が、電界発生電極の中の開口部を通して、 111+1定電匪の 一方の側に到達する。
測定電極はでラミック(磁器)円板の両側に設けられ、基礎上としてニノナルか らなる接着、層を備えた金の層かみ構成することか好ましい。離間するため、磁 器円板の両側、即ち磁器リングと磁器円板との間に。
信号賃と関連する金属リングが設けられている。
その他の好適な実施1様は、実施聾様項に示されている。
本発明の実施例が図に示されている。第1図は本装置のす準ゾンデの軸方向の断 面図、第2図は基準ゾンデを部分的に示す斜視図、第3図は磁器円板に設けられ た測定電極および磁器リングに設けられた電界発生電極を示す斜視図、第4図は 基準ゾンデに接続される評価回路の結線図である。
第1図に、はぼ円筒形の基準ゾンデ50か示されており、この基準ゾンデは、β の厚さを測るために彼測定基礎祠料自体には設けられずに9基礎材料を被覆する のに使用される粒子流に同様に曝された基準装置の役割をなし、その場合、基準 ゾンデ50において測定された粕の厚さを評価する際に、基礎材料と基準ゾンデ との異なる位置か計算によって考慮される。
第1図に示された基準ゾンデ50は、はぼ円筒形の金属ハウジング1を備え、そ の端部はフランジ部2および3に移行している。金属ハウジング1は例えば約2 0關の直径および同じく約20mmの軸方向の長さを有している。
フランジ部23よびフランジ部3に夫々人口4および5が設けられている。金属 ハウジ〉グ1によって包囲さねた空間部は、磁器円板6によって2つの内部空間 7および8に分割され、これらの内部空間は入口4および5を通して近づくこと ができる。
磁器円板6は、その中央部分において両側が円板状の金属層によって覆われてお り、この金属層は、接着層としてのニッケル上に設けられた例えば018mの厚 さの金の層からなっている。これらの2つの金属層は2両側の1剣定電極9を形 成し、第3図に示すように、磁器円板6の切込み部11に埋め込まれた金属被覆 層からなる橋絡部10によって互に電気的に接続されている。
1flll定電極9は、第1図に示された導線12に接続され、導線12は橋絡 部lOの孔13に納められ、そこで測定電極9と電導的に接続されている。第4 図に示すように、導線12の他方の端部は、狭帯域増幅器37の入力端子と接続 されている。
第1図および第2図に示すように、磁器円板6は。
アースと電気的に接続された上部金属リング14および下部金属リング15に接 している。これらの金属リング14、15は、一方では磁器部材間の仕切りブロ ックとして、他方ではスペーサリングとしての役割をなしてぃ上部金属リング1 4は上部磁器リング16を支持しており、上部磁器リングの形状は、第3図にお いて知見することかできる。第1リング状電極17が上部磁器リング16の内周 面に沿って形成゛されて該電極17に交流電圧か導線18を介して印加され、従 って電極17は、蒸気流またはその他の粒子流が入口4を通り測定部としての内 部空間7に進入する場合に、基準部としての役割をする内部空間8の領域におけ る電界発生電極として作用することができる。
導線工8は、切込み部19内に埋め込まれた端子部材20を介して、電極17と 接続される。上部磁器リング16は、その上側が、磁器または金属からなるスペ ーサリング21に接しているため、電極17とフランジ部3との間の短絡を心配 する必要はない。
第1図において磁a:円板6の上部に構成された基準部と同様に、磁器円板6の 下方に測定部が構成されている。下部金属リング15は、下部磁器リング22に 接しており、下部磁器リング22は、その内周面に沿って第2リング状電極23 を備えている。第2リング状電極は、′@3図に見られるように磁器リング22 の切込み部25に埋め込まれた端子部材24と電気的に接続されている。第2リ ング状電極23は、第1図および第4図に示されている導線26を介して交流電 圧か印加され、この交流電圧は、第1リング状電極17の交流電圧に対して18 0°の位相差を有し、この電圧は、第4図に示される回路によって、特に測定開 始時に測定電極9の場所において電位が零になるように調整される。
金属または磁器からなるスペーサリング28は1弾性止め輪27によって下部磁 器リング22に押圧されている。
物質の堆積量は、特に蒸着厚さの連続測定を行なう場合、第1図に全体が示され 第2図および第3図に部分的に示された基準ゾンデ50が第4図に示すように電 気的に接続される。その場合9機械的には1、例えば内部空間7は蒸気流などに 曝されて測定部としての役割をなし、他方、内部空間8は、基準部としての役割 をなして蒸気流などの陰になるように、金属ハウジング1が配置される。
第1リング状電極17に交流電圧を供給し、第2リング状電極23に逆F目の交 流電圧を供給するため、これらの電極は導線18および2Gによって増幅器29 および3oの幅安定発振器31を通って直接給電されるが、増幅器30は、18 0’の位相差をもち振幅が可変な電圧が供給される。従って1発振器31の出力 電圧は、180°の位相差を生じる移相器32を介し、さらに分圧計33および 抵抗34を介して増幅器30の入力端子に達する。これにより増幅器30の入力 電圧か分丁計33によって手動で調整しi)るたけでなく2移1[]器32の出 力電圧は、″S点補正回路35および抵抗36を介して増幅器30の入力端子に 接続される。測定電極9上における導電性または非導電性の層の堆積による平衡 の喪失によって、測定電極9の上で電位か再び零になるように、第2リング状毛 極23上の電圧か2零点補正回路35によって自動的に調整される。そのほか、 零点補正回路35は、電極装置の機械的変化および電子装置の長時間ドリフトを 補償する役割をする。
測定過程の最初に、測定電極9の内f部空間7に向いた側に物質の堆積がなく、 上述の零点調整が行われている場合には、測定電極9が電位零にあり、従って。
狭帯域増幅器37の入力端子に接続される導線12には電流が流れない。しかし ながら、測定電極9の上の物質の堆積による平衡の喪失によって、電流が導線1 2に発生した場合には1発振器31の周波数に同調された増幅器37によって、 入力信号の極めて大きな増幅か行われ、従って、極めて僅少な層の厚さを検出す ることができ、届の厚さが個か0.1μmである場合、またはここに述べる実施 例において、1anの層厚さの測定上限値まで0.1μm変化した場合でも、導 電性の堆積物の場合にはリニアに検出することができる。非導電性の堆積物も同 様に検出することが可能であり、この場合11層の厚さと測定信号との間の非リ ニアな関係は1校正曲線1例えばマイクロプロセッサによって補正することがで きる。
さらに、′第4図において知見されるように、増幅器37の出力端子は位相判別 整流器38と接続され、この位相判別整流器38は、移相器39を介して基準信 号が入力され、大きさおよび位相に応じて方向判別出力信号を供給する。
整流器38の出力信号か積分段40に供給され、この積分段40において、大き さか測定電極9上の堆積物の厚さに依存した測定信号を発生するが、この場合、 導電性の物質の場合には層の厚さと測定値との間にリニアな関係が存在する。積 分段40は、一方では測定値処理段41と接続され、他方では零点補正回路35 と接続されている。
基準ゾンデの接続は、被覆か行われるタンクのブッシングまでは半硬式同軸ケー ブルによって行われ、そこから第4図に示す回路までは通常の同軸ケーブルによ って行われる。
国際調査報告 ’u”q”、IE−、< :q ’=;E ::iT二:’jlAT:0NAL  SZ、’−R:工 RニフOR’: A1:>v::p、s(:+、:二こ] Iン二 2.??−:Clユ、τ:Sコ丁 No、 ?Cτ/フE B5C0C C,5(S、: 863Q) U5−Am 327884コ さIor、eD=−ヨー LO17:L72 > Iona

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.評価回路の入力端子と接続され電界を発生する2つの電極を備えた基準ゾン デの上の堆積厚さを測定することによって基礎材料の上に被覆装置によって生じ た物質堆積層の厚さを連続的に測定する装置であって,前記基準ゾンデは,基礎 材料の近くの被覆装置において絞り孔としての役割りをなす少くとも1つの入口 を備えたハウジング内に設けられ,交流電圧が印加される形式のものにおいて, 基準ゾンデ(50)は電界を発生する2つの電極(17,23)の電界内に設け られて被評価信号(12)を引き出す固定した測定電極(9)を備え,電界を発 生する2つの電極(17,23)は互に180゜の位相差をもつ交流電圧が印加 され,この交流電圧の振幅は,電界を発生する双方の電極(17,23)によっ て測定電極(9)に生じる電流が互に補償されるように,少くとも測定開始時に 評価回路(29ないし41)の電界発生電極(17,23)の駆動部(29ない し36)によって調整可能であることを特徴とする厚さを連続的に測定する装置 。
  2. 2.電界発生電極(17,23)は,リング状に形成されることを特徴とする請 求の範囲第1項記載の装置。
  3. 3.測定電極(9)は,2つのリング状電極(17,23)の間に,その縦軸と 直角に設けられることを特徴とする請求の範囲第2項記載の装置。
  4. 4.測定電極(9)は磁器円板(6)の両側に設けられることを特徴とする請求 の範囲第3項記載の装置。
  5. 5.磁器円板(6)は,両側の中央部に,接着層および薄い導電層を備えること を特徴とする請求の範囲第4項記載の装置。
  6. 6.電界発生電極(17,23)は,磁器リング(16,22)の内周面に沿っ て設けられることを特徴とする請求の範囲第2項ないし第5項のいずれかに記載 の装置。
  7. 7.両側の測定電極(9)を支持する磁器円板(6)と,電界発生電極(17, 23)を支持する磁器リング(16,22)との間に,スペーサリング(14, 15)が設けられることを特徴とする請求の範囲第1項ないし第6項のいずれか に記載の装置。
  8. 8.磁器円板(6),磁気リング(16,22)およびスペーサリング(14, 15)が軸方向に配列して金属ハウジング(1)の中に設けられ,この金属ハウ ジング(1)は,少くとも一方の側に磁器リング(16,22)の内部空間(8 ,7)に並置開口する入口(4,5)を備えることを特徴とする請求の範囲第4 項,第6項,第7項のいずれかに記載の装置。
  9. 9.スペーサリング(14,15)は導電性の金属からなることを特徴とする請 求の範囲第7項記載の装置。
  10. 10.金属ハウジング(1)は円筒形をなし,磁器リング(16,22)の軸方 向の外側は,金属ハウジング(1)の内部に向ったフランジ部(3,2)に対し て支えられることを特徴とする請求の範囲第8項または第9項記載の装置。
JP60500616A 1984-01-14 1985-01-11 厚さの連続的測定装置 Pending JPS61501053A (ja)

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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3505387C2 (de) * 1985-02-16 1987-04-30 W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau Sensor zur Messung dielektrischer Eigenschaften von Meßobjekten im elektrischen Feld
US4943446A (en) * 1985-09-12 1990-07-24 Dennison Manufacturing Company Metallization of substrates
US4924172A (en) * 1988-08-25 1990-05-08 Kaman Instrumentation Corporation Capacitive sensor and electronic circuit for non-contact distance measurement
AU614904B2 (en) * 1989-07-31 1991-09-12 American Telephone And Telegraph Company Measuring and controlling the thickness of a coating on a elongated article
US5117192A (en) * 1990-01-12 1992-05-26 Leybold Inficon Inc. Control circuitry for quartz crystal deposition monitor
DE102013108988A1 (de) * 2013-08-20 2015-03-12 Von Ardenne Gmbh Vakuumbeschichtungsanordnung

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1017372B (de) * 1956-03-02 1957-10-10 Gen Motors Corp Dickenmessgeraet
US3278843A (en) * 1962-10-01 1966-10-11 Hughes Aircraft Co Thickness rate monitoring system for depositing dielectric films
FR2136999B1 (ja) * 1971-05-11 1973-05-11 Radiotechnique Compelec
US4165483A (en) * 1978-01-31 1979-08-21 Sundstrand Data Control, Inc. Capacitive pick-off circuit
DE2923066C3 (de) * 1979-06-07 1982-01-14 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München Verfahren zur Schichtdickenmessung von elektrisch nicht leitenden Schichten auf elektrisch leitenden Material nach dem Wirbelstromverfahren
CH644722A5 (de) * 1980-07-21 1984-08-15 Balzers Hochvakuum Schwingquarzmesskopf.

Also Published As

Publication number Publication date
EP0167606B1 (de) 1987-12-23
DE3561263D1 (en) 1988-02-04
EP0167606A1 (de) 1986-01-15
DE3401140C1 (de) 1985-08-29
WO1985003120A1 (fr) 1985-07-18

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