JPS6150106A - 耐放射線性のマルチプル光フアイバ - Google Patents
耐放射線性のマルチプル光フアイバInfo
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- JPS6150106A JPS6150106A JP59171716A JP17171684A JPS6150106A JP S6150106 A JPS6150106 A JP S6150106A JP 59171716 A JP59171716 A JP 59171716A JP 17171684 A JP17171684 A JP 17171684A JP S6150106 A JPS6150106 A JP S6150106A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
利 用 分 野
本発明は、イメージガイドとして好ましく用いられるＯ
Ｈ基含有量が低濃度の耐放射線性マルチプル 従来の技術 光ファイバの多数本を束ねてなるマルチプル光ファイバ
を応用した技術に、画像の直接伝送を可能にしたイメー
ジガイドがある。
Ｈ基含有量が低濃度の耐放射線性マルチプル 従来の技術 光ファイバの多数本を束ねてなるマルチプル光ファイバ
を応用した技術に、画像の直接伝送を可能にしたイメー
ジガイドがある。
従来、そのイメージガイドとしては多成分ガラス系光フ
ァイバの多数本を整列させて形成したものが知られてい
た。しかし、これは光伝送損失が大きくてイメージガイ
ドとして実用に供しうる長さは約６ｍが限度である゛こ
とに加えて、耐放射線性にも劣って原子力施設などの放
射線を被曝するところないしそのおそれのあるところで
は実用に供し得ないなどの欠点があった。
ァイバの多数本を整列させて形成したものが知られてい
た。しかし、これは光伝送損失が大きくてイメージガイ
ドとして実用に供しうる長さは約６ｍが限度である゛こ
とに加えて、耐放射線性にも劣って原子力施設などの放
射線を被曝するところないしそのおそれのあるところで
は実用に供し得ないなどの欠点があった。
一方、高純度石英ガラス製コアを有する元ファイバの多
数本を、隣接するものが相互に融着した状態に束ねてな
るイメージガイドが提案されている。これは、上記の多
成分ガラス系元ファイバ製イメージガイドの光伝送損失
性を改善して実用長が約１００ｍのイメージガイドの形
成を可能としたものであり、また耐放射線性も改碧した
ものである。
数本を、隣接するものが相互に融着した状態に束ねてな
るイメージガイドが提案されている。これは、上記の多
成分ガラス系元ファイバ製イメージガイドの光伝送損失
性を改善して実用長が約１００ｍのイメージガイドの形
成を可能としたものであり、また耐放射線性も改碧した
ものである。
解決すべき問題三
しかしながら、従来の高純度石英ガラス製コアを有する
光ファイバも耐放射線性の点では十分に満足できるもの
でなかった。すなわち、例えば該光ファイバからなるイ
メージガイドの放射線被曝による劣化で、特定波畏の可
視光線の伝送損失が大きくなって本来は無色であるべき
透過光線が発色化するなどの現象を生じたシするなど、
その耐劣化性や寿命などの来月性の点で十分にｆａ足で
きるものでなかった。
光ファイバも耐放射線性の点では十分に満足できるもの
でなかった。すなわち、例えば該光ファイバからなるイ
メージガイドの放射線被曝による劣化で、特定波畏の可
視光線の伝送損失が大きくなって本来は無色であるべき
透過光線が発色化するなどの現象を生じたシするなど、
その耐劣化性や寿命などの来月性の点で十分にｆａ足で
きるものでなかった。
問題点の解決手段
本発明者らは、上記の問題点を克服してよシ一層耐放射
線性、珠に可視領域光線の低損失維持性にすぐれるマル
チプル光フアイバを開発するために鋭意研究を徂ねた結
果、特殊な光ファイバからなるマルチプル光ファイバが
その目的１ｒ：達成しうろことを見出し、本発明をなす
に至った。
線性、珠に可視領域光線の低損失維持性にすぐれるマル
チプル光フアイバを開発するために鋭意研究を徂ねた結
果、特殊な光ファイバからなるマルチプル光ファイバが
その目的１ｒ：達成しうろことを見出し、本発明をなす
に至った。
すなわち、本発明は、酸素グヲズマ法で作製した高純度
石英ガラスからなるＯＨ基含有量が１０〜３００ ｐｐ
ｍのコアの外周に、Ｂ系及びＦ°系のドーパントを含有
する石英ガラス系クラ・ノド層を設けてなる光ファイバ
の多数本を、光ファイバの隣接するもの同士が相互に融
着した伏態に束ねてなる耐放射線性マルチプル光ファイ
バを提供するものである。
石英ガラスからなるＯＨ基含有量が１０〜３００ ｐｐ
ｍのコアの外周に、Ｂ系及びＦ°系のドーパントを含有
する石英ガラス系クラ・ノド層を設けてなる光ファイバ
の多数本を、光ファイバの隣接するもの同士が相互に融
着した伏態に束ねてなる耐放射線性マルチプル光ファイ
バを提供するものである。
これまで、紫外線伝送用光ファイバはそのコアにおける
ＯＨ基含有量が高濃度であるほうが光伝送損失が少ない
ことなどから、耐放射線性の点でもＯＨ基の含有濃度の
高いほうが有利でるると考えられていた。
ＯＨ基含有量が高濃度であるほうが光伝送損失が少ない
ことなどから、耐放射線性の点でもＯＨ基の含有濃度の
高いほうが有利でるると考えられていた。
したがって、ＯＨ基含有量の少ないコアからなる光ファ
イバで形成されたマルチプル光フアイバが耐放射線性に
すぐれることは意外なことであり九。しかも、ＯＨ基の
低濃度側にピーク的な耐性範囲があったことはより予想
外のことでめった。
イバで形成されたマルチプル光フアイバが耐放射線性に
すぐれることは意外なことであり九。しかも、ＯＨ基の
低濃度側にピーク的な耐性範囲があったことはより予想
外のことでめった。
本発明のマルチプル光フアイバ１における光ファイバ２
は、Ｒ累プラズマ法で作製した高純度石英ガラスからな
るＯＨ基含有量が１０〜３００ ｐｐｍ。
は、Ｒ累プラズマ法で作製した高純度石英ガラスからな
るＯＨ基含有量が１０〜３００ ｐｐｍ。
好ましくは２０〜２００ ｐｐｍ 、よル好ましくは４
０〜１００ ｐｐｍのコア３と、コアの外周にＢ系及び
Ｆ系のドーパントを含有する石英ガラス系クラッド層４
を有するものである（第１図）。コアのＯＨ基含有量が
１０〜３００ ｐｉ）ｍの範囲外であると１、光ファイ
バひいてはマルチプル光フアイバの耐放射線性に劣シ好
ましくない。また、光ファイバにおけるコア径（ｄｌ）
とクラ・ンド層の外径（ｄ２）との比（ｄＢ／ｄ２）は
０．５５〜０．３、なかんづ＜０．６〜０．７５が適当
であり、コアとクラ・ノド層の屈折率差（Δｎ）は０．
０１以上、なかんづ＜０．０１〜０．０１５が適当であ
る。さらに、マルチプル光フアイバ中における光ファイ
バのコア、クラッド層は太さないし厚さが大きいほど耐
放射線性の点で有利である。
０〜１００ ｐｐｍのコア３と、コアの外周にＢ系及び
Ｆ系のドーパントを含有する石英ガラス系クラッド層４
を有するものである（第１図）。コアのＯＨ基含有量が
１０〜３００ ｐｉ）ｍの範囲外であると１、光ファイ
バひいてはマルチプル光フアイバの耐放射線性に劣シ好
ましくない。また、光ファイバにおけるコア径（ｄｌ）
とクラ・ンド層の外径（ｄ２）との比（ｄＢ／ｄ２）は
０．５５〜０．３、なかんづ＜０．６〜０．７５が適当
であり、コアとクラ・ノド層の屈折率差（Δｎ）は０．
０１以上、なかんづ＜０．０１〜０．０１５が適当であ
る。さらに、マルチプル光フアイバ中における光ファイ
バのコア、クラッド層は太さないし厚さが大きいほど耐
放射線性の点で有利である。
本発明のマルチ１μ光フアイバの形成に用いる光ファイ
バの作製は例えば下記のようにして行うことができる。
バの作製は例えば下記のようにして行うことができる。
すなわち、蒸留水バグリング法により水蒸気をかむ酸素
ガスを酸素プラズマ炎中に供給し、酸素プラズマ炎の温
度をプラズマ最低維持温度ないし４５０００℃、なかん
づく約３００００℃に調節しつつ、気相ベルヌーイ法の
適用下ハロゲン化ケイ素のような含ケイ累化合物の酸化
反応、形成されたケイ素酸化物粉末の溶融化を４５００
〜５５００℃で行フてコア材を形成し、他方、Ｍ、Ｃ，
Ｖ、Ｄ、方式によシ石英ガラス管の内周に例えばＢ Ｆ
Ｂ ｓ ＢＣＩ Ｂ −Ｓ Ｉ Ｆ ４などを用いて
Ｂ系及びＦ系のドーパントがドープされた合成石英ガラ
ス層を所定の厚さに形成し、このガラス管に前記コア材
を挿入してロッド・イン・チーーグ法を適用することに
よシフ°リフォームを得て、これを加熱下Ｋ例えばｔｏ
ｏ／ｚｍ〜１簡の太さのものに線引きすることによシ行
うことができる。
ガスを酸素プラズマ炎中に供給し、酸素プラズマ炎の温
度をプラズマ最低維持温度ないし４５０００℃、なかん
づく約３００００℃に調節しつつ、気相ベルヌーイ法の
適用下ハロゲン化ケイ素のような含ケイ累化合物の酸化
反応、形成されたケイ素酸化物粉末の溶融化を４５００
〜５５００℃で行フてコア材を形成し、他方、Ｍ、Ｃ，
Ｖ、Ｄ、方式によシ石英ガラス管の内周に例えばＢ Ｆ
Ｂ ｓ ＢＣＩ Ｂ −Ｓ Ｉ Ｆ ４などを用いて
Ｂ系及びＦ系のドーパントがドープされた合成石英ガラ
ス層を所定の厚さに形成し、このガラス管に前記コア材
を挿入してロッド・イン・チーーグ法を適用することに
よシフ°リフォームを得て、これを加熱下Ｋ例えばｔｏ
ｏ／ｚｍ〜１簡の太さのものに線引きすることによシ行
うことができる。
上記の方法で得た場合には、光ファイバはその最外層に
石英ガラス管に相当するサポート層５を有することとな
るＣ第２図）。本発明においては、これをそのまま用い
てサポート層５付きの光ファイバ２からなるマルチ１μ
光フアイバとしてもよいし、サポート層を例えば火炎研
磨（ｆｉｒｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇ ）法などで除去して
コアとクラッド層のみからなる光ファイバとしこれを用
いてマルチプル光ファイバとしてもよい。サポート層は
通常、天然石英ガラスのような耐放射線性に劣るものか
らなっておシ、この場合にはサポート層が影響して全体
の耐放射線性を低下させることとなるので、サポート層
のない２層構造のものが好ましく用いられる。
石英ガラス管に相当するサポート層５を有することとな
るＣ第２図）。本発明においては、これをそのまま用い
てサポート層５付きの光ファイバ２からなるマルチ１μ
光フアイバとしてもよいし、サポート層を例えば火炎研
磨（ｆｉｒｅｐｏｌｉｓｈｉｎｇ ）法などで除去して
コアとクラッド層のみからなる光ファイバとしこれを用
いてマルチプル光ファイバとしてもよい。サポート層は
通常、天然石英ガラスのような耐放射線性に劣るものか
らなっておシ、この場合にはサポート層が影響して全体
の耐放射線性を低下させることとなるので、サポート層
のない２層構造のものが好ましく用いられる。
上記の光ファイバを用いての本発明のマルチプル光フア
イバの製造は、光ファイバの多数本、例えば１０００〜
５００００本を束ねて得た結束体を例えば１３００〜２
２００℃の温度に加熱して軟化させ、これを線引きして
所定の太さ例えば０．４〜ａｍ、なかんづく１〜２Ｍの
ものとするととＫよシ行うことができる。本発明におい
ては、マルチプル光フアイバ内における光ファイバはそ
のコアが５〜８０μｍであり、クラッド層（Ｔｌ）が１
．５〜１０μｍであるものが耐放射線性の点で好ましい
。
イバの製造は、光ファイバの多数本、例えば１０００〜
５００００本を束ねて得た結束体を例えば１３００〜２
２００℃の温度に加熱して軟化させ、これを線引きして
所定の太さ例えば０．４〜ａｍ、なかんづく１〜２Ｍの
ものとするととＫよシ行うことができる。本発明におい
ては、マルチプル光フアイバ内における光ファイバはそ
のコアが５〜８０μｍであり、クラッド層（Ｔｌ）が１
．５〜１０μｍであるものが耐放射線性の点で好ましい
。
また、マルチプル光フアイバを製造するに際しては、例
えば石英ガラスパイプなどを用いてこれに光ファイバを
充てんした状態で線引きし、相互に融着した光フアイバ
群の外周にさらに当該パイプに相当するスキン層が融着
したものとすることが、得られるマルチ１μ光フアイバ
の可トウ注や折れにくさなどの点で好ましい。
えば石英ガラスパイプなどを用いてこれに光ファイバを
充てんした状態で線引きし、相互に融着した光フアイバ
群の外周にさらに当該パイプに相当するスキン層が融着
したものとすることが、得られるマルチ１μ光フアイバ
の可トウ注や折れにくさなどの点で好ましい。
発明の効果
本発明のマルチ１μ光フアイバは、耐放射線性にすぐれ
ている。殊に、放射線照射下における可視領域光線の低
損失維持性にすぐれている。
ている。殊に、放射線照射下における可視領域光線の低
損失維持性にすぐれている。
突 施 例
Ｓｉご１４、Ｈ２０含有酸素ガスを用いて気相ぺμヌー
イ法、酸累プヲズマ法、蒸留水バグリング法の適用下、
直接酸化法で形成したＯＨ基含有量約５０ｐｐｍのコア
材（外径１１＋ａ＋ 、 ｎ習： １．４５９ ）と、
５ｔＣ１４、ＢＦ、、０２、天然石英ガラス管（外径２
６ ｖｍ 。
イ法、酸累プヲズマ法、蒸留水バグリング法の適用下、
直接酸化法で形成したＯＨ基含有量約５０ｐｐｍのコア
材（外径１１＋ａ＋ 、 ｎ習： １．４５９ ）と、
５ｔＣ１４、ＢＦ、、０２、天然石英ガラス管（外径２
６ ｖｍ 。
肉厚１．５鵡、ｎ習： １．４５９ ）を用いてＭ 、
Ｃ、Ｖ 、 ｐ＋、法の適用下に形成したＢ、Ｆ系ドー
プド石英ガラス層（ｎ”ｎ ： １．４４７ ）を内周
に有する該ガラス管とを用い、ロッド・イン・チューブ
法を適用して３層構造のプリフォーム（外径１８．９ｍ
）を得たのち、これを加熱（１９００℃）下に線引きし
て外径ａＯＯμｍの光ファイバを得た。
Ｃ、Ｖ 、 ｐ＋、法の適用下に形成したＢ、Ｆ系ドー
プド石英ガラス層（ｎ”ｎ ： １．４４７ ）を内周
に有する該ガラス管とを用い、ロッド・イン・チューブ
法を適用して３層構造のプリフォーム（外径１８．９ｍ
）を得たのち、これを加熱（１９００℃）下に線引きし
て外径ａＯＯμｍの光ファイバを得た。
次に、上記の元ファイバ（長さ２０３）の６０００本を
断面が最密整列充てん形状となるように束ねて、その一
端を石英ガラス管に挿入したのち加熱融着させてこれを
ツーＩ酸水溶液（２０１ｓ量％）中で、さらに蒸留水中
で超音波洗浄したのち乾燥、させた。
断面が最密整列充てん形状となるように束ねて、その一
端を石英ガラス管に挿入したのち加熱融着させてこれを
ツーＩ酸水溶液（２０１ｓ量％）中で、さらに蒸留水中
で超音波洗浄したのち乾燥、させた。
得られた元ファイバの束を１９００℃に加熱して線引き
し、光ファイバの隣接するもの同士が相互に融着した外
径１．０＋＋ａｍのマルチ１μ光フアイバを得た。
し、光ファイバの隣接するもの同士が相互に融着した外
径１．０＋＋ａｍのマルチ１μ光フアイバを得た。
得られたマルチプル光ファイバにおけるコア径は７．５
μｍ１クラ・ンド層の厚さは２．０μｍ１光フアイバ径
ｕ１２／Ａｆｆ１％ コアとクラッド層との屈折率差（
４ｎ）は０．０１２であった。また、マルチ１μ光フア
イバは全長にわたシ正確な画像配列を有するものであっ
た。
μｍ１クラ・ンド層の厚さは２．０μｍ１光フアイバ径
ｕ１２／Ａｆｆ１％ コアとクラッド層との屈折率差（
４ｎ）は０．０１２であった。また、マルチ１μ光フア
イバは全長にわたシ正確な画像配列を有するものであっ
た。
次に、得られたマルチ１μ光フアイバの耐放射線性を調
べた。
べた。
評価試験は、Ｃｏ’°ｒ線照射源による所定の線量率（
２ｘ１０２〜７ ｘ ｌ ０５Ｒ／Ｈ）の位置に、長さ
２０ｍのマルチプル光ファイバにおける所定の被照射壓
（空中Ｉｌｌ又は水中５１ｆｆ）をコイル伏に束ねてお
くとともに、１／Ｉ／チプμ光フアイバの両端を遮へい
材（壁又は水槽）を通して取出し、その一端よプマｐチ
ハロゲン水銀光源（３００Ｗ）からの光を入射させ、他
端からの出射光をモノクロメータ、フォートメータで測
定し、レコーダに記録した。
２ｘ１０２〜７ ｘ ｌ ０５Ｒ／Ｈ）の位置に、長さ
２０ｍのマルチプル光ファイバにおける所定の被照射壓
（空中Ｉｌｌ又は水中５１ｆｆ）をコイル伏に束ねてお
くとともに、１／Ｉ／チプμ光フアイバの両端を遮へい
材（壁又は水槽）を通して取出し、その一端よプマｐチ
ハロゲン水銀光源（３００Ｗ）からの光を入射させ、他
端からの出射光をモノクロメータ、フォートメータで測
定し、レコーダに記録した。
なお、線量率が８ Ｘ １０’ Ｒ／Ｈ以下の場合は空
中で（第８図）、７ ｘ １ Ｇ’ Ｒ／Ｈの場合は水
中（第４図）で照射した。また、測定時以外はマルチ１
μ光フアイバを光源より外しフォトブリーチングのｖｅ
響を防止した。結果を表に示した。
中で（第８図）、７ ｘ １ Ｇ’ Ｒ／Ｈの場合は水
中（第４図）で照射した。また、測定時以外はマルチ１
μ光フアイバを光源より外しフォトブリーチングのｖｅ
響を防止した。結果を表に示した。
実施例２
得られた３層構造のプリフォームを火炎研磨処理して天
然石英ガラス管部を取除き、２層構造のものく光フアイ
バ径１１．５μｍ）としたほかは実施例１と同様にして
マルチ１μ光フアイバを得、その耐放射線性を調べた。
然石英ガラス管部を取除き、２層構造のものく光フアイ
バ径１１．５μｍ）としたほかは実施例１と同様にして
マルチ１μ光フアイバを得、その耐放射線性を調べた。
結果を表に示した。
実施例３，４
光フアイバ４０００本を用いてマ／ｌ／ｆプル光ファイ
バにおけ−る光ファイバのコア径が１０μｍ１クラッド
１１；りの厚さ２．０μｍ、光フアイバ径１５μｍ（８
）、又は２０００本を用いてマルチフ”ル光ファイバに
おける光ファイバのコア径が１６μｍ、クラッド層の厚
さ２．０μｍ、光フアイバ径２２μｍ（４）としたほか
は実施例１と同様にしてマルチプル光ファイバを得、そ
の耐放射線性を調べた。結果を表に示した〇実施例５，
６．７ 光フアイバ４０００本を用いてマルチグル光フアイバに
おける光ファイバのコア径が１０゛μｍ１クラッＹＭＯ
Ｎさ２．９１ｔｍ、光７フイバ径１７／Ｊｆｆ＋＋５１
、又は光フアイバ２０００本を用いてマルチグル光ファ
イバにおける光ファイバのコア径が１５μｍ。
バにおけ−る光ファイバのコア径が１０μｍ１クラッド
１１；りの厚さ２．０μｍ、光フアイバ径１５μｍ（８
）、又は２０００本を用いてマルチフ”ル光ファイバに
おける光ファイバのコア径が１６μｍ、クラッド層の厚
さ２．０μｍ、光フアイバ径２２μｍ（４）としたほか
は実施例１と同様にしてマルチプル光ファイバを得、そ
の耐放射線性を調べた。結果を表に示した〇実施例５，
６．７ 光フアイバ４０００本を用いてマルチグル光フアイバに
おける光ファイバのコア径が１０゛μｍ１クラッＹＭＯ
Ｎさ２．９１ｔｍ、光７フイバ径１７／Ｊｆｆ＋＋５１
、又は光フアイバ２０００本を用いてマルチグル光ファ
イバにおける光ファイバのコア径が１５μｍ。
クラ・ノド層の厚さ３．９μｍ１光フアイバ径２５μｍ
（６）、又は光フアイバ１０００本を用いてマｌレチグ
〜光ンアーｒバにおける光ファイバのコア径が２５μｍ
。
（６）、又は光フアイバ１０００本を用いてマｌレチグ
〜光ンアーｒバにおける光ファイバのコア径が２５μｍ
。
クラッド層の厚さ７４μｍ１光フアイバ径４２μｍ（７
）としたほかは実施例１と同様にしてマルチグル光フア
イバを得、その耐放射線性を調べた。結果を表に示した
。
）としたほかは実施例１と同様にしてマルチグル光フア
イバを得、その耐放射線性を調べた。結果を表に示した
。
比較例１．２
０Ｈ基含有量が２ ｐｐｍ以下又は約６００ ｐｐｍの
コア材を用いたほかは実施例１と同様にしてマルチプル
光ファイバを得、その耐放射線性を調べた。
コア材を用いたほかは実施例１と同様にしてマルチプル
光ファイバを得、その耐放射線性を調べた。
結果を表に示した。
比較例３
酸水累バーナを用いたフレーム加水分解法で作製しｆｔ
、ＯＨ基含有量が約３００ ｐｐｍのコア材を用いたほ
かは実施例１と同様にしてマルチプル光ファイバを得、
その耐放射線性を調べた。結果を表に示した。
、ＯＨ基含有量が約３００ ｐｐｍのコア材を用いたほ
かは実施例１と同様にしてマルチプル光ファイバを得、
その耐放射線性を調べた。結果を表に示した。
比較例４
Ｅ３ ｉ Ｆ ４を用いてＦ系ドープド石英ガラス層を
内周に有する天然石英ガラス管を用いたほかは実施例１
と同様にしてマルチグル光フアイバを得、その耐放射線
性を調べた。結果を表に示した。
内周に有する天然石英ガラス管を用いたほかは実施例１
と同様にしてマルチグル光フアイバを得、その耐放射線
性を調べた。結果を表に示した。
第１１ｔｔｌｉマルチプμ光フアイバの一部の断面図、
第２図はサポート層付光ファイバの断面図、第３図はＣ
ｏ１１０ ｒ線空中照射試験の説明図、第４図はＣｏ１
０ ｒ練水中照射試験の説明図である。
第２図はサポート層付光ファイバの断面図、第３図はＣ
ｏ１１０ ｒ線空中照射試験の説明図、第４図はＣｏ１
０ ｒ練水中照射試験の説明図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、酸素プラズマ法で作製した高純度石英ガラスからな
るＯＨ基含有量が１０〜３００ｐｐｍのコアの外周に、
Ｂ系及びＦ系のドーパントを含有する石英ガラス系クラ
ッド層を設けてなる光ファイバの多数本を、光ファイバ
の隣接するもの同士が相互に融着した状態に束ねてなる
耐放射線性マルチプル光ファイバ。 ２、光ファイバのコア径が５〜３０μｍ、クラッド層の
厚さ（Ｔ＿１）が１．５〜１０μｍである特許請求の範
囲第１項記載のマルチプル光ファイバ。 ３、光ファイバがコアとクラッド層のみからなるもので
ある特許請求の範囲第１項記載のマルチプル光ファイバ
。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59171716A JPS6150106A (ja) | 1984-08-18 | 1984-08-18 | 耐放射線性のマルチプル光フアイバ |
| US06/763,734 US4733939A (en) | 1984-08-18 | 1985-08-08 | Radiation-resistant optical conductor |
| CA000488681A CA1251668A (en) | 1984-08-18 | 1985-08-14 | Radiation-resistant optical conductor |
| DE8585110269T DE3569510D1 (en) | 1984-08-18 | 1985-08-16 | Radiation-resistant optical conductor |
| EP85110269A EP0173183B1 (en) | 1984-08-18 | 1985-08-16 | Radiation-resistant optical conductor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59171716A JPS6150106A (ja) | 1984-08-18 | 1984-08-18 | 耐放射線性のマルチプル光フアイバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6150106A true JPS6150106A (ja) | 1986-03-12 |
Family
ID=15928347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59171716A Pending JPS6150106A (ja) | 1984-08-18 | 1984-08-18 | 耐放射線性のマルチプル光フアイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6150106A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6291608U (ja) * | 1986-06-11 | 1987-06-11 | ||
| JPH01171680A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-06 | Taiyo Seiko Kk | 高不揮発分塗料による着色亜鉛鉄板の製造方法 |
| JPH01172004U (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-06 | ||
| RU2503628C1 (ru) * | 2012-06-22 | 2014-01-10 | Олег Геннадьевич Волокитин | Плазменная установка для получения тугоплавкого силикатного расплава |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5636606A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optical fiber and its production |
| JPS5857803B2 (ja) * | 1974-10-15 | 1983-12-22 | ソニー株式会社 | ノイズリダクシヨンソウチ |
-
1984
- 1984-08-18 JP JP59171716A patent/JPS6150106A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5857803B2 (ja) * | 1974-10-15 | 1983-12-22 | ソニー株式会社 | ノイズリダクシヨンソウチ |
| JPS5636606A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Optical fiber and its production |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6291608U (ja) * | 1986-06-11 | 1987-06-11 | ||
| JPH01171680A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-06 | Taiyo Seiko Kk | 高不揮発分塗料による着色亜鉛鉄板の製造方法 |
| JPH01172004U (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-06 | ||
| RU2503628C1 (ru) * | 2012-06-22 | 2014-01-10 | Олег Геннадьевич Волокитин | Плазменная установка для получения тугоплавкого силикатного расплава |
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