JPS6151817A - 電解コンデンサ用アルミニウム電極材及びその製造方法 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム電極材及びその製造方法Info
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- JPS6151817A JPS6151817A JP59174597A JP17459784A JPS6151817A JP S6151817 A JPS6151817 A JP S6151817A JP 59174597 A JP59174597 A JP 59174597A JP 17459784 A JP17459784 A JP 17459784A JP S6151817 A JPS6151817 A JP S6151817A
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- Japan
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- aluminum foil
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- aluminum
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
この発明は電解コンデンサ用アルミニウム電極拐及びそ
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
従来の技術
電解コンデンサ用アルミニウム電極材として用いられる
アルミニウム箔は、可及的大きな表面ｆ＾を付して単位
体積当りの静電容量の大きいものであることが要請され
る。このため、一般的に電気化学的あるいは化学的なエ
ツチング処理を施してアルミニウム箔の実効表面積を拡
大することが行われており、更にこの拡面率の可及的増
大を目的として、エツチング孔をより多く、深く、太く
することに関して材料の改善、エツチング方法の改善、
箔の製造工程に関する研究等（重々の研究がなされてい
る。
アルミニウム箔は、可及的大きな表面ｆ＾を付して単位
体積当りの静電容量の大きいものであることが要請され
る。このため、一般的に電気化学的あるいは化学的なエ
ツチング処理を施してアルミニウム箔の実効表面積を拡
大することが行われており、更にこの拡面率の可及的増
大を目的として、エツチング孔をより多く、深く、太く
することに関して材料の改善、エツチング方法の改善、
箔の製造工程に関する研究等（重々の研究がなされてい
る。
発明が解決しようとする問題点
ところが、実際上、従来既知のエツチング技術にＪ３い
ては、概してエツチング孔の発生部位が不均一であり、
またエツチング孔を多（しようとするとエツチング孔ど
うしが連通して粗大孔となったり、アルミニウム箔表面
の溶解が同時に進行して箔の機械的強度が１０ねれるの
みならず、エツチング孔が深いものとならないというよ
うな欠点を派生するため、結果において充分に期待され
るような拡面率の増大効果を得ることが難しいという問
題点があった。特に、エツチング孔の発生部位の不均一
性に関しては、アルミニウム箔中に含まれる不純物原子
の唾析、金５間化合物、結晶粒塊の存在等によって、エ
ツチング時に不均一なエツチングビットが発生ずるため
、これを避けることは困難なものであった。
ては、概してエツチング孔の発生部位が不均一であり、
またエツチング孔を多（しようとするとエツチング孔ど
うしが連通して粗大孔となったり、アルミニウム箔表面
の溶解が同時に進行して箔の機械的強度が１０ねれるの
みならず、エツチング孔が深いものとならないというよ
うな欠点を派生するため、結果において充分に期待され
るような拡面率の増大効果を得ることが難しいという問
題点があった。特に、エツチング孔の発生部位の不均一
性に関しては、アルミニウム箔中に含まれる不純物原子
の唾析、金５間化合物、結晶粒塊の存在等によって、エ
ツチング時に不均一なエツチングビットが発生ずるため
、これを避けることは困難なものであった。
この発明は、かかる問題点を解決し、アルミニウム箔に
所要の機械的強度を保有せ、しめつつ、多数の深いエツ
チング孔を均一に形成することを可能として、拡面率す
なわち静電容量に優れたものとなしうる電解コンデンサ
用アルミニウム電極材の提供を意図してなされたもので
ある。
所要の機械的強度を保有せ、しめつつ、多数の深いエツ
チング孔を均一に形成することを可能として、拡面率す
なわち静電容量に優れたものとなしうる電解コンデンサ
用アルミニウム電極材の提供を意図してなされたもので
ある。
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するために、この発明は、エツチング孔
の不均一発生の原因であった材料中の金属間化合物、結
晶粒塊等の存在に関係なく、エツチング孔の発生部位を
予め意図的に決定しようどするしのであり、多数の微細
孔を均一に有する耐性被膜をアルミニウム箔表面に予め
一体的に付着形成することにより、エツチング処理時に
微細孔に対応する部分のみをエツチング核として集中的
に侵食せしめ、もって多数の深いエツチング孔を均一に
形成せしめることに成功したものである。
の不均一発生の原因であった材料中の金属間化合物、結
晶粒塊等の存在に関係なく、エツチング孔の発生部位を
予め意図的に決定しようどするしのであり、多数の微細
孔を均一に有する耐性被膜をアルミニウム箔表面に予め
一体的に付着形成することにより、エツチング処理時に
微細孔に対応する部分のみをエツチング核として集中的
に侵食せしめ、もって多数の深いエツチング孔を均一に
形成せしめることに成功したものである。
即ち、この発明の一つは、電解コンデンサ用アルミニウ
ム電極材に関し、アルミニウム箔の表面に、電解エツチ
ング液に対して耐性を有し、かつエツチング核を形成ず
べき多数の微細孔の形成された耐性被膜が一体的に付着
形成されてなることを特徴とするものであり、また他の
もう一つは、この電極材の製造方法に関し、アルミニウ
ム箔の表面に、レジストの塗イ５、フォトマスクの装着
、露光、現像の各工程の順次的実施を含むフォトレジス
ト法により、電解エツチング液に対して耐性を有しかつ
所望のエツチングパターンに対応したエツチング核形成
用の多数の微細孔を有する耐性被膜を、多孔レジスト膜
として形成することを特徴とするものである。
ム電極材に関し、アルミニウム箔の表面に、電解エツチ
ング液に対して耐性を有し、かつエツチング核を形成ず
べき多数の微細孔の形成された耐性被膜が一体的に付着
形成されてなることを特徴とするものであり、また他の
もう一つは、この電極材の製造方法に関し、アルミニウ
ム箔の表面に、レジストの塗イ５、フォトマスクの装着
、露光、現像の各工程の順次的実施を含むフォトレジス
ト法により、電解エツチング液に対して耐性を有しかつ
所望のエツチングパターンに対応したエツチング核形成
用の多数の微細孔を有する耐性被膜を、多孔レジスト膜
として形成することを特徴とするものである。
前記耐性被膜は、エツチング時に微細孔対応部分を除い
てアルミニウム箔表面の侵食を防止するためのものであ
り、従ってその性質として電解エツチング液に対して耐
性を有するものであること、即ち、非溶性かつ耐食性の
ものであることを条件とする。また、耐性被膜に設けら
れた微細孔は、アルミニウム箔の微細孔対応部分のみに
エツチング孔を形成するためのものであるから、微細孔
の配列、大きざ、数量等がエツチング孔の配列、大きさ
、ｖｌｆｆｌひいてはアルミニウム箔の最終的な静電容
量、□械的強度等に直接的に影響する。従って、微細孔
の形成に際してはこの点を充分考慮する必要がある。
てアルミニウム箔表面の侵食を防止するためのものであ
り、従ってその性質として電解エツチング液に対して耐
性を有するものであること、即ち、非溶性かつ耐食性の
ものであることを条件とする。また、耐性被膜に設けら
れた微細孔は、アルミニウム箔の微細孔対応部分のみに
エツチング孔を形成するためのものであるから、微細孔
の配列、大きざ、数量等がエツチング孔の配列、大きさ
、ｖｌｆｆｌひいてはアルミニウム箔の最終的な静電容
量、□械的強度等に直接的に影響する。従って、微細孔
の形成に際してはこの点を充分考慮する必要がある。
かかる耐性被膜の付着形成方法は、この発明において特
に限定されるものではないが、好ましい１つの方法とし
て、フォトレジスト法が採用される。フォトレジスト法
は、耐性被膜をレジス１−膜として形成するものであり
、一般的には、アルミニウム箔表面へのレジストの塗布
、フォトマスクの装着、露光、現像の各工程の順次的実
施を含むものである。前記フォトマスクは、微細孔を所
望のエツチングパターンに形成するためのものであり、
微細孔形成予定部分が透光部、それ以外が遮光部となさ
れている。また前記現像処理は、露光工程によりフォト
マスクの透光部を介して光照射された部位の不要レジス
１〜を除去するためのものであり、この現像９８理にＪ
：ってアルミニウム箔表面に多孔レジスト膜がバターニ
ングされる。
に限定されるものではないが、好ましい１つの方法とし
て、フォトレジスト法が採用される。フォトレジスト法
は、耐性被膜をレジス１−膜として形成するものであり
、一般的には、アルミニウム箔表面へのレジストの塗布
、フォトマスクの装着、露光、現像の各工程の順次的実
施を含むものである。前記フォトマスクは、微細孔を所
望のエツチングパターンに形成するためのものであり、
微細孔形成予定部分が透光部、それ以外が遮光部となさ
れている。また前記現像処理は、露光工程によりフォト
マスクの透光部を介して光照射された部位の不要レジス
１〜を除去するためのものであり、この現像９８理にＪ
：ってアルミニウム箔表面に多孔レジスト膜がバターニ
ングされる。
こうして製造された本発明に係る電極材には、その１ｐ
酸またはアルカリ浴中で電気化学的あるいは化学的なエ
ツチング処理が施される。エツチング処理に用いるエツ
チング液は、特に限定されるものではなく、既知のＪ：
うな２〜１５％塩酸水溶液、あるいは該溶液に更にクロ
ム酸、硫酸、蓚酸等の酸を添加した水溶液等を任意に採
択使用しうる。他のエツチング処理条件、即ち、液？ｒ
ｍ Ｎ電流密度、エツチング時間等もすべて従来既知の
エツチング処理条件をそのまま採用しうる。このエツチ
ング処理により、アルミニウム箔の耐性被膜付着部の表
面溶解を抑制しつつ、微細孔対応部分のみを集中的に侵
食しうる結果、深くて太いエツチング孔の形成が可能と
なる。
酸またはアルカリ浴中で電気化学的あるいは化学的なエ
ツチング処理が施される。エツチング処理に用いるエツ
チング液は、特に限定されるものではなく、既知のＪ：
うな２〜１５％塩酸水溶液、あるいは該溶液に更にクロ
ム酸、硫酸、蓚酸等の酸を添加した水溶液等を任意に採
択使用しうる。他のエツチング処理条件、即ち、液？ｒ
ｍ Ｎ電流密度、エツチング時間等もすべて従来既知の
エツチング処理条件をそのまま採用しうる。このエツチ
ング処理により、アルミニウム箔の耐性被膜付着部の表
面溶解を抑制しつつ、微細孔対応部分のみを集中的に侵
食しうる結果、深くて太いエツチング孔の形成が可能と
なる。
エツチング処理を終えたアルミニウム箔には、続いて、
アルカリ液等を用いて、箔表面に付着している耐性被膜
の除去処理が施される。
アルカリ液等を用いて、箔表面に付着している耐性被膜
の除去処理が施される。
発明の詳細
な説明したように、この発明に係るアルミニウム電極材
及びこの発明によって製造されるアルミニウム電漫材は
、アルミニウム箔表面に電解エツチング液（対して耐性
を有し、かつエツチング核を形成すべき多数の微細孔を
有する耐性被膜が一体的に付着形成されたものであるこ
とにより、その後に施すエツチング処理において、アル
ミニウム箔の耐性被膜付着部の表面溶解を該被１模層に
よって抑制しながら、微細孔対応部分のみをエツチング
核として集中的に浸食ぼしめ１「Ｉる結果、アルミニウ
ム箔に多数の深くで太いエツチング孔を均一に形成する
ことができる。従って、アルミニウム箔の機械的強度を
損うことなく、拡面率の著しく高い、即ち静電容量の極
めて大きい電ネ的特性に贋れた理想的な電（水用アルミ
ニウム箔となすことができ、その結果アルミこウム電解
コンデンサの重要課′題であるより一層の小型化を実現
しくｑるものとなる。さらには、従来技術においてアル
ミニウム箔に唯しく要求される表面特性その他の品質（
材質）特性が、本発明に用いるアルミニウム箔において
はほとんど不要となるため、アルミニウム箔の製造工程
の簡素化、省略化が計れ、かつ材質的に安価な箔を使用
し１ｑることにＪ：ってコストの低減をもはかれる等の
効果を奏する。
及びこの発明によって製造されるアルミニウム電漫材は
、アルミニウム箔表面に電解エツチング液（対して耐性
を有し、かつエツチング核を形成すべき多数の微細孔を
有する耐性被膜が一体的に付着形成されたものであるこ
とにより、その後に施すエツチング処理において、アル
ミニウム箔の耐性被膜付着部の表面溶解を該被１模層に
よって抑制しながら、微細孔対応部分のみをエツチング
核として集中的に浸食ぼしめ１「Ｉる結果、アルミニウ
ム箔に多数の深くで太いエツチング孔を均一に形成する
ことができる。従って、アルミニウム箔の機械的強度を
損うことなく、拡面率の著しく高い、即ち静電容量の極
めて大きい電ネ的特性に贋れた理想的な電（水用アルミ
ニウム箔となすことができ、その結果アルミこウム電解
コンデンサの重要課′題であるより一層の小型化を実現
しくｑるものとなる。さらには、従来技術においてアル
ミニウム箔に唯しく要求される表面特性その他の品質（
材質）特性が、本発明に用いるアルミニウム箔において
はほとんど不要となるため、アルミニウム箔の製造工程
の簡素化、省略化が計れ、かつ材質的に安価な箔を使用
し１ｑることにＪ：ってコストの低減をもはかれる等の
効果を奏する。
また、この発明に係る電解コンデンサ用アルミニウム電
極材の製造方法においては、上記耐性被膜をフォトレジ
スト法によってレジスト膜として形成するものであるか
ら、その製造操作を比較的容易に行い得るのはもとより
、耐性被膜の微細孔の配列、大ぎざ等を自由に制御する
ことができ、ひいてはエツチングパターンを意図的に任
意に設定することができるので、益々高い拡面率を付与
し得る性能的に優れた電極材の製造を可能とするもので
ある。
極材の製造方法においては、上記耐性被膜をフォトレジ
スト法によってレジスト膜として形成するものであるか
ら、その製造操作を比較的容易に行い得るのはもとより
、耐性被膜の微細孔の配列、大ぎざ等を自由に制御する
ことができ、ひいてはエツチングパターンを意図的に任
意に設定することができるので、益々高い拡面率を付与
し得る性能的に優れた電極材の製造を可能とするもので
ある。
実施例
次にこの発明の実施例を比較例との対比において示す。
純度９９．９９％、厚さ０．１ｍｍの焼鈍アルミニウム
箔を、３０℃のレジスト液中に３０秒間浸漬した後、５
０’ＣＸ１５分の前加熱処理を施して箔表面にレジスト
被覆層を形成した。次いで、遮光性部材に直径１．ＯＩ
ｉｍの透光窓を１．０μ而間隔でちとり配置に穿設して
なるフォトマスクを介して、２ＫＷの超高圧水銀灯を１
分間照射し露光を行った。次いで、２５℃の現像液に３
０秒浸漬して現像を行った後、９０”ＣＸ ２０分の後
加熱処理を行い、表面に耐性被膜としての多孔レジスト
膜を形成せしめた本発明に係る電（型材を得た。尚、レ
ジストは東京応化工業株式会社製の商品名ｒＯＨＰＲＪ
を使用し、また現像液は同社製の商品名「○ＨＰＲ現像
液」を使用した。
箔を、３０℃のレジスト液中に３０秒間浸漬した後、５
０’ＣＸ１５分の前加熱処理を施して箔表面にレジスト
被覆層を形成した。次いで、遮光性部材に直径１．ＯＩ
ｉｍの透光窓を１．０μ而間隔でちとり配置に穿設して
なるフォトマスクを介して、２ＫＷの超高圧水銀灯を１
分間照射し露光を行った。次いで、２５℃の現像液に３
０秒浸漬して現像を行った後、９０”ＣＸ ２０分の後
加熱処理を行い、表面に耐性被膜としての多孔レジスト
膜を形成せしめた本発明に係る電（型材を得た。尚、レ
ジストは東京応化工業株式会社製の商品名ｒＯＨＰＲＪ
を使用し、また現像液は同社製の商品名「○ＨＰＲ現像
液」を使用した。
上記の工程により得られた電極材に、エツチング液；５
Ｗ【％１ｐ酸水溶液、温度ニア０″Ｃ，直流電流密度：
１０Ａ／ｄｍ、エツチング時間ニア分のエツチング条件
のもとでエツチング処理を施した後、２５℃、５ｗｔ％
水酸化ナトリウム水溶液に２．１’ｌ’浸漬してレジス
ト剥離処理を行った。
Ｗ【％１ｐ酸水溶液、温度ニア０″Ｃ，直流電流密度：
１０Ａ／ｄｍ、エツチング時間ニア分のエツチング条件
のもとでエツチング処理を施した後、２５℃、５ｗｔ％
水酸化ナトリウム水溶液に２．１’ｌ’浸漬してレジス
ト剥離処理を行った。
上記により得られたエツチング箔を１７Ｉ酸浴中で３０
０Ｖに化成したのち、該箔の静電容量及び引張強さを測
定した。
０Ｖに化成したのち、該箔の静電容量及び引張強さを測
定した。
一方、この結果を、前記と同一アルミニ・クム材を使用
しかつ同一のエツチング条件でエツチングのみを施した
アルミニウム箔（比較例）のそれと比較した。
しかつ同一のエツチング条件でエツチングのみを施した
アルミニウム箔（比較例）のそれと比較した。
結果は下表のとうりであった。
上表の結果に示されるように、この発明によれば、アル
ミニウム箔の耐性被膜中に均一に設けられた多数の微細
孔に対応する部分のみをエツチング核として深く侵食す
るものとなし得ることにより、該アルミニウム箔の明ら
かな静電容量、引張り強さの改善効果を実現し得るもの
であった。
ミニウム箔の耐性被膜中に均一に設けられた多数の微細
孔に対応する部分のみをエツチング核として深く侵食す
るものとなし得ることにより、該アルミニウム箔の明ら
かな静電容量、引張り強さの改善効果を実現し得るもの
であった。
以 上
Claims (2)
- （１）アルミニウム箔の表面に、電解エッチング液に対
して耐性を有し、かつエッチング核を形成すべき多数の
微細孔の形成された耐性被膜が一体的に付着形成されて
なる電解コンデンサ用アルミニウム電極材。 - （２）アルミニウム箔の表面に、レジストの塗布、フォ
トマスクの装着、露光、現像の各工程の順次的実施を含
むフォトレジスト法により、電解エッチング液に対して
耐性を有しかつ所望のエッチングパターンに対応したエ
ッチング核形成用の多数の微細孔を有する耐性被膜を、
多孔レジスト膜として形成することを特徴とする電解コ
ンデンサ用アルミニウム電極材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59174597A JPS6151817A (ja) | 1984-08-21 | 1984-08-21 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極材及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59174597A JPS6151817A (ja) | 1984-08-21 | 1984-08-21 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極材及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6151817A true JPS6151817A (ja) | 1986-03-14 |
| JPH0379858B2 JPH0379858B2 (ja) | 1991-12-20 |
Family
ID=15981349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59174597A Granted JPS6151817A (ja) | 1984-08-21 | 1984-08-21 | 電解コンデンサ用アルミニウム電極材及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6151817A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6362888A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-19 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ用アルミニウム電極材 |
| JPS63157882A (ja) * | 1986-09-03 | 1988-06-30 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ用アルミニウム電極材の製造方法 |
| JPS63220512A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-13 | 松下電器産業株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔 |
| JP2018006617A (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | ニチコン株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
| JP2022024431A (ja) * | 2020-07-28 | 2022-02-09 | ニチコン株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔およびその製造方法 |
-
1984
- 1984-08-21 JP JP59174597A patent/JPS6151817A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6362888A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-19 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ用アルミニウム電極材 |
| JPS63157882A (ja) * | 1986-09-03 | 1988-06-30 | Showa Alum Corp | 電解コンデンサ用アルミニウム電極材の製造方法 |
| JPS63220512A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-13 | 松下電器産業株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔 |
| JP2018006617A (ja) * | 2016-07-05 | 2018-01-11 | ニチコン株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |
| JP2022024431A (ja) * | 2020-07-28 | 2022-02-09 | ニチコン株式会社 | 電解コンデンサ用電極箔およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0379858B2 (ja) | 1991-12-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |