JPS6155376B2 - - Google Patents
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- JPS6155376B2 JPS6155376B2 JP54032097A JP3209779A JPS6155376B2 JP S6155376 B2 JPS6155376 B2 JP S6155376B2 JP 54032097 A JP54032097 A JP 54032097A JP 3209779 A JP3209779 A JP 3209779A JP S6155376 B2 JPS6155376 B2 JP S6155376B2
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- JP
- Japan
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- light
- eye
- light receiving
- examined
- lens
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は眼科測定装置に関し、殊に眼の屈折力
を測定するための装置に関する。
を測定するための装置に関する。
眼科臨床の基礎検査として、また眼鏡を調製す
るための資料を得るために眼屈折計は古くから使
用されているが、最近は自動的に平均視度、乱視
度、乱視軸方向を測定する眼屈折計も製品化され
ている。これら自動眼屈折計は被検眼の眼底へ指
標を形成する赤外光を投影し、眼底で反射した指
標像を種々の方法で検知して屈折力を測定するも
のであるが、検知できる光量は投入する光量に対
して微弱なため外乱光が混入すると検知精度を低
下させたり誤信号の原因となるため、測定用の光
束に外乱光が混入しているかどうか監視すること
が大切である。
るための資料を得るために眼屈折計は古くから使
用されているが、最近は自動的に平均視度、乱視
度、乱視軸方向を測定する眼屈折計も製品化され
ている。これら自動眼屈折計は被検眼の眼底へ指
標を形成する赤外光を投影し、眼底で反射した指
標像を種々の方法で検知して屈折力を測定するも
のであるが、検知できる光量は投入する光量に対
して微弱なため外乱光が混入すると検知精度を低
下させたり誤信号の原因となるため、測定用の光
束に外乱光が混入しているかどうか監視すること
が大切である。
更に位置合わせの不備を測定に際して検出する
ことは有効である。あるいは眼底の反射率は人種
によつて若干異なるため反射光のレベルを知るこ
とも精密な測定に役立つ。
ことは有効である。あるいは眼底の反射率は人種
によつて若干異なるため反射光のレベルを知るこ
とも精密な測定に役立つ。
本発明の目的は、測定中にしろあるいは測定前
後にしろ、被検眼へ投入し、眼底から反射する光
束が適正か不適正かを検出して矯正が必要である
ことを操作者に認識させあるいは自動的な補償を
行うに適した検出系を提供することにある。
後にしろ、被検眼へ投入し、眼底から反射する光
束が適正か不適正かを検出して矯正が必要である
ことを操作者に認識させあるいは自動的な補償を
行うに適した検出系を提供することにある。
以下図面に従つて第1実施例を説明する。第1
図で、Eは被検眼、Efは眼底、Epは瞳孔であ
る。また1は照明光源で、発光源1aと、円孔を
有する遮光板1b、コンデンサーレンズ1c、プ
リズム1dから成る。プリズム1dは、後述する
複数の測定光束が互いに分離するように設けてい
る。2は投影用のマスクで、第2図に描くように
3本の径線(子午線)に垂直な方向へ延びた長方
形のスリツト2a,2b,2cを備える。ここで
径線を3本選んだ理由に触れておく。
図で、Eは被検眼、Efは眼底、Epは瞳孔であ
る。また1は照明光源で、発光源1aと、円孔を
有する遮光板1b、コンデンサーレンズ1c、プ
リズム1dから成る。プリズム1dは、後述する
複数の測定光束が互いに分離するように設けてい
る。2は投影用のマスクで、第2図に描くように
3本の径線(子午線)に垂直な方向へ延びた長方
形のスリツト2a,2b,2cを備える。ここで
径線を3本選んだ理由に触れておく。
乱視における経線方向による視度の変化が正弦
渡的に変化すると仮定すれば視度は経線方向の角
度の関数として次式で表わされる。
渡的に変化すると仮定すれば視度は経線方向の角
度の関数として次式で表わされる。
D=A Sin(2θ+α)+B (1)
変数D、θは視度及び経線方向の角度を各々表
わす。定数A、B、αは各々乱視度、平均視度、
乱視軸方向に相当する。(1)式の未知数は3つなの
で少なくとも3つの経線方向での測定値があれば
(1)式を適用し、乱視度、平均視度、乱視軸方向の
各値を任意の経線方向に対して求めることができ
る。但し、測定する経線方向を3つに限度せずそ
れ以上増すことにより、その内の任意の3組で上
記値を求め他の組合せで求めた値と平均化するこ
とにより精度を向上できることはいうまでもな
い。
わす。定数A、B、αは各々乱視度、平均視度、
乱視軸方向に相当する。(1)式の未知数は3つなの
で少なくとも3つの経線方向での測定値があれば
(1)式を適用し、乱視度、平均視度、乱視軸方向の
各値を任意の経線方向に対して求めることができ
る。但し、測定する経線方向を3つに限度せずそ
れ以上増すことにより、その内の任意の3組で上
記値を求め他の組合せで求めた値と平均化するこ
とにより精度を向上できることはいうまでもな
い。
3はテーキングレンズで、不図示の機構によつ
て、一回の測定中一方向へ単調に移送される。4
はリレーレンズ、5は穴あきミラーで、第3図に
平面形態を描く通り、3経線に対応する3つの円
形開口5a,5b,5cを備える。6は対物レン
ズで、以上の部材1乃至6は投影系を構成する。
て、一回の測定中一方向へ単調に移送される。4
はリレーレンズ、5は穴あきミラーで、第3図に
平面形態を描く通り、3経線に対応する3つの円
形開口5a,5b,5cを備える。6は対物レン
ズで、以上の部材1乃至6は投影系を構成する。
次に7はリレーレンズ、12は半透鏡、8はテ
ーキングレンズで、テーキングレンズ8はテーキ
ングレンズ3と同時に移動する。なお、レンズ7
とレンズ8の仕様をレンズ4とレンズ3に合わせ
れば移動量が等しくなつて都合が良い。9は検知
用のマスクで、第4図に描くように、3経線に垂
直な方向へ延びた長方形のスリツト9a,9b,
9cを備える。
ーキングレンズで、テーキングレンズ8はテーキ
ングレンズ3と同時に移動する。なお、レンズ7
とレンズ8の仕様をレンズ4とレンズ3に合わせ
れば移動量が等しくなつて都合が良い。9は検知
用のマスクで、第4図に描くように、3経線に垂
直な方向へ延びた長方形のスリツト9a,9b,
9cを備える。
10a,10b,10cはライトガイド、11
a,11b,11cは受光素子で、各ライトガイ
ドはマスク9のスリツトと受光素子を一対一に結
び付け、スリツトへ入射した光束は全て受光素子
へ導かれるようにしている。
a,11b,11cは受光素子で、各ライトガイ
ドはマスク9のスリツトと受光素子を一対一に結
び付け、スリツトへ入射した光束は全て受光素子
へ導かれるようにしている。
以上の7乃至12の部材および対物レンズ6と
穴あきミラー5は検知系を構成する。
穴あきミラー5は検知系を構成する。
以上の投影系と検知系において、対物レンズ6
と被検眼Eとの作動距離が適正の時、穴あきミラ
ーの開口5a,5b,5cの像が被検眼の瞳孔
Ep上に形成されるように穴あきミラーを配置
し、テーキングレンズ3と8の移動範囲内で投影
用マスク2と眼底Efが共役となり、同時に眼底
Efと検知用マスク9は共役となるようにマスク
2と9を配置する。これは例えば移動範囲の中間
点にテーキングレンズが在る時、零ジオプターの
被検者ではマスク2は眼底Efを介してマスク9
と共役になるように配置することを意味する。
と被検眼Eとの作動距離が適正の時、穴あきミラ
ーの開口5a,5b,5cの像が被検眼の瞳孔
Ep上に形成されるように穴あきミラーを配置
し、テーキングレンズ3と8の移動範囲内で投影
用マスク2と眼底Efが共役となり、同時に眼底
Efと検知用マスク9は共役となるようにマスク
2と9を配置する。これは例えば移動範囲の中間
点にテーキングレンズが在る時、零ジオプターの
被検者ではマスク2は眼底Efを介してマスク9
と共役になるように配置することを意味する。
従つてテーキングレンズ3または9の軸上位置
は眼屈折力に対応するから、ポテンシヨ・メータ
あるいはリニア・エンコーダでテーキングレンズ
の軸上位置を読取れば眼屈折力が算出できるわけ
であるが、各位置に対応してジオプター値が出力
するように構成しておけば、以降の計算回路は簡
単になる。
は眼屈折力に対応するから、ポテンシヨ・メータ
あるいはリニア・エンコーダでテーキングレンズ
の軸上位置を読取れば眼屈折力が算出できるわけ
であるが、各位置に対応してジオプター値が出力
するように構成しておけば、以降の計算回路は簡
単になる。
以上構成で、照明光源1に照明されたマスク2
の各スリツト2a,2b,2cを発した測定光束
はテーキングレンズ3で一旦結像され、リレーレ
ンズ4でまた収斂作用を受けた後、穴あきミラー
5の別々の開口5a,5b,5cを通過して再結
像し、対物レンズ6を経て被検眼の眼底Ef上あ
るいはその前方に各スリツトの像を結ぶか、その
後方にスリツト像を結ぶ状態で収斂する。その
際、測定光束は穴あきミラーの各開口の作用で、
瞳孔Ep上の異なつた領域を通過する。
の各スリツト2a,2b,2cを発した測定光束
はテーキングレンズ3で一旦結像され、リレーレ
ンズ4でまた収斂作用を受けた後、穴あきミラー
5の別々の開口5a,5b,5cを通過して再結
像し、対物レンズ6を経て被検眼の眼底Ef上あ
るいはその前方に各スリツトの像を結ぶか、その
後方にスリツト像を結ぶ状態で収斂する。その
際、測定光束は穴あきミラーの各開口の作用で、
瞳孔Ep上の異なつた領域を通過する。
眼底Efで散乱反射した光束は対物レンズ6へ
入射して一旦結像し、その後、穴あきミラー5の
鏡面で反射してリレーレンズ7で収斂作用を受
け、半透鏡12で反射してテーキングレンズ8に
より結像される。マスク9上には、マスク2のス
リツトのボケるか鮮明な画像が形成されるが、各
スリツトを発した光束は軸外光のためボケている
時は径線方向へ位置ずれを起し、その両作用でマ
スク9のスリツトを通過する光量は減少し、鮮明
な時はマスク9のスリツトに正確にマスク2のス
リツト像が重なるため、スリツトを通過する光量
は最大となる。
入射して一旦結像し、その後、穴あきミラー5の
鏡面で反射してリレーレンズ7で収斂作用を受
け、半透鏡12で反射してテーキングレンズ8に
より結像される。マスク9上には、マスク2のス
リツトのボケるか鮮明な画像が形成されるが、各
スリツトを発した光束は軸外光のためボケている
時は径線方向へ位置ずれを起し、その両作用でマ
スク9のスリツトを通過する光量は減少し、鮮明
な時はマスク9のスリツトに正確にマスク2のス
リツト像が重なるため、スリツトを通過する光量
は最大となる。
従つてテーキングレンズ3と8を移送し、各受
光素子11a,11b,11cの各検出光量が最
大になつた時のデイオプター値を別々に読取つて
不図示のコンピユータにより上述の(1)式へ挿入し
て計算すれば所望の値が得られるわけである。次
に13は集光レンズで、半透鏡12の後方に配置
する。14は絞り板、15は受光素子である。こ
こで、絞り板14は集光レンズ13とリレーレン
ズ7、穴あきミラー5の鏡面と対物レンズ6に関
して、対物レンズ6による穴あきミラーの開口の
像、即ち瞳面と共役に配置し、且つ絞り板14の
開口(第5図の14a)径は虹彩反射光を除去し
且つ瞳面上のその開口像が穴あきミラーの3開口
の像を覆う寸法とする。
光素子11a,11b,11cの各検出光量が最
大になつた時のデイオプター値を別々に読取つて
不図示のコンピユータにより上述の(1)式へ挿入し
て計算すれば所望の値が得られるわけである。次
に13は集光レンズで、半透鏡12の後方に配置
する。14は絞り板、15は受光素子である。こ
こで、絞り板14は集光レンズ13とリレーレン
ズ7、穴あきミラー5の鏡面と対物レンズ6に関
して、対物レンズ6による穴あきミラーの開口の
像、即ち瞳面と共役に配置し、且つ絞り板14の
開口(第5図の14a)径は虹彩反射光を除去し
且つ瞳面上のその開口像が穴あきミラーの3開口
の像を覆う寸法とする。
この構成により眼底で反射して瞳を通過した光
束は対物レンズ6、穴あきミラー5、リレーレン
ズ7を経て半透鏡12へ入射するが、半透鏡12
を通過した光束は集光レンズ13で収束され、絞
り板14で規制されて受光素子へ入射する。従つ
て受光素子15で検出する光量は、ある変換係数
下で被検眼の瞳を射出した3本の測定光束をすべ
て測光していることになる。この測光量はテーキ
ングレンズ3と8の位置に関係なく一定となるか
ら、テーキングレンズを移動する前に受光素子1
5で測光し、もし測光量が基準値より大きければ
外乱光が混入しているか、眼底反射率が高いなど
の理由が推定され、基準値より低ければ測定光束
が正常に入射していないとか、眼底反射率が低い
とかの理由が推定されるから、外乱光を除去する
処置を取り、あるいは装置を被検眼に正確にセツ
トし直し、もしくは外的要因が除去された後の検
知レベルの自動補正がなされたりするわけであ
る。また測定中に光量の変動があれば、これも途
中で外乱光が混入するなどの不都合な事態が起き
たことになるから、エラー表示をして再測定を要
請するか、又は予め、受光素子11a,11b,
11cへ入射する、光量を自動的に補償する回路
を構成しておくものとする。
束は対物レンズ6、穴あきミラー5、リレーレン
ズ7を経て半透鏡12へ入射するが、半透鏡12
を通過した光束は集光レンズ13で収束され、絞
り板14で規制されて受光素子へ入射する。従つ
て受光素子15で検出する光量は、ある変換係数
下で被検眼の瞳を射出した3本の測定光束をすべ
て測光していることになる。この測光量はテーキ
ングレンズ3と8の位置に関係なく一定となるか
ら、テーキングレンズを移動する前に受光素子1
5で測光し、もし測光量が基準値より大きければ
外乱光が混入しているか、眼底反射率が高いなど
の理由が推定され、基準値より低ければ測定光束
が正常に入射していないとか、眼底反射率が低い
とかの理由が推定されるから、外乱光を除去する
処置を取り、あるいは装置を被検眼に正確にセツ
トし直し、もしくは外的要因が除去された後の検
知レベルの自動補正がなされたりするわけであ
る。また測定中に光量の変動があれば、これも途
中で外乱光が混入するなどの不都合な事態が起き
たことになるから、エラー表示をして再測定を要
請するか、又は予め、受光素子11a,11b,
11cへ入射する、光量を自動的に補償する回路
を構成しておくものとする。
なお記述した例では被検眼内への光の投入を、
第3図に示すような穴あきミラー5の各開口5
a,5b,5cで行つたが、第6図に示すように
開口に対応した鏡A,B,Cを持つ光学部材で行
つても差し支えない。
第3図に示すような穴あきミラー5の各開口5
a,5b,5cで行つたが、第6図に示すように
開口に対応した鏡A,B,Cを持つ光学部材で行
つても差し支えない。
この場合、鏡A,B,C以外の箇所を使用して
光を透過させることは言うまでもない。
光を透過させることは言うまでもない。
以上説明した例では、測定用の三光束を同時に
測光していたわけであるが、例えば三光束の内一
本が虹彩あるいは睫毛でケラレような不都合、あ
るいは三光束の入射する眼底上の位置が適正かど
うか不明の時は、三光束を夫々単独で測定するの
が良い。その場合には、第1図のマスク2のスリ
ツト2a,2b,2cに入射する照明光を周期的
に順次2つのスリツトづつ遮光するか、あるいは
第7図に描く様にマスク2の各スリツトの背後に
別々の光源1′,1″,1を配置し、これを高速
で点滅する。なお、点滅の1周期は、その時間内
にテーキングレンズ3と8が移動することで生じ
る屈折力の変化が測定許容値以下になる程度の時
間とする。
測光していたわけであるが、例えば三光束の内一
本が虹彩あるいは睫毛でケラレような不都合、あ
るいは三光束の入射する眼底上の位置が適正かど
うか不明の時は、三光束を夫々単独で測定するの
が良い。その場合には、第1図のマスク2のスリ
ツト2a,2b,2cに入射する照明光を周期的
に順次2つのスリツトづつ遮光するか、あるいは
第7図に描く様にマスク2の各スリツトの背後に
別々の光源1′,1″,1を配置し、これを高速
で点滅する。なお、点滅の1周期は、その時間内
にテーキングレンズ3と8が移動することで生じ
る屈折力の変化が測定許容値以下になる程度の時
間とする。
このように測定光束をパルス的に順次投入する
と、受光素子15の出力はパルス波として得られ
るから、受光素子の出力の検出と光源の点滅を同
期させておけば、どの径線方向の光束がどの出力
パルスに対応するかがわかる。この様にして検出
した各出力の絶対値および各出力間の比較によつ
て外乱の存在あるいは各光束間のバランスの不備
が検出できるわけである。
と、受光素子15の出力はパルス波として得られ
るから、受光素子の出力の検出と光源の点滅を同
期させておけば、どの径線方向の光束がどの出力
パルスに対応するかがわかる。この様にして検出
した各出力の絶対値および各出力間の比較によつ
て外乱の存在あるいは各光束間のバランスの不備
が検出できるわけである。
第8図は、瞳と共役な位置で三光束を単独に検
出する実施例であつて、三光束を時間分割する替
りに波長分割している。
出する実施例であつて、三光束を時間分割する替
りに波長分割している。
以下の実施例で、第1図に示した部材と同一の
部材には同じ番号を付した。また21はフイルタ
ー群で、第9図に描く様に、マスク2の各スリツ
トを覆う別々のフイルター21a,21b,21
cを合体したものである、これらフイルター21
a,21b,21cの特性は例えば第10図に示
す、互いに干渉しない分光透過率特性λa,λ
b,λcを順に有するものとする。また22は集
光レンズである。23と24は夫々ダイクロイツ
クミラーで、カラーテレビカメラの三色分解系に
使用されているものと同様の作用をもつ。
部材には同じ番号を付した。また21はフイルタ
ー群で、第9図に描く様に、マスク2の各スリツ
トを覆う別々のフイルター21a,21b,21
cを合体したものである、これらフイルター21
a,21b,21cの特性は例えば第10図に示
す、互いに干渉しない分光透過率特性λa,λ
b,λcを順に有するものとする。また22は集
光レンズである。23と24は夫々ダイクロイツ
クミラーで、カラーテレビカメラの三色分解系に
使用されているものと同様の作用をもつ。
そしてダイクロイツクミラー23は波長λaを
反射し、それより長波長光を透過する特性を持
ち、ダイクロイツクミラー24は波長λbを反射
し、それより長波長光を透過する特性をもつ。2
7は、波長λcを透過する特性のフイルターであ
る。
反射し、それより長波長光を透過する特性を持
ち、ダイクロイツクミラー24は波長λbを反射
し、それより長波長光を透過する特性をもつ。2
7は、波長λcを透過する特性のフイルターであ
る。
25a,25b,25cは夫々第1図の部材1
4と同等の絞り板で、各絞り板は中継する光学系
に関して瞳と共役である。また26a,26b,
26cは各絞り板25a,25b,25cの背後
に設けた受光素子である。
4と同等の絞り板で、各絞り板は中継する光学系
に関して瞳と共役である。また26a,26b,
26cは各絞り板25a,25b,25cの背後
に設けた受光素子である。
以上の構成で、光源1を点燈すると、マスク2
の各スリツトを発した光束は夫々異なつた波長特
性λa,λb,λcを持つ。従つて眼底Efで反
射して被検眼Eを射出した三光束は対物レンズ
6、穴あきミラー5、リレーレンズ7を経て半透
鏡12で分割されて、一方は検知用マスク9へ向
い、他方は集光レンズ22へ入射する。次いでダ
イクロイツクミラー23へ入射した三光束の内、
波長特性λaの光束はこのミラー23で反射し、
絞り板25aで規制されて受光素子26aに入射
する。またダイクロイツクミラー23を透過した
2光束の内、波長λbの光束はダイクロイツクミ
ラー24で反射し、絞り板25bで規制されて受
光素子26bへ入射する。ダイクロイツクミラー
24を透過した光束はフイルター27をも透過
し、絞り板25cで規制されて受光素子へ入射す
る。この様にして各経線に対応する光束は互いに
分離され、瞳を通過する段階での光量が別々の受
光素子26a,26b,26cで検出されるわけ
である。なお、フイルター群11はマスク2の前
又は後に配置する替りに、第11図に描くよう
に、穴あきミラー21に密接して配するかあるい
は穴あきミラー5の各開口に各フイルターを嵌入
しても良い。また、測定用三光束相互の干渉防止
を十分にするため、検知用マスク9の前にフイル
ター群21と同様のフイルター群を設けて眼屈折
力測定のSN比の向上を計ることもできる。
の各スリツトを発した光束は夫々異なつた波長特
性λa,λb,λcを持つ。従つて眼底Efで反
射して被検眼Eを射出した三光束は対物レンズ
6、穴あきミラー5、リレーレンズ7を経て半透
鏡12で分割されて、一方は検知用マスク9へ向
い、他方は集光レンズ22へ入射する。次いでダ
イクロイツクミラー23へ入射した三光束の内、
波長特性λaの光束はこのミラー23で反射し、
絞り板25aで規制されて受光素子26aに入射
する。またダイクロイツクミラー23を透過した
2光束の内、波長λbの光束はダイクロイツクミ
ラー24で反射し、絞り板25bで規制されて受
光素子26bへ入射する。ダイクロイツクミラー
24を透過した光束はフイルター27をも透過
し、絞り板25cで規制されて受光素子へ入射す
る。この様にして各経線に対応する光束は互いに
分離され、瞳を通過する段階での光量が別々の受
光素子26a,26b,26cで検出されるわけ
である。なお、フイルター群11はマスク2の前
又は後に配置する替りに、第11図に描くよう
に、穴あきミラー21に密接して配するかあるい
は穴あきミラー5の各開口に各フイルターを嵌入
しても良い。また、測定用三光束相互の干渉防止
を十分にするため、検知用マスク9の前にフイル
ター群21と同様のフイルター群を設けて眼屈折
力測定のSN比の向上を計ることもできる。
第12図は瞳と共役な位置で三光束を同時に測
定する場合の実施例である。図中32は半透鏡
で、テーキングレンズ3とリレーレンズ4の間の
光軸に斜設する。33は集光レンズ、34は絞り
板、35は受光素子である。絞り板34は中継す
る光学系に関して瞳と共役に配する。この例では
眼底Efで反射し、対物レンズ6を経て穴あきミ
ラー5で反射する際に、一部の光束は穴あきミラ
ーの開口を通過するから、その光束を半透鏡32
で反射させ、集光レンズ33で受光素子35へ集
光させて測光するものである。第13図は瞳と共
役な位置で、三光束を波長分割して単独に検出す
る実施例である。図中、半透鏡32と集光レンズ
33は第12図の場合と同様であるが、41はフ
イルター群で、第14図に描く通り、3枚のフイ
ルター41a,41b,41cの合体から成り、
各フイルターは第15図に示す様な波長特性、λ
a,λb,λcを有するので、投影用のマスクの
スリツト2a,2b,2cを射出した光束は各波
長特性を持つことになる。42はフイルター群
で、フイルター群41と同等の作用を持ち、第1
6図にBB方向から見た図を示す様に、波長特性
λa,λb,λcのフイルター42a,42b,
42cから成る。各フイルターの背後には別々の
受光素子43a,43b,43cを設けて、穴あ
きミラーの開口の像5a′,5b′,5c′を通る光束
を測光する。
定する場合の実施例である。図中32は半透鏡
で、テーキングレンズ3とリレーレンズ4の間の
光軸に斜設する。33は集光レンズ、34は絞り
板、35は受光素子である。絞り板34は中継す
る光学系に関して瞳と共役に配する。この例では
眼底Efで反射し、対物レンズ6を経て穴あきミ
ラー5で反射する際に、一部の光束は穴あきミラ
ーの開口を通過するから、その光束を半透鏡32
で反射させ、集光レンズ33で受光素子35へ集
光させて測光するものである。第13図は瞳と共
役な位置で、三光束を波長分割して単独に検出す
る実施例である。図中、半透鏡32と集光レンズ
33は第12図の場合と同様であるが、41はフ
イルター群で、第14図に描く通り、3枚のフイ
ルター41a,41b,41cの合体から成り、
各フイルターは第15図に示す様な波長特性、λ
a,λb,λcを有するので、投影用のマスクの
スリツト2a,2b,2cを射出した光束は各波
長特性を持つことになる。42はフイルター群
で、フイルター群41と同等の作用を持ち、第1
6図にBB方向から見た図を示す様に、波長特性
λa,λb,λcのフイルター42a,42b,
42cから成る。各フイルターの背後には別々の
受光素子43a,43b,43cを設けて、穴あ
きミラーの開口の像5a′,5b′,5c′を通る光束
を測光する。
以上述べた本発明によれば、まばたき等の外乱
や位置合わせの不備、被検者の個人差あるいは人
種差による特性の相異に基づく測定異常を瞬時に
且つ容易に検出し得るから眼屈折力の精密な測定
にとつて極めて有効である。
や位置合わせの不備、被検者の個人差あるいは人
種差による特性の相異に基づく測定異常を瞬時に
且つ容易に検出し得るから眼屈折力の精密な測定
にとつて極めて有効である。
第1図は実施例を示す縦断面図。第2図から第
6図までは各々構成部材を示す平面図。第7図
は、第1図の要部変形例を示す側面図。第8図は
第2実施例を示す縦断面図。第9図は構成部材の
平面図。第10図は透過特性図。第11図は、第
8図の要部変形例を示す縦断面図。第12図は第
3実施例を示す縦断面図。第13図は第4実施例
を示す部分縦断面図。第14図は構成部材の平面
図。第15図は透過特性図。第16図は構成部材
の平面図。 図中、2は投影用マスク、9は検知用マスク、
12は半透鏡、13は集光レンズ、14は絞り
板、15は受光素子、21はフイルター群、23
と24はダイクロイツクミラーである。
6図までは各々構成部材を示す平面図。第7図
は、第1図の要部変形例を示す側面図。第8図は
第2実施例を示す縦断面図。第9図は構成部材の
平面図。第10図は透過特性図。第11図は、第
8図の要部変形例を示す縦断面図。第12図は第
3実施例を示す縦断面図。第13図は第4実施例
を示す部分縦断面図。第14図は構成部材の平面
図。第15図は透過特性図。第16図は構成部材
の平面図。 図中、2は投影用マスク、9は検知用マスク、
12は半透鏡、13は集光レンズ、14は絞り
板、15は受光素子、21はフイルター群、23
と24はダイクロイツクミラーである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被検眼眼底へ少なくとも3経線方向に対応す
る指標を投影する指標投影系と、被検眼眼底と略
共役に設けられ、被検眼眼底で反射される各経線
方向に対応した指標光束を受光する受光部と、 被検眼瞳と略共役に設けられ各指標光束の入射
域と出射域を分離する光束分離手段と、 被検眼瞳と略共役に設けられ各指標光束をすべ
て受光する受光手段を備え、前記受光部を介した
出力より被検眼屈折力を測定すると共に前記受光
手段の出力より測定異常を検出することを特徴と
する眼屈折力測定装置。 2 前記少なくとも3経線方向に対応する指標は
同時に投影される特許請求の範囲第1項記載の眼
屈折力測定装置。 3 前記少なくとも3経線方向に対応する指標は
時間分割して投影される特許請求の範囲第1項記
載の眼屈折力測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3209779A JPS55125841A (en) | 1979-03-19 | 1979-03-19 | Optic refractometer provided with means for detecting quantity of light |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3209779A JPS55125841A (en) | 1979-03-19 | 1979-03-19 | Optic refractometer provided with means for detecting quantity of light |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55125841A JPS55125841A (en) | 1980-09-29 |
| JPS6155376B2 true JPS6155376B2 (ja) | 1986-11-27 |
Family
ID=12349382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3209779A Granted JPS55125841A (en) | 1979-03-19 | 1979-03-19 | Optic refractometer provided with means for detecting quantity of light |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55125841A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS565532B2 (ja) * | 1972-12-01 | 1981-02-05 | ||
| JPS5470688A (en) * | 1977-11-16 | 1979-06-06 | Nippon Chemical Ind | Device for measuring eye refracting power |
-
1979
- 1979-03-19 JP JP3209779A patent/JPS55125841A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55125841A (en) | 1980-09-29 |
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