JPS6158415B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガラス基体（以下基質ともいう）面が
高温にある間に、熱分解によつて上記面上に被覆
金属または金属化合物を形成する金属化合物を含
む小滴と上記面を接触させることによつてガラス
基質面上に金属または金属化合物被覆を形成させ
るための方法に関する。本発明はまたかかる方法
を実施するのに使用する装置に関する。

上述した種類の方法は、ガラスの見掛けの色を
変調し、および／または入射射線に関する他の要
求される性質例えば赤外線反射性を有する被覆を
形成するために使用される。

既知の方法は満足できる性質を有する被覆を常
に達成できるとは限られない。例えばその組織、
その光学的性質またはその厚さの均一性に関して
満足できる品質の被覆を形成するに当つては困難
に遭遇している。

本発明の目的は良好な品質の被覆を形成できる
信頼性において重大な利点を有することを確実に
する被覆法を提供することにある。

本発明による方法は、上記小滴の少なくとも一
つの流れを上記面に対して傾斜し、被覆されるべ
き面区域内の一つの帯域で衝突するように放出さ
せ、上記流れと基体とを相対的に移動させ、かく
して上記面上での上記流れの衝突の同時に起る帯
域を被覆されるべき上記面区域に沿つて漸進的に
移動するようにし、吸引力を排出ダクト中に作
り、排出ダクトの入口は上記衝突帯域から直接下
流に位置させ、かかる吸引力によつて、上記流れ
に対するガス雰囲気を、上記ガス流からおよび上
記衝突帯域付近からそして直接上記ダクト中に、
上記帯域に向う小滴の通路に影響を与えることな
く下流に向つて連続的に流れるようにしたことを
特徴とする。

実験では、従来より知られている方法と比較し
たとき、本発明による方法は、基質面の均一被覆
を与え、結晶の規則的な配置を特長とする均質組
織の被覆例えば金属酸化物被覆を形成するのを容
易にすることを示した。この利点は比較的厚い被
覆、を有する被覆に対しても明白である。上述し
た利点は、基質上の衝突帯域および小滴流の帯域
における下流に向つて流れるガスがこの下流方向
での運動を保つように上述した方法で吸引流を制
御することに一部原因があることは明らかであ
る。基質に隣接するガス状雰囲気からは基質また
は既に形成された被覆上に分解生成物を沈着させ
る傾向は殆どまたは全くないことが判つた。その
結果、被覆金属または金属化合物は実質的に熱い
基質面でのみ形成される。被覆されるべき基質に
対する小滴流の傾斜は、またこの方法を可能にす
る均一被覆の形成に寄与する要因である。好まし
くは基質は一定方向へ移動させ、小滴流は、基質
移動の方向に速度成分を有し、その軸とその基質
面の間に含まれる角が、上記軸を含み、基質の移
動方向と平行である面で測定して25〜35゜にある
ように傾斜させる。

最良の結果を達成するためには、各小滴流の全
ての部分が垂直に対して大きな角で基質上に入射
すべきである。従つて本発明方法の好ましい実施
態様においては、各流れが平行な流れであるか、
あるいはその源から30゜より大きくない角で発散
している流れである。

実験では、均一被覆は、被覆される基質面と、
各小滴流がかかる面に向つて放出される位置との
間の間隔に対して一定の条件が見られるときに更
に容易に形成できることを見出した。好ましくは
上記各流れに対するかかる位置は、かかる面に対
して直角に測定して、15〜35cmの上記面からの距
離にある。これは、特に上述した小滴流に対する
好ましい発散範囲および傾斜範囲を観察すると
き、最も好適な範囲であることが判つた。

本発明の一定の実施態様において、それは連続
的に縦方向に移動するガラスリボンの面を被覆す
るために利用され、リボン通路の横方向で往復移
動する上記小滴流を使用する。この方法で本発明
を実施することによつて、金属化合物の供給速度
を容易に制御できるような小さい寸法の単一小滴
放出ヘツドを用いて、ガラスリボンの実質的に全
幅にわたつてガラスリボンを被覆することができ
る。かかる方法において、吸引力は排出ダクトで
作ることができ、この排出ダクトはリボン通路を
横切つて往復移動させ、排出ダクトの入口は小滴
流の流れの衝突帯域より下流にあるようにする。

連続的に縦方向に移動するガラスリボンの面を
被覆するために利用する本発明の別の実施態様に
おいては、基質上の衝突帯域またはその組合せが
実質的にリボンの全幅にわたつて延びる一つ以上
の小滴流を使用する。その場合小滴流源を移動さ
せずにリボン全体を被覆できる。更にこの方法は
リボン形成プラントからリボンが移送されるに従
つて比較的速く移動するガラスリボンを被覆する
ために容易に実施できる程区域被覆速度を非常に
速くすることができる。

本発明は連続的に縦方向に移動するガラスリボ
ンを被覆し、リボン通路を横切つて延びる排出ガ
ス入口を有する固定排出ダクトの使用をする方法
を含む。かかる排出ダクトは上述した如きリボン
通路を横切つて延びる固定小滴放出装置と共に使
用できる、あるいは送行リボンの通路を横切つて
往復移動する小滴放出装置と組合せて使用でき
る。かかる固定排出ダクトを使用するとき、リボ
ン通路を横切つて横に並んだ位置から導かれる一
連の排出入口を有せしめるのが好ましい。かかる
場合、吸引力は、かかる入口の後に置いた共通フ
アンまたは他のアスピレータによるか、あるいは
それぞれの入口中に設けた一連のアスピレーター
によつて上記排出入口で作ることができる。

吸引力は、基質面上での小滴流の衝突帯域に対
して一般に対面する主ガス入口開口、およびかか
る主開口の後に置いてある周囲開口を有する排出
ダクト中で作られ、かかる主開口を通つて流れる
ガス流中における乱流を減少または避ける作用を
する。

衝突帯域から下流に向つて連続的に間隔を置い
た位置に配置した二つ以上の排出ダクト中にガス
を吸引し、かくして一つのダクトを通過して流れ
たガスが次のダクトに入ることができるようにす
るのが有利である。

排出ダクトのガス入口開口または一つより多く
あるときのそれらの第一番目の開口は、被覆され
る基質面に対して直角に測定して、基質面から１
〜20cmの距離に置くのが有利である。

本発明はフロート法の連続ガラスリボンが形成
されるとき、それを被覆するために適用できる。
従つて本発明は、ガラスの温度が100〜650℃内に
あるフロートタンクから下流位置で、フロートタ
ンクで形成されたガラスリボンの上面に各小滴流
を衝突させる方法を含む。

本発明方法は、金属塩を含有する液体組成物を
使用して種々な酸化物被覆を形成するのに使用で
きる。ガスが被覆帯域から引き出されるような方
法のため、本発明は反応性蒸気を放出する溶液例
えば金属塩化物の溶液を用いて開始する被覆形成
にも好適である。例えば塩化第二錫およびドーピ
ング剤例えばアンチモン、砒素または弗素のイオ
ンを与える物質を含有する水性媒体または非水性
媒体の小滴を投射することによつて酸化錫被覆を
形成することができる。金属塩は還元剤例えばフ
エニルヒドラジン、ホルムアルデヒド、アルコー
ルおよび非炭素質還元剤例えばヒドロキシルアミ
ン、および水素と共に使用できる。塩化第二錫の
代りにまたはそれに加えて他の錫塩例えばしゆう
酸第一錫または臭化第一錫を使用できる。同じ方
法で形成できる他の金属酸化物被覆の例にはカド
ミウム、マグネシウムおよびタングステンの酸化
物を含む。かかる被覆を形成するためには、金属
の化合物および還元剤の水性溶液または有機溶媒
溶液を形成することによつて同じように被覆組成
物を作ることができる。更に別の例として、本発
明は被覆されるべき基質面に小滴の形で供給する
有機金属化合物例えば金属アセチルアセトネート
の熱分解によつて被覆を形成するのに使用でき
る。本発明の範囲には異なる金属の酸化物の混合
物を含む金属被覆を形成するように、種々の金属
の塩を含有する組成物を用いることも含む。

本発明は上述した如き本発明方法によつてガラ
ス基質面上に金属または金属化合物を形成するの
に使用する装置を含む。本発明による装置は、基
質を支持するための装置、基質を加熱するための
装置および被覆されるべき基質上に小滴を放出す
るための装置を含み、上記放出装置を、被覆され
るべき基質面内の一つの帯域上に衝突するよう、
支持された基質に対して傾斜した方向で小滴の少
なくとも一つの流れを放出させるように構成し配
置したこと、上記小滴放出装置と上記基質の相対
移動を生ぜしめ、上記面上での上記小滴流の衝突
の同時に起る帯域を被覆されるべきかかる面区域
に沿つて漸進的に移動させるための装置を設ける
こと、および入口を上記衝突帯域から直接下流に
置いた排出ダクトを含むガス排出装置を含めたこ
と、上記排出装置は上記流れおよび上記衝突帯域
の付近からはなれ、直接上記排出中に実質的に上
記帯域に向う小滴の通路に影響与えることなく下
流で上記流れにガス雰囲気を連続的に吸引させる
ために設けたことを特徴とする。

本発明による装置は上流した種々な任意の処理
特長の一つ以上を使用させるために必要とされる
別の特色も含みうる。

一定方向に連続的に縦方向に移動するガラスリ
ボンを支持するため構成した装置に、その一定方
向において速度成分を有し、小滴の流れの軸とリ
ボンの路出面の間に含まれる角が、上記軸を含
み、リボン移動方向と平行である面で測定して25
〜35゜の範囲にあるような方向で小滴の少なくと
も一つの流れを放出するよう配置した小滴放出装
置を特に設ける。好ましくは小滴放出装置は、前
述した如く平行流であるか、あるいは30゜より大
きくない角度でその源から発散する流れである少
なくとも一つの上記小滴流を放出するように構成
し、配置する。

連続的に縦方向に移動するガラスリボンを被覆
するために本発明方法を適用するための本発明の
一定の装置においては、小滴放出装置が、リボン
通路を横断する方向で小滴放出ヘツドを往復移動
するための装置に接続した小滴放出ヘツドを含
む。かかる装置は、ガス排出装置が、リボン通路
を横断して往復移動させるための装置に接続した
排出ダクトを含み、かかるダクトの入口を基質上
での小滴流の衝突帯域の直接下流で維持させるよ
うにする。

連続的に縦方向に移動するガラスリボンを被覆
するのに使用するための本発明による装置の別の
形においては、小滴放出装置が、一つ以上の小滴
流を放出させるための一つ以上の小滴放出ヘツド
を含み、基質上の衝突帯域または組合さつた衝突
帯域がリボン通路の幅の全体または大部分にわた
つて広がるようにする。

上述した如き移動しうるガス放出装置を使用す
ることの別法として、本発明による一定の装置に
おいて、リボン通路を横断する方向に延びる排出
ガス入口を有する固定排出ダクトを使用する。か
かるダクトはリボン通路を横切つて並んだ一連の
排出入口を有するのが有利である。

特別の例においては、ガスが小滴流の衝突帯域
から通路に沿つて引き出され、その通路を横切つ
て延びる排出ダクトを使用する、かかるダクトに
は、かかる帯域に対面する主ガス入口開口、およ
びかかる主入口開口の後に置いた二次ガス入口開
口を有せしめる。

一つの排出ダクトを通過して下流に流れるガス
が次の排出ダクトによつて引き出されるように、
上記衝突帯域から下方へ種々な間隔で置いた排出
ダクトを設けるのが有利である。

排出ダクトの排出ガス入口または一つ以上ある
ときにはかかるダクトの最初のダクトの排出ガス
入口は、被覆されるべき基質面に対して直角に測
定してかかる面から１〜20cmの距離にあるのが好
ましい。

非常に良好な結果は、小滴流および基質上のそ
の衝突帯域の近くにあるガスがそれらを基質から
発散する通路に沿つて流れるようにする吸引力に
曝露されるとき達成された。従つて本発明による
一定の装置においては、操作中ガスが基質から放
散する通路に沿つて上記ダクトの入口に向つて流
れるように配置した排出ダクトをガス排出装置が
含む。

本発明は前述した如く、フロート法でガラスリ
ボンを形成するためフロート法と組合せて組立て
た装置を含み、小滴放出装置は各小滴流がリボン
面上で、ガラスの温度が100〜650℃の範囲にある
帯域で衝突するように配置する。

例として選択した本発明の具体例を、添付図面
に示す、これは本発明による被覆装置を組入れた
フラツトガラス製造プラントの部分断面側面図で
ある。

被覆装置は徐冷室１中に置き、この室１は屋根
２および底３を有し、その室１を通つてガラスリ
ボン４がプラントのリボン形成区分から運ばれて
来る。室１は例えばリベイ・オーウエンス型シー
トガラス引き上げ機の徐冷炉の一部であることが
できる。あるいはフロート法でガラスリボンが形
成されるようにしたフロートタンクと組合せても
よい。

ガラスリボン４はローラー５によつて支持さ
れ、矢印６によつて示した方向に室１中を通つて
送行する。ガラスリボンの通路の上で、室１には
置換しうる耐火スクリーン７および８を設ける、
これらは、室中をガラスリボンが送行するに従つ
て、ガラスリボンの上面に金属または金属化合物
被覆を形成するように室を規定する。

スプレーガン９をガラスリボンの水平通路上に
装着し、リボン移動の方向に対し直角に水平通路
に沿つてかかるガンを往復移動させるための機構
（図示せず）に接続する。スプレーガンとガラス
リボンの上面の間の垂直距離は15〜35cmである。
スプレーガンは、小滴がリボンに対する平均傾斜
角25〜35゜、錐角20゜の円錐スプレーの形で放出
されるように指向させる。

ガラスリボン上で小滴流の衝突する帯域の下流
周囲１０から下流方向へ10〜30cmの距離のところ
へ、排出ダクト１１を設ける。このダクト１１は
ダクト中に吸引力を維持するための装置（図示せ
ず）に接続する。ダクトはリボン通路を横切つて
延び、スロツト状ガス入口通路を規定するノズル
１２を有する。ノズルの入口オリフイスはガラス
リボン上１〜20cmの高さにある。

この特別の例において第二排出ダクト１３はダ
クト１１から下流に間隔を置いて設けてある。

装置を使用する時、スプレーガンからの放出お
よびガスを排出ダクト１１および１３中に吸引す
る作用をする吸引力は、スプレー円錐の帯域上流
において雰囲気が噴霧された物質の蒸気または小
滴で汚染されず実質的に静止しているように規制
する。そしてスプレーガンからガラスリボンへの
小滴の通路が吸引力によつて実質的に影響されな
いようにする。更にリボン上の小滴の衝突帯域上
の雰囲気はきれいなままにする。スプレーガンは
リボン通路を横切つて連続的に往復移動し、連続
的に作用する吸引力はリボンを横切つて被覆され
た帯域上の雰囲気が、リボン通路を横切つた往復
運動を含む一つの移動サイクルを完了するまでス
プレーガンに要する時間の間完全にきれいになる
ようにする。

改変例として、スプレーガン９はリボン通路を
横切つて並んで装着した一連の固定スプレーガン
で換えることができる。かくすると、それらは一
緒になつてリボン通路の幅一杯にわたつて被覆物
質を供給する、あるいはかかる通路を横切つて延
びる小滴放出ヘツドを有する固定アトマイザーで
換えることもできる。

以下の実施例は上述した装置によつて行なつた
本発明方法の実施例である。

実施例 １ リベイ・オーウエンス型引き上げ法でガラスを
生産する工程で幅３ｍのガラスリボンを被覆する
ため図面に示した如き被覆装置を使用した。この
ときガラスリボンの速度は１ｍ／分であつた。被
覆装置は、小滴流の衝突する帯域でガラスの温度
が600℃台にあるような位置に組立てた。

スプレーガンは普通の型のもので、４Kg/cm²の
圧力で作動させた。ガンは、１分について９回往
復を完了するようにしてガラスリボン上30cmの高
さのところにリボン通路を横切つて往復させた。
スプレーガンはスプレーの軸がガラスリボン面に
対して30゜の角になるように指向させた。

排出ダクトの吸引力は、ダクト１１および１３
の各々の吸引ノズル中に100mmH₂Oの減圧を維持
するよう規制した、この各ノズルはガラスリボン
上20cmの高さにした。

スプレーガンには、水和塩化錫（SnCl₂・
2H₂O）375ｇを水１に溶解し、55ｇのNH₄HF₂
を加えて得た塩化錫の水性溶液を供給した。

被覆溶液の分配速度は10Nm³/hrのキヤリヤー
ガス中で20/hrとした。ガラスリボン上に厚さ
7500Åを有し、弗素イオンでドープした酸化錫の
被覆が形成された。

被覆の試験では、均一の厚さおよび光学的性質
であることおよび均質組織を有することを示し
た。被覆は反射光で見て中性色を有していた。被
覆は高い可視光線透過率を有し、波長範囲26〜40
μ中の赤外線に対してはかなりの反射力を有して
いた。被覆の輻射率は0.1であつた。被覆の拡散
視感透過は非常に小さかつた。

同じ被覆法をフロートタンクから移送されたフ
ロートガラスのリボンを被覆するために用いて同
じ結果が得られた。

実施例 ２ 実施例１と同じ方法でガラスリボンを被覆し
た、ただし相違はスプレーガンを11分について６
サイクルで往復させ、空気15Nm³/hr、水１に
325ｇの無水SnCl₂および60ｇのNH₄HF₂を含有す
る水性溶液30/hrで供給した。弗素イオンでド
ープされた酸化錫からなり、厚さ10000Åを有す
る被覆ガラス上に形成された。被覆は非常に均一
な厚さを有し、均一な光学的性質を有し、また均
質組織を有していた。被覆は反射光で見て灰色調
を有していた。被覆したガラスを通る可視光線透
過率は実施例１により被覆したガラスを通しての
透過率より僅かに小さかつたが、この被覆も遠赤
外スペクトル帯域における放射線に対して高い反
射力を有していた。この被覆は実施例１で形成し
た被覆同様に非常に僅かの拡散光透過率を示した
にすぎなかつた。

実施例 ３ 実施例１で使用したのと同じ装置を使用して、
小滴の衝突帯域で580℃台の温度を有するガラス
リボンを被覆した。スプレーガンには無水SnCl₄
とメタノールの反応生成物の溶液を供給した。溶
液の濃度は、溶液を安定にするためのHClおよび
ドーピング剤としてのNH₄HF₂を加えた後ジメチ
ルホルムアミドによつて調整した。溶液の組成は
次のとおりであつた。SnCl₄（無水）200c.c.、メ
タノール625c.c.、HCl 50c.c.、NH₄HF₂62ｇおよび
溶液を１にするに要するジメチルホルムアミ
ド。スプレーガンへのこの溶液の供給速度および
空気の供給速度は実施例１の供給速度と同じにし
た。

吸引力は排出ダクト１１および１３の吸引ノズ
ル中で水100mmの減圧に維持するように規制し
た。被覆溶液の分配は、ガラスリボンに、弗素イ
オンでドープされ、厚さ7200ÅのSnO₂の被覆が
形成されように調整した。

被覆の試験ではそれが均質組織を有することを
示した。被覆は厚さおよびその光学的性質におい
て均一であつた。被覆は反射光で中性色を有して
いた。被覆は高い可視光線透過率を有し、特にス
ペクトルの遠赤外帯域における放射線に対して高
い反射力を有していた。被覆は非常に僅かな拡散
光透過率を示した。

実質的に同じ結果が得られた上記の方法の改変
法において、上記溶液を次の溶液で置換した。即
ち理論比でSnCl₄を無水酢酸と反応させ、形成さ
れたシラツプ状の褐黒色の液体を徐々に撹拌して
HClを逃散させ、この混合物をジメチルホルムア
ミドで稀釈し、ドーピング剤としてHFの40容量
％市販溶液の同じc.c.数を加えて作つた溶液を用い
た。

実施例 ４ 図面に示した如き被覆装置を用いて、4.5ｍ／
分の速度で、フロートタンクから送行されて来る
幅約25ｍのフロート法ガラスリボンを被覆した。

スプレーガンは従来からの形式のもので、34
Kg/cm²の圧力で操作した。ガンはガラスリボン上
25cmのところに装着し、リボン面に対して30゜の
傾斜角で指向させた。ガンは10サイクル／分で往
復させた。ガンにはジメチルホルムアミド中に
Co（C₅H₇O₂）2H₈Oコバルトアセチルアセトネー
ト140ｇ/で溶解して得た溶液を50／時間の割
合で供給した。ガンは、ガラスが580℃台の温度
を有する通路中の位置で、ガラスリボン上にこの
溶液が衝突するように配置した。

排出ダクト１１の吸引ノズル１２はガラスリボ
ン上20cmのところに置いた。吸引力は上記吸引ノ
ズル中に50mmH₂Oの減圧が保持されるよう規制し
た。排出ダクト１３は使用しなかつた。

被覆溶液の放出速度は、厚さ920Å台の酸化コ
バルト（Co₃O₄）被覆がガラス上に形成されるよ
う調整した。

被覆を試験し、均質組織を有していることが判
つた。被覆は完全に均一な厚さを有していた。被
覆は透過光で見て褐色であつた。被覆されたガラ
スの光学的性質は均一であり、被覆された区域全
体にわたつて良好な品質であつた。

上述した被覆に従つて、スプレーガンに、種々
な金属の化合物、例えば鉄、コバルト、クロムお
よびニツケルから選択した金属の化合物の混合物
を含有する溶液を供給することにより、または多
数のスプレーガンを使用し、それぞれのガン中に
それぞれの溶液を同時に供給することによつて、
酸化物の混合物からなる着色層を形成した。

実施例 ５ 1.5ｍ／分の速度で移動し、リベイ・オーウエ
ンス法で形成されて来る幅約３ｍのガラスリボン
を図面に示した如き被覆装置を使用して被覆し
た、被覆装置は、被覆溶液がガラスの温度が580
℃台となるガラスと接触するように配置した。

スプレーガンは10サイクル／分で往復させ、
1.54Kg/cm²の圧力で、被覆溶液を15／時間で分
配するように操作した。ガンはガラスリボン上25
cmのところに装着し、リボン面に対して25゜に傾
斜するように指向させた。

使用した被覆溶液は130ｇ/の濃度のジメチル
ホルムアミド中のチタニルアセチルアセトネート
の溶液であつた。

排出ダクト１１の吸引ノズル１２はガラスリボ
ン上10cmとした。吸引力はかかる吸引ノズル中で
水数ダースmmの減圧を保つよう調整した。ダクト
１３は使用しなかつた。

スプレーガンからの放出は、ガラス上に450Å
の厚さのTiO₂の被覆が形成されるように調整し
た。

被覆されたガラスの試験では、その全体的な光
の透過率が65％台であることを示した。被覆は均
質組織を有し、その厚さおよび光学的性質につい
て均一であつた。被覆ガラスの拡散光透過は殆ど
なかつた。被覆は透過光で灰色であつた。

上記方法の改変法において、被覆溶液をTiCl₄
の水溶液で置換し、スプレーガンおよび吸引力
を、厚さ800Åを有するTiO₂の被覆がガラス上に
形成されるように規制した。被覆の光学的性質は
上記例において形成された被覆の性質と同等であ
つた。

実施例 ６ 実施例１で使用したのと同じ被覆装置を用いて
ガラスリボン上に被覆を形成した、被覆装置は被
覆溶液の噴霧小滴がガラス温度585℃のガラスに
接触するように配置した。

実施例１で使用した速度と同じ速度で供給した
被覆溶液は、溶媒１中に595ｇのSnCl₄・5H₂O
および３ｇのSbCl₃を溶解して得た、溶媒は少量
の塩酸を含有するジメチルホルムアミドと水の混
合物であつた。

スプレーガンの位置および移動は実施例１と同
じにした。吸引力はダクト１１および１３の吸引
ノズルで100mmH₂O台の減圧を保つように調整し
た。スプレーガンからの放出は、アンチモンイオ
ンでドープされた厚さ8000ÅのSnO₂の被覆がガ
ラス上に形成されるように調整した。

被覆は反射光で中性色であつた。被覆は均質組
織を有し、その厚さおよび光学的性質は被覆の区
域全体にわたつて均一であつた。被覆ガラスの拡
散光透過は非常に僅かであつた。被覆は遠赤外波
長帯における放射線に対して非常に高い反射力を
有していた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による被覆装置を組入れたフラ
ツトガラス製造プラント側断面図である。 １は徐冷室、２は屋根、３は底、４はガラスリ
ボン、５はローラー、７および８は耐火スクリー
ン、９はスプレーガン、１０は下流周囲、１１は
排出ダクト、１２はノズル、１３は第二排出ダク
ト。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ガラス基体面が高温にある間に、上記面を熱
   分解により上記面上に金属被覆または金属化合物
   被覆を形成する金属化合物を含む小滴の少なくと
   も一つの流れと接触させ、該流れと基体を相対的
   に移動させて該流れが該面に衝突する帯域が被覆
   されるべき該面に沿つて順次移動されるようにす
   ることによりガラス基体面上に金属または金属化
   合物の被覆を形成する方法において、上記小滴の
   流れを該面に対して傾斜してかつ被覆されるべき
   面区域内の一つの帯域に衝突するように放出さ
   せ、吸引力を排出ダクト中に作り、その入口を上
   記衝突帯域から直接下流に位置せしめ、その吸引
   力によつて上記流れに対するガス雰囲気を上記流
   れおよび上記衝突帯域の付近から上記ダクト中へ
   と実質的に上記帯域へ向う小滴の通路に影響を与
   えることなく下流へ向つて連続的に流れるように
   したことを特徴とする方法。 ２ 基体を一定方向に移動させ、上記流れを傾斜
   させ、かくしてそれが基体移動方向に速度成分を
   有するようになし、またその軸を含有し、基体の
   移動方向と平行である面で測定したその軸と上記
   平行面の間に含まれる角が25〜35゜である特許請
   求の範囲第１項記載の方法。 ３ 基体がその縦方向軸と平行に移動するガラス
   リボンであり、リボン通路の横方向に往復移動す
   る上記流れを使用することによつてかかるリボン
   面の被覆を行なう特許請求の範囲第１項記載の方
   法。 ４ ガラス基体面が高温にある間に、上記面を、
   熱分解によつて上記面上に被覆金属または金属化
   合物を形成する金属化合物を含む小滴と接触させ
   ることによりガラス基体面に金属または金属化合
   物被覆を形成させるに当つて使用する装置であつ
   て、上記基体を支持するための装置、かかる基体
   を加熱するための装置および上記面に上記小滴を
   放出するための装置を含む装置において、被覆さ
   れるべき基体面区域内の一つの帯域上に衝突する
   ように、支持されている基体に対して傾斜してい
   る方向に小滴の少なくとも一つの流れを放出する
   よう上記小滴放出装置を構成しかつ配置させ、上
   記面での上記小滴流の衝突の起る帯域を、被覆さ
   れるべきかかる面区域に沿つて漸進的に移動させ
   るよう上記小滴放出装置および上記基体の相対移
   動をもたらす装置を設け、排出ダクトを含むガス
   排出装置を含ませ、その入口を上記衝突帯域から
   直接下流に設け、上記排出装置は上記流れおよび
   上記衝突帯域付近から上記ダクト中に上記帯域に
   向う小滴の通路に実質的に影響を与えることなく
   下流方向に上記流れに対してガス雰囲気を連続的
   に吸引するように取り付けたことを特徴とする装
   置。 ５ 一定方向に支持された基体を移動させるため
   の装置を設け、上記小滴放出装置は、上記一定方
   向に速度成分を有し、上記流れの軸を含みかつ上
   記一定方向と平行にある面で測定したとき上記流
   れの軸と平らな支持され移動する基体の露出面と
   の間に含まれる角が25〜35゜であるような方向に
   小滴の少なくとも一つの流れを放出させるように
   構成し配置した特許請求の範囲第４項記載の装
   置。 ６ 上記基体支持装置が連続的に縦方向に移動す
   るガラスリボンを支持するようになし、上記小滴
   放出装置に小滴放出ヘツドを含ませ、リボン通路
   を横切る方向でかかるヘツドを往復移動させるた
   めの装置に接続させた特許請求の範囲第４項記載
   の装置。 ７ 上記基体支持装置が連続的に縦方向に移動す
   るガラスリボンを支持するようになし、上記排出
   装置に排出ガス入口を有する固定排出ダクトを含
   ませ、上記排出ガス入口をリボン通路の横断方向
   に延出させた特許請求の範囲第６項記載の装置。 ８ 一つの排出ダクトを通過して下流に向つて流
   れたガスを次の排出ダクトによつて引き出しうる
   ように衝突帯域から下流に向つて異つた間隔位置
   で複数の排出ダクトを設けた特許請求の範囲第４
   項記載の装置。