JPS6160890A - 放電による薄膜加工装置 - Google Patents

放電による薄膜加工装置

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Publication number
JPS6160890A
JPS6160890A JP59184036A JP18403684A JPS6160890A JP S6160890 A JPS6160890 A JP S6160890A JP 59184036 A JP59184036 A JP 59184036A JP 18403684 A JP18403684 A JP 18403684A JP S6160890 A JPS6160890 A JP S6160890A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
electrode
electric discharge
film processing
processing equipment
Prior art date
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Pending
Application number
JP59184036A
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English (en)
Inventor
Shinichiro Ishihara
伸一郎 石原
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、グロー放電法ならびにスパッタリング法によ
って薄膜を堆積したシ、あるいはエツチングする放電に
よる薄膜加工装置に関するものであり、特にこの基板支
持電極の構造に関するものである。
従来例の構成とその問題点 従来、グロー放電装置スパッタリング装置では基板を支
持する側の電極には加熱しながら、または冷却しながら
薄膜を形成加工する機能を持たせる念め、電極を中空に
レヒータ、パイプ、熱電対等を内蔵していた。
近年これらの装置が大型化高速化すると放電電力が大き
くなってきた。電極に内蔵した熱電対には十分なシール
ドが設けられており、放電電力が熱起電力の雑音となら
ないような工夫がなされていた。例えば、網状金属で熱
電対全体をおおったり、キャパシタンスを熱電対とアー
スの間に入れる等が行なわれていた。
しかし第1図に示すように基板側電極1に熱電対2、ヒ
ータ3、冷却用パイプ4を単にさし込んでいるだけであ
り、底面のみ溶接等で固定しであるだけであった。電極
1の首の部分10の熱電対2、ヒータ3.冷却パイプ4
は振動等により簡単に動く構造になっていた。このよう
な構造では中空部分11の存在のため、大きな電力を投
入すると雑音が発生し装置内の真空計がふらついたり基
板温度がモニタできず暴走したりした。
発明の目的 本発明は上記欠点に鑑み、大電力を投入しても安定して
真空度をモニタすることができ、さらに基板温度の暴走
を防ぐことができる放電薄膜加工装置を提供することを
目的とする。
発明の構成 上記目的達成のため本発明の対電による薄膜加工装置は
、基板側電極に加熱用ヒータ、冷却用パイプ、熱電対等
を配した後、中空となっている部分に金属粉等の充填剤
をつめ込むこと罠より中空をなくし、内蔵したヒータ等
が振動等で動くことのないようにし、これらのすき間で
放電し雑音を発生することを防ぐことにより、モニタ信
号に雑音を入れないで安定した処理が行なえるようにし
たものである。
実施例の説明 以下、本発明の一実施例について第2図に基づいて説明
する。
大電力投入で雑音が発生する源は、第1図に示した電極
1中の中空部分11であり、振動等によって内蔵された
ヒータ3等がこの中で動くために火花が飛ぶことを前述
した。ヒータ3等を振動等で動かなくしておいた後、電
極を組み立てるのは困難でコスト高となる。そこで本実
施例では第2図に示すように、従来どおり電極を組み立
てた後直径0.5mm以下程度の金属粉20を振動させ
ながら中空中に入れすき間をなくした。金属粉2oの材
料はTi、 Mn、 Cu、 Mo 等安定なものであ
ればどんなものでも良い。St、Go等半導体でもMg
2Si等などでも良いが、熱伝導や軽量なこと、入手し
やすさの点から本実施例ではM粉を用いた。高分子有機
材料でも耐熱性が侵れているものもあるが帯電しやすい
ために好ましくはなかった。
また粉体を固定させると熱膨張の差によりスキ間ができ
たり割れたりするので粉体のままが好ましい0 発明の効果 以上のように本発明による放電による薄膜加工装置によ
って電極中のスキ間をなくすことができ雑音の発生を防
ぐことができるために、大電力を投入しても安定して真
空度をモニタでき基板温度の暴走を防止できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来から用いられている放電による薄膜加工装
置の基板側電極の構造を示す断面図、第2図は本発明に
よる一実施例を示す断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 薄膜を堆積またはエッチングする基板を支持する電極に
    、前記電極を加熱するヒータ、冷却するパイプ、温度を
    モニタする手段を前記電極内に配し、更に前記電極の中
    空に充填剤を入れ、前記ヒータ、前記パイプ、温度をモ
    ニタする手段を固定することを特徴とする放電による薄
    膜加工装置。
JP59184036A 1984-09-03 1984-09-03 放電による薄膜加工装置 Pending JPS6160890A (ja)

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