JPS616251U - 電子ビ−ム位置変動防止装置 - Google Patents

電子ビ−ム位置変動防止装置

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JPS616251U
JPS616251U JP9058884U JP9058884U JPS616251U JP S616251 U JPS616251 U JP S616251U JP 9058884 U JP9058884 U JP 9058884U JP 9058884 U JP9058884 U JP 9058884U JP S616251 U JPS616251 U JP S616251U
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JP
Japan
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electron beam
prevention device
position fluctuation
beam position
fluctuation prevention
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Pending
Application number
JP9058884U
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English (en)
Inventor
美雄 鈴木
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Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
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Publication of JPS616251U publication Critical patent/JPS616251U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案を適用した電子ビニム描画装置の一部断
面概要部、第２図は第１図に示した装置の要部拡大断面
図、第３図は第２図の■−■線による断面図、第４図は
本考案による磁気シールド板を設けた場合と設けない場
合の試料テーブルの移動に伴なう磁場変動をそれぞれ示
す図である。 １・・・・・・電子ビーム光学鏡筒、３・・・・・・対
物レンズ下極（下極ポールピース）、４・・・・・・試
料テーブル、５・・・・・・描画室用容器、８・・四反
射電子検出器、９・・・・・・磁気シｉルド板、１０・
・・・・・対物レンズ、１６・・・・・・被描画材。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電子ビーム描画装置おいて、電子ビーム光学鏡簡の対物
    レンズ下極と可動式の試料テーブルとの間に前記対物レ
    ンズ下極下面より広い面積を有し中央に電子ビームの通
    過孔を有する磁気シーどレド板を設けたことを特徴とす
    る電子ビーム位置変動防止装置。
JP9058884U 1984-06-18 1984-06-18 電子ビ−ム位置変動防止装置 Pending JPS616251U (ja)

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JP9058884U JPS616251U (ja) 1984-06-18 1984-06-18 電子ビ−ム位置変動防止装置

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JPS616251U true JPS616251U (ja) 1986-01-14

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