JPS6166970U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6166970U JPS6166970U JP15106884U JP15106884U JPS6166970U JP S6166970 U JPS6166970 U JP S6166970U JP 15106884 U JP15106884 U JP 15106884U JP 15106884 U JP15106884 U JP 15106884U JP S6166970 U JPS6166970 U JP S6166970U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor laser
- oscillation light
- garnet film
- built
- magnetic field
- Prior art date
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Description
第１図は本考案半導体レーザ装置の実施例の構
成を示す図、第２図、第３図は応用例を示す構成
図である。 １…半導体レーザチツプ、２…レーザ活性領域
、３…誘電体膜、４…ガーネツト膜、５…バイア
ス磁気、１２…半導体レーザ、１５…磁石。
成を示す図、第２図、第３図は応用例を示す構成
図である。 １…半導体レーザチツプ、２…レーザ活性領域
、３…誘電体膜、４…ガーネツト膜、５…バイア
ス磁気、１２…半導体レーザ、１５…磁石。
Claims (1)
- 半導体レーザを内蔵し、該半導体レーザの発振
光の出射端面に成膜法によつて形成されたガーネ
ツト膜を有し、該ガーネツト膜に対して、前記半
導体レーザの発振光が透過する方向に磁場を印加
する手段を配したことを特徴とする光アイソレー
タ付半導体レーザ装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984151068U JPH0143873Y2 (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | |
| US06/715,954 US4686678A (en) | 1984-03-27 | 1985-03-25 | Semiconductor laser apparatus with isolator |
| DE8585302090T DE3583453D1 (de) | 1984-03-27 | 1985-03-26 | Halbleiterlaservorrichtung mit einem isolator. |
| EP85302090A EP0158475B1 (en) | 1984-03-27 | 1985-03-26 | Semiconductor laser apparatus with isolator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984151068U JPH0143873Y2 (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6166970U true JPS6166970U (ja) | 1986-05-08 |
| JPH0143873Y2 JPH0143873Y2 (ja) | 1989-12-19 |
Family
ID=30709199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984151068U Expired JPH0143873Y2 (ja) | 1984-03-27 | 1984-10-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0143873Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004088129A (ja) * | 2003-12-08 | 2004-03-18 | Sony Corp | レーザ光発生装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60212708A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-25 | Hitachi Ltd | 磁気光学薄膜の形成法 |
| JPS60246298A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-12-05 | Hitachi Ltd | 複合薄膜構造 |
-
1984
- 1984-10-05 JP JP1984151068U patent/JPH0143873Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60212708A (ja) * | 1984-04-06 | 1985-10-25 | Hitachi Ltd | 磁気光学薄膜の形成法 |
| JPS60246298A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-12-05 | Hitachi Ltd | 複合薄膜構造 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004088129A (ja) * | 2003-12-08 | 2004-03-18 | Sony Corp | レーザ光発生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0143873Y2 (ja) | 1989-12-19 |
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