JPS6168409A - 安定な歯垢防止歯みがき - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
背景及び先行技術
本発明は、発泡性及び味を改良し、活性成分を可溶化し
、フッ化物安定性、全成分の適合性及び種々な容器から
の押出し特性?改良し、費用効率を高めた歯垢防止歯み
がきの調合に関する。
、フッ化物安定性、全成分の適合性及び種々な容器から
の押出し特性?改良し、費用効率を高めた歯垢防止歯み
がきの調合に関する。
全グリセリンまたは全ソルビトールの湿潤集糸とともに
第四級アンモニウム化合物及びベタイン表面活性剤から
成る、コスメテイックとして受容できる歯垢防止歯みが
き粉を調合することは今まで困難であった。さらに、グ
リセリンまたはソルビトールが調合物の10チ以上の量
で存在する、グリセリン/ポリエチレングリコールまた
はソルビトール/#?リエチレングリコールの混合物の
使用は限界に近いコスメテイック安定性を示していた。
第四級アンモニウム化合物及びベタイン表面活性剤から
成る、コスメテイックとして受容できる歯垢防止歯みが
き粉を調合することは今まで困難であった。さらに、グ
リセリンまたはソルビトールが調合物の10チ以上の量
で存在する、グリセリン/ポリエチレングリコールまた
はソルビトール/#?リエチレングリコールの混合物の
使用は限界に近いコスメテイック安定性を示していた。
しかしベンゼトニウム・クロリド(BTC)歯みがきの
成分の種々な混合物に関する広範囲な溶解性テストを行
った後に、水、BTC,ベタイン、塩及びグリセリンか
ら成る系の適合性はこれらの成分の添加順序に依存する
ことが発見されている。
成分の種々な混合物に関する広範囲な溶解性テストを行
った後に、水、BTC,ベタイン、塩及びグリセリンか
ら成る系の適合性はこれらの成分の添加順序に依存する
ことが発見されている。
従って、特別な方法を用いて、第四アンモニウム化合物
とベタイン表面活性剤から成る、歯垢防止歯みがきの安
定な製剤が保湿剤としてグリセリンまたはソルビトール
を加えて製造され得ることが発見されている。この方法
の重要な特徴は別々の2相を形成し、次にこれらの2相
を結合させて安定な系を形成することである。これらの
相の1つは、ベタイン界面活性剤(コカミビプロピル・
ベタイン)に溶解した第四アンモニウム活性成分(ベン
ゼトニウムΦクロリビまたはセチル・ピリジニウム・ク
ロリド)及びフレイバーを含有し、油性ゲル相と呼ばれ
る。第二相は水、保湿剤及び、例工ばヒドロキシエチル
セルロースのような、非イオン性ゲル化剤ならびに任意
にナトリウム・サッカリンとフッ素含有化合物すなわち
モノフルオロリン酸す) IJウムを含み、水性ゲル相
と呼ばれる。−緒にした相に最終段階として、または油
性ゲル相と一緒にする前の水性ゲル相に歯科用研磨剤を
加えることができる。最終生成物は改良された化学的及
びコスメテイック的安定性及び改良された味を有する。
とベタイン表面活性剤から成る、歯垢防止歯みがきの安
定な製剤が保湿剤としてグリセリンまたはソルビトール
を加えて製造され得ることが発見されている。この方法
の重要な特徴は別々の2相を形成し、次にこれらの2相
を結合させて安定な系を形成することである。これらの
相の1つは、ベタイン界面活性剤(コカミビプロピル・
ベタイン)に溶解した第四アンモニウム活性成分(ベン
ゼトニウムΦクロリビまたはセチル・ピリジニウム・ク
ロリド)及びフレイバーを含有し、油性ゲル相と呼ばれ
る。第二相は水、保湿剤及び、例工ばヒドロキシエチル
セルロースのような、非イオン性ゲル化剤ならびに任意
にナトリウム・サッカリンとフッ素含有化合物すなわち
モノフルオロリン酸す) IJウムを含み、水性ゲル相
と呼ばれる。−緒にした相に最終段階として、または油
性ゲル相と一緒にする前の水性ゲル相に歯科用研磨剤を
加えることができる。最終生成物は改良された化学的及
びコスメテイック的安定性及び改良された味を有する。
活性物質として第四アンモニウムを含む抗菌性菌みがき
の通常の製造方法が、米国特許第4118.476号と
米国特許第4.188.372号に開示きれており、湿
潤薬(グリセリン、ソルビトール、ポリエチレングリコ
ール)、濃厚化剤(ヒドロキシエチルセルロース)及び
甘味剤によってゲルを形成し、これに研磨剤、フレイバ
ー、抗菌剤、補充水及び最後にしみ防止剤(ホスホノ含
有化合物またはメリチン酸含有化合物)を加えることか
ら底っている。
の通常の製造方法が、米国特許第4118.476号と
米国特許第4.188.372号に開示きれており、湿
潤薬(グリセリン、ソルビトール、ポリエチレングリコ
ール)、濃厚化剤(ヒドロキシエチルセルロース)及び
甘味剤によってゲルを形成し、これに研磨剤、フレイバ
ー、抗菌剤、補充水及び最後にしみ防止剤(ホスホノ含
有化合物またはメリチン酸含有化合物)を加えることか
ら底っている。
米国特許第3.842.168号と米国特許第3.84
&779号に示されているように、抗菌剤とアルカリ金
属カルボキシアルキルのセルロースの不適合性による沈
殿とフロック化に対して歯みがきを安定化する方法も先
行技術によって開示されている。前者の特許はカルボキ
シメチルセルロース、ナトリウム・サッカリン及び湿潤
薬から成る非水性ブレンドに、水に溶かした抗菌剤を加
え、次に表面活性剤を加えてゲルを形成し、これに最終
段階として研磨剤とフレイバーを加える工程から成るも
のである。後者の特許では、グリセリン、水、ナトリウ
ム働サッカリン、カルボキシメチルセルロース及び表面
活性剤から成る混合物に抗菌剤を別に、または表面活性
剤と一緒に加え、次に研磨剤とフレイバーを加える。表
面活性剤の添加は、歯みがき内に沈殿が生ずるのを避け
るために、抗菌剤の添加に先行または抗菌剤の添加と同
時でなければならない。
&779号に示されているように、抗菌剤とアルカリ金
属カルボキシアルキルのセルロースの不適合性による沈
殿とフロック化に対して歯みがきを安定化する方法も先
行技術によって開示されている。前者の特許はカルボキ
シメチルセルロース、ナトリウム・サッカリン及び湿潤
薬から成る非水性ブレンドに、水に溶かした抗菌剤を加
え、次に表面活性剤を加えてゲルを形成し、これに最終
段階として研磨剤とフレイバーを加える工程から成るも
のである。後者の特許では、グリセリン、水、ナトリウ
ム働サッカリン、カルボキシメチルセルロース及び表面
活性剤から成る混合物に抗菌剤を別に、または表面活性
剤と一緒に加え、次に研磨剤とフレイバーを加える。表
面活性剤の添加は、歯みがき内に沈殿が生ずるのを避け
るために、抗菌剤の添加に先行または抗菌剤の添加と同
時でなければならない。
しかし本質的な成分として第四アンモニウムしみ防止化
合物、両性イオン・kタイン表面活性剤、グリセリン及
び/またはソルビトール湿潤薬ならびに非イオン性ゲル
化剤を含むコスメテイック的及び化学的に安定な歯垢防
止歯みがきであって6、第四アンモニウム化合物、ベタ
イン表面活性剤及びフレイバーから成る油性ゲル相と、
水、湿潤薬及びゲル化剤から成る水性ゲル相を形成し、
2つのゲル相を一緒にして単独の親ゲル相にし、−緒に
したゲル相に最終段階として歯科用研磨剤を加える、ま
たは油性ゲル相を添加する前に水性ゲル相に歯科用研磨
剤を加えることから成る特定の工程順序を用いる新規な
方法によって製造される歯垢防止歯みがきは、先行技術
によって開示されていない。
合物、両性イオン・kタイン表面活性剤、グリセリン及
び/またはソルビトール湿潤薬ならびに非イオン性ゲル
化剤を含むコスメテイック的及び化学的に安定な歯垢防
止歯みがきであって6、第四アンモニウム化合物、ベタ
イン表面活性剤及びフレイバーから成る油性ゲル相と、
水、湿潤薬及びゲル化剤から成る水性ゲル相を形成し、
2つのゲル相を一緒にして単独の親ゲル相にし、−緒に
したゲル相に最終段階として歯科用研磨剤を加える、ま
たは油性ゲル相を添加する前に水性ゲル相に歯科用研磨
剤を加えることから成る特定の工程順序を用いる新規な
方法によって製造される歯垢防止歯みがきは、先行技術
によって開示されていない。
本発明の概要
第四アンモニウム化合物とベタイン表面活性剤に湿潤薬
としてグリセリンまたはソルビトールを加えたしみ防止
歯みがきの安定な調合物が、第四アンモニウム化合物、
ベタインと香料から成る単独の油性ゲル相及び湿潤薬、
非イオン性ゲル化剤と水から成る単独の水性ゲル相(任
意に塩、すなわちナトリウム・サッカリン、モノフルオ
ロリン酸ナトリウムまたは他のフッ化物塩を含む)を形
成し、油性ゲル相と水性ゲル相を一緒にして安定な親ゲ
ル相を形成し、最終段階として歯科用研磨剤を加えるこ
とから成る特定の工程順序を用いることによって製造さ
れろことが今回発見された。
としてグリセリンまたはソルビトールを加えたしみ防止
歯みがきの安定な調合物が、第四アンモニウム化合物、
ベタインと香料から成る単独の油性ゲル相及び湿潤薬、
非イオン性ゲル化剤と水から成る単独の水性ゲル相(任
意に塩、すなわちナトリウム・サッカリン、モノフルオ
ロリン酸ナトリウムまたは他のフッ化物塩を含む)を形
成し、油性ゲル相と水性ゲル相を一緒にして安定な親ゲ
ル相を形成し、最終段階として歯科用研磨剤を加えるこ
とから成る特定の工程順序を用いることによって製造さ
れろことが今回発見された。
この方法は、研磨剤を水性ゲルに加えてから、この水性
ゲル−研磨剤混合物に油性ゲルを加えるように変更する
こともできる。この歯みがきは周囲温度において製造さ
れる、すなわち全工程順序の各工程は周囲温度(室温)
において製造される。
ゲル−研磨剤混合物に油性ゲルを加えるように変更する
こともできる。この歯みがきは周囲温度において製造さ
れる、すなわち全工程順序の各工程は周囲温度(室温)
において製造される。
従って、本発明の第一目的は第四アンモニウム活性成分
とベタイア表面活性剤に基づく、全成分の適合性を改良
した安定な歯垢防止歯みがきを、2種類のゲル相を形成
し、これらを−緒にして安定な全ゲル系を形成すること
によって調合することである。
とベタイア表面活性剤に基づく、全成分の適合性を改良
した安定な歯垢防止歯みがきを、2種類のゲル相を形成
し、これらを−緒にして安定な全ゲル系を形成すること
によって調合することである。
本発明の他の目的は、ベタイン及び第四アンモニウム活
性成分と適合し得る湿潤薬としてグリセリン及び/また
はソルビトールを含有するコスメテイック的及び化学的
に安定な歯垢防止歯みがきを提供することである。
性成分と適合し得る湿潤薬としてグリセリン及び/また
はソルビトールを含有するコスメテイック的及び化学的
に安定な歯垢防止歯みがきを提供することである。
本発明のさらに他の目的は、ベタイン−第四アンモニウ
ム塩系を安定化させ、第四アンモニウム活性成分の不活
化を阻止するためにゲル化剤として、ヒドロキシメチル
セルロースのような、非イオン性ガムを含む安定な歯垢
防止歯みがきを提供することである。
ム塩系を安定化させ、第四アンモニウム活性成分の不活
化を阻止するためにゲル化剤として、ヒドロキシメチル
セルロースのような、非イオン性ガムを含む安定な歯垢
防止歯みがきを提供することである。
本発明のさらに他の目的は、歯みがきのコスメテイック
的安定性に不利な影響を与えることなく、フッ化物含有
化合物をも含む、コスメテイック的(物理的)及び化学
的に安定な歯垢防止歯みがきを提供することである。
的安定性に不利な影響を与えることなく、フッ化物含有
化合物をも含む、コスメテイック的(物理的)及び化学
的に安定な歯垢防止歯みがきを提供することである。
本発明の他の目的、利点及び新規な特徴の一部は以下の
説明で述べるが、さらに一部は以下の実施例に基づいて
当業者に明らかになる、または本発明の実施によって判
明すると考えられる。
説明で述べるが、さらに一部は以下の実施例に基づいて
当業者に明らかになる、または本発明の実施によって判
明すると考えられる。
本発明の目的及び利点は特許請求の範囲で特に指摘され
ている手段及び組合わせによって実現され、達成されろ
ことができる。
ている手段及び組合わせによって実現され、達成されろ
ことができる。
ここに具体化し、概略を述べる本発明に従って上述の目
的及び他の目的を達成するために、第四アンモニウム歯
垢防止化合物、両性イオン・ベタイン表面活性剤、フレ
イバー及び、グリセリン、ソルビトールとこれらの混合
物から放る群から選択した湿潤薬ならびに非イオン性ゲ
ル化剤から成る、本発明の新規で、安定な歯垢防止歯み
がきは、第四アンモニウム歯垢防止化合物、ベタインと
フレイバーから成る油性ゲル相及び水、湿潤薬と非イオ
ン性ゲル化剤から成る水性ゲル相の2種類のゲル相を形
成し、この2種類のゲル相を一緒にして複合ゲル相を形
成し、該複合ゲル相に歯科用研磨剤を加えることから成
る方法によって、周囲温度において製造される。油性ゲ
ル相と一緒にする前の水性ゲル相に歯科用研磨剤を加え
ることによって、添加順序を変えることができる。しか
し、添加工程の前に2種類のゲル相を形成することが重
要である。好ましい成分であるフッ素含有化合物及び/
またはナトリウム・サッカリンのような塩の添加は、水
性ゲル相の形成において水に湿潤薬とゲル化剤を混合す
る前に、水の調合量に溶解することによって行われる。
的及び他の目的を達成するために、第四アンモニウム歯
垢防止化合物、両性イオン・ベタイン表面活性剤、フレ
イバー及び、グリセリン、ソルビトールとこれらの混合
物から放る群から選択した湿潤薬ならびに非イオン性ゲ
ル化剤から成る、本発明の新規で、安定な歯垢防止歯み
がきは、第四アンモニウム歯垢防止化合物、ベタインと
フレイバーから成る油性ゲル相及び水、湿潤薬と非イオ
ン性ゲル化剤から成る水性ゲル相の2種類のゲル相を形
成し、この2種類のゲル相を一緒にして複合ゲル相を形
成し、該複合ゲル相に歯科用研磨剤を加えることから成
る方法によって、周囲温度において製造される。油性ゲ
ル相と一緒にする前の水性ゲル相に歯科用研磨剤を加え
ることによって、添加順序を変えることができる。しか
し、添加工程の前に2種類のゲル相を形成することが重
要である。好ましい成分であるフッ素含有化合物及び/
またはナトリウム・サッカリンのような塩の添加は、水
性ゲル相の形成において水に湿潤薬とゲル化剤を混合す
る前に、水の調合量に溶解することによって行われる。
さらに詳しく述べると、本発明は油性ゲル相と水性ゲル
相の2相の形成から本質的に成るコスメテイック的及び
化学的に安定な歯垢防止歯みがきの新規な製造方法であ
って、次の工程順序:a、調合量の第四アンモニウム歯
垢防止剤を調合量の7レイパー中に分散させる; b、該第四アンモニウム塩−フレイバー分散系を調合量
のベメイン表面活性剤中に分散させて、油性ゲル相を形
成する; c、調合量の非イオン性ゲル化剤を調合量のグリセリン
及び/またはソルビトール湿潤薬中に分散させる; d、該ゲル化剤−湿潤薬分散系に調合量の水を混合して
、水性ゲル相を形成する; g、2つのゲル相を一緒にして、安定な親ゲル相を形成
する; f、歯科用研磨剤を水性ゲル相または親ゲル相に混合し
ながら加える; g、安定な歯垢防止歯みがきを回収するから成る方法に
関する。
相の2相の形成から本質的に成るコスメテイック的及び
化学的に安定な歯垢防止歯みがきの新規な製造方法であ
って、次の工程順序:a、調合量の第四アンモニウム歯
垢防止剤を調合量の7レイパー中に分散させる; b、該第四アンモニウム塩−フレイバー分散系を調合量
のベメイン表面活性剤中に分散させて、油性ゲル相を形
成する; c、調合量の非イオン性ゲル化剤を調合量のグリセリン
及び/またはソルビトール湿潤薬中に分散させる; d、該ゲル化剤−湿潤薬分散系に調合量の水を混合して
、水性ゲル相を形成する; g、2つのゲル相を一緒にして、安定な親ゲル相を形成
する; f、歯科用研磨剤を水性ゲル相または親ゲル相に混合し
ながら加える; g、安定な歯垢防止歯みがきを回収するから成る方法に
関する。
油性ゲル相は粘性、半透明なゲルであり、水相は透明で
ある。安定な親ゲル相は乳化系に似ている。
ある。安定な親ゲル相は乳化系に似ている。
この方法は、歯科用研磨剤を水性ゲル相に加えて混合し
てから、歯科用研磨剤と水性ゲル相の混合物に油性ゲル
相を加えるように、変えることができる。
てから、歯科用研磨剤と水性ゲル相の混合物に油性ゲル
相を加えるように、変えることができる。
任意の好ましい添加剤であるナトリウム・サッカリン及
び/またはフッ素含有化合物は、湿潤薬−ゲル化剤分散
系に水を加えて水性ゲル相を形成する前に、調合量の水
に溶解する。
び/またはフッ素含有化合物は、湿潤薬−ゲル化剤分散
系に水を加えて水性ゲル相を形成する前に、調合量の水
に溶解する。
第四アンモニウム塩−ベタイン系にグリセリン及び/ま
たはソルビトール湿潤薬のみを用いる本発明の新規な調
合方法は、歯みがきに化学的及びコスメテイック的安定
性を与えるばかりでなく、改良された味も与える。20
チ含有量のグリセリンまたはンルビトール湿潤薬、ベン
ゼトニウム・クロリド(BTC)とベタインから成る歯
みがきの味覚性は、20%r’ IJエチレングリコー
ル(PEG600)BTC歯みがきに比べて非常に改良
されたものである。グリセリン及び/またはソルビトー
ル湿潤薬によって与えられる安定性はポリエチレングリ
コールのような他の湿潤薬を凌駕するものである。
たはソルビトール湿潤薬のみを用いる本発明の新規な調
合方法は、歯みがきに化学的及びコスメテイック的安定
性を与えるばかりでなく、改良された味も与える。20
チ含有量のグリセリンまたはンルビトール湿潤薬、ベン
ゼトニウム・クロリド(BTC)とベタインから成る歯
みがきの味覚性は、20%r’ IJエチレングリコー
ル(PEG600)BTC歯みがきに比べて非常に改良
されたものである。グリセリン及び/またはソルビトー
ル湿潤薬によって与えられる安定性はポリエチレングリ
コールのような他の湿潤薬を凌駕するものである。
BTC歯みがきの20%PEG 600湿潤薬ゲル相に
は沈殿が観察されている。この沈殿を赤外線スはクトル
測定法によって分析したところ、BTc、サッカリン及
びベタインから成ることが判明した。
は沈殿が観察されている。この沈殿を赤外線スはクトル
測定法によって分析したところ、BTc、サッカリン及
びベタインから成ることが判明した。
BTC歯みがきのフッ化物安定性の研究から、MFP損
失の大部分は全PEG600湿潤薬系における加水分解
によるものであることが確認されている。他の現象(す
なわち、吸着または不溶化)も原因と考えられる。PE
G 600とモノフルオロホスフェート(MFP)に関
する溶解性問題も発見されている。
失の大部分は全PEG600湿潤薬系における加水分解
によるものであることが確認されている。他の現象(す
なわち、吸着または不溶化)も原因と考えられる。PE
G 600とモノフルオロホスフェート(MFP)に関
する溶解性問題も発見されている。
BTC歯みがきにおけるMFP安定性の研究は、MFP
の加水分解が全PEG600湿潤薬系で大規模に生ずる
ことを示している。しかし、BTC歯みがきにおける全
グリセリン湿潤集糸はMFPの損失が非常に少ないこと
を示した。実際に全ダリセリ/湿潤薬系はMFP貯蔵寿
命に関する現在の要件(全可溶性フッ化物含量が600
pI1mlより犬であり、その半分がMFPである)を
満たしているが、全PEG600湿潤薬系は満たしてい
ない(以下の表I参照)。
の加水分解が全PEG600湿潤薬系で大規模に生ずる
ことを示している。しかし、BTC歯みがきにおける全
グリセリン湿潤集糸はMFPの損失が非常に少ないこと
を示した。実際に全ダリセリ/湿潤薬系はMFP貯蔵寿
命に関する現在の要件(全可溶性フッ化物含量が600
pI1mlより犬であり、その半分がMFPである)を
満たしているが、全PEG600湿潤薬系は満たしてい
ない(以下の表I参照)。
この表は、全PFG600湿潤薬ではMF’Pの安定性
が低く、全グリセリン調合物ではMFPの安定性が非常
に良いことを示している。
が低く、全グリセリン調合物ではMFPの安定性が非常
に良いことを示している。
グリセリンBTC歯みがきとソルビトールBTC歯みが
きの画調合物に関するHPLC(高圧液体クロマトグラ
フィ)分析を初期と、4’Fにおいて9週間促進老化を
行った後に実施した。2種類のBTC抽出法(水とア七
トン)は加速エージング後にBTC回収率が低下しない
ことを示した(表■参照)。
きの画調合物に関するHPLC(高圧液体クロマトグラ
フィ)分析を初期と、4’Fにおいて9週間促進老化を
行った後に実施した。2種類のBTC抽出法(水とア七
トン)は加速エージング後にBTC回収率が低下しない
ことを示した(表■参照)。
グリセリン及び/またはソルビトール湿潤集糸は歯みが
き組成物の約18〜23重景チを占める。
き組成物の約18〜23重景チを占める。
陽イオン抗菌性物質は当技術分野で充分に公知である。
例えば、ここに参考文献として含むキルクーオスマーの
エンサイクロペジア オブ ケミカルテクノロジー(K
irk−Othmer Encyclopedia o
fChemical Technology )第2版
(2巻、632〜635頁)の「防腐剤と消毒剤(An
tiseptics andDisinfeclant
s ) J章の「第四アンモニウムと関連化合物(Qu
aternary Ammonium and Rel
atedCompounds ) 3節を参照のこと。
エンサイクロペジア オブ ケミカルテクノロジー(K
irk−Othmer Encyclopedia o
fChemical Technology )第2版
(2巻、632〜635頁)の「防腐剤と消毒剤(An
tiseptics andDisinfeclant
s ) J章の「第四アンモニウムと関連化合物(Qu
aternary Ammonium and Rel
atedCompounds ) 3節を参照のこと。
抗菌活性を有する陽イオン性物質(すなわち殺菌薬)は
細菌に対して用いられ、口腔内の細菌によって生ずる歯
垢形成を阻止するために口腔用組成物に用いられてきた
。
細菌に対して用いられ、口腔内の細菌によって生ずる歯
垢形成を阻止するために口腔用組成物に用いられてきた
。
このような抗菌性歯垢防止性第四アンモニウム化合物の
最も一般的なものは、Hyamine 1622また
はジイソブチルフェノキシエトキシエチルジメチルベン
ジルアンモニウムクロリドとしても知られている、ベン
ゼトニウム・クロリドとセチルピリジニウムクロリドで
ある。口腔用組成物内でこの物質は、歯垢及び歯石の形
成を減じ、付随的に歯周疾患を一般的に減することによ
って口腔衛生の促進に非常に効果的である。このタイプ
の他の陽イオン抗菌剤は、例えば米国特許第2.984
639号、第3325.402号、第λ431.208
号及び第3.703583号及び英国特許第L 31a
396号に述べられているものである。
最も一般的なものは、Hyamine 1622また
はジイソブチルフェノキシエトキシエチルジメチルベン
ジルアンモニウムクロリドとしても知られている、ベン
ゼトニウム・クロリドとセチルピリジニウムクロリドで
ある。口腔用組成物内でこの物質は、歯垢及び歯石の形
成を減じ、付随的に歯周疾患を一般的に減することによ
って口腔衛生の促進に非常に効果的である。このタイプ
の他の陽イオン抗菌剤は、例えば米国特許第2.984
639号、第3325.402号、第λ431.208
号及び第3.703583号及び英国特許第L 31a
396号に述べられているものである。
他の抗菌性歯垢防止性第四アンモニウム化合物は、第四
窒素の1個または2個の置換基が炭素数約8〜20、典
型的には10〜18の炭素鎖長(典型的にはアルキル基
)を有し、他の置換基は例えば炭素数1〜7のような、
炭素数の少い炭素鎖長(典。
窒素の1個または2個の置換基が炭素数約8〜20、典
型的には10〜18の炭素鎖長(典型的にはアルキル基
)を有し、他の置換基は例えば炭素数1〜7のような、
炭素数の少い炭素鎖長(典。
型的にはアルキルまたはベンジル基)を有する、典を的
にはメチルまたはエチル基であるような化合物を含む。
にはメチルまたはエチル基であるような化合物を含む。
ト9デシルトリメチルアンモニウム・プロミド、インジ
ルジメチルステアリルアンモニウム・クロリド3、セチ
ルピリジニウムクロリ−及び第四級化5−アミノ−L3
−ビス(2−エチルヘキシル)−5−メチルへキサヒド
ロ−ピリミジンが典型的な第四アンモニウム抗菌剤であ
る。
ルジメチルステアリルアンモニウム・クロリド3、セチ
ルピリジニウムクロリ−及び第四級化5−アミノ−L3
−ビス(2−エチルヘキシル)−5−メチルへキサヒド
ロ−ピリミジンが典型的な第四アンモニウム抗菌剤であ
る。
本発明の歯みがき調合物は有効量の、すなわち好ましく
は組成物全体の約0.1〜1重量%である歯垢防止性第
四アンモニウム化合物を含有する。
は組成物全体の約0.1〜1重量%である歯垢防止性第
四アンモニウム化合物を含有する。
第四アンモニウム化合物が歯垢形成を防止し得ることは
よく知られている。しかし、このような化合物は歯みが
き調合物に通常用いられるラウリル硫酸ナトリウムのよ
うな陰イオン性表面活性剤によって不活化される。陰イ
オン性表面活性剤の代りに非イオン性表面活性剤を用い
ると、不活化問題は解除するが、発泡性の低い製品が得
られることになる。しかし、第四アンモニウム活性成分
に基づく歯垢防止性歯みがき調合物にベタイン表面活性
剤を導入すると、このような調合物の発泡性が予想外に
改良され、第四アンモニウム抗菌剤が不活化されること
はない。
よく知られている。しかし、このような化合物は歯みが
き調合物に通常用いられるラウリル硫酸ナトリウムのよ
うな陰イオン性表面活性剤によって不活化される。陰イ
オン性表面活性剤の代りに非イオン性表面活性剤を用い
ると、不活化問題は解除するが、発泡性の低い製品が得
られることになる。しかし、第四アンモニウム活性成分
に基づく歯垢防止性歯みがき調合物にベタイン表面活性
剤を導入すると、このような調合物の発泡性が予想外に
改良され、第四アンモニウム抗菌剤が不活化されること
はない。
本発明の歯みがき組成物のベタイン成分は次の一般式を
有する: R1−N+ −R4−COO− 式中、R1は炭素数10〜約20.好ましくは12〜1
6のアルキル基または次式のアミドラジカル:(式中、
Rは炭素数約10〜2oのアルキル基でありαは1〜3
の整数である) を表し;R2とR3はそれぞれ炭素数1〜3、好ましく
は炭素数1のアルキル基であり;R4は炭素数1〜4の
、任意にヒドロキシル基を有する、アルキレンまたはヒ
ドロキシアルキレン基を表す。
有する: R1−N+ −R4−COO− 式中、R1は炭素数10〜約20.好ましくは12〜1
6のアルキル基または次式のアミドラジカル:(式中、
Rは炭素数約10〜2oのアルキル基でありαは1〜3
の整数である) を表し;R2とR3はそれぞれ炭素数1〜3、好ましく
は炭素数1のアルキル基であり;R4は炭素数1〜4の
、任意にヒドロキシル基を有する、アルキレンまたはヒ
ドロキシアルキレン基を表す。
典型的なアルキルジメチルベタインはデシルハ多インす
なわち2− (N−デシル−N、N−ジメチルアンモニ
オ)アセテート、ココベタイ/スナわち2− (N −
ココ−N 、 N −) メチルアンモニオ)アセテー
ト、ミリスチルベタイン、パルミチルイタイン、ラウリ
ルベタイン、セチルベタイン、ステアリルベタイン等で
ある。同様に、アミド″梗タインはココアミビニチルベ
タイン、ココアミドゝプロピルベタイン、ラウリ/アミ
ドプロピルベタイ/等である。
なわち2− (N−デシル−N、N−ジメチルアンモニ
オ)アセテート、ココベタイ/スナわち2− (N −
ココ−N 、 N −) メチルアンモニオ)アセテー
ト、ミリスチルベタイン、パルミチルイタイン、ラウリ
ルベタイン、セチルベタイン、ステアリルベタイン等で
ある。同様に、アミド″梗タインはココアミビニチルベ
タイン、ココアミドゝプロピルベタイン、ラウリ/アミ
ドプロピルベタイ/等である。
両性イオン物質であるベタインは、第四アンモニウム含
有歯みがき組成物中で発泡剤として作用する。これらは
広いpH範囲にわたって陽イオン的に作用するが、第四
アンモニウム抗菌活性を不活化しない。
有歯みがき組成物中で発泡剤として作用する。これらは
広いpH範囲にわたって陽イオン的に作用するが、第四
アンモニウム抗菌活性を不活化しない。
ベタインが第四アンモニウム活性を不活化しないことの
他に、実験室の発泡テストは第四アンモニウム化合物(
quat)とはタインの両方を含む調合物が非イオン性
表面活性剤/quat調合物に比べて2〜3倍良好に発
泡することを示している。
他に、実験室の発泡テストは第四アンモニウム化合物(
quat)とはタインの両方を含む調合物が非イオン性
表面活性剤/quat調合物に比べて2〜3倍良好に発
泡することを示している。
両性イオン・ベタインは第四アンモニウム抗菌性歯垢防
止剤と完全に適合し、第四アンモニウム含有歯みがき組
成物に対してその抗菌性を不活化することな(、洗浄性
と改良された発泡性を与える。発泡性を改良するのに有
効なベタイン量は全調合物の約3〜5重量%の範囲をと
り得る。
止剤と完全に適合し、第四アンモニウム含有歯みがき組
成物に対してその抗菌性を不活化することな(、洗浄性
と改良された発泡性を与える。発泡性を改良するのに有
効なベタイン量は全調合物の約3〜5重量%の範囲をと
り得る。
全ての両性イオン含有歯みがきに関しては、フレイバー
のクリンプ漏出のような、コスメテイック的安定性の問
題は生じない。フレイバーはにじみ出るが、両性イオン
表面活性剤中に溶解しない。
のクリンプ漏出のような、コスメテイック的安定性の問
題は生じない。フレイバーはにじみ出るが、両性イオン
表面活性剤中に溶解しない。
しかし、グリセリン及び/またはソルビトール湿潤薬を
含む、本発明の新規な歯垢防止性歯みがきは、49Cに
おける9週間老化テストに対して満足すべきフレイバー
安定性を示している。歯みがきの重要な取分であるフレ
イバー成分は約015〜2重量%を占める。適当なフレ
イノ2−を用いることができるが、適当なフレイバー成
分の例は、オランダハツカ油、〈バーミント油、冬緑油
、サツサフラス油、丁香油、セージ油、ユーカリ油、マ
ヨラナ油、桂皮油、レモン油及び橙皮油のような香油及
びメチルサリチレートである。
含む、本発明の新規な歯垢防止性歯みがきは、49Cに
おける9週間老化テストに対して満足すべきフレイバー
安定性を示している。歯みがきの重要な取分であるフレ
イバー成分は約015〜2重量%を占める。適当なフレ
イノ2−を用いることができるが、適当なフレイバー成
分の例は、オランダハツカ油、〈バーミント油、冬緑油
、サツサフラス油、丁香油、セージ油、ユーカリ油、マ
ヨラナ油、桂皮油、レモン油及び橙皮油のような香油及
びメチルサリチレートである。
甘味剤もフレイバー成分を補助するものとして用いるこ
とができる。水溶性甘味剤が適当であり、スクロース、
ラクトース、マルトース、ソルビトール、シフラミン酸
ナトリウム及びサッカリンを0.01〜0.5重量%の
童で用いることができる。
とができる。水溶性甘味剤が適当であり、スクロース、
ラクトース、マルトース、ソルビトール、シフラミン酸
ナトリウム及びサッカリンを0.01〜0.5重量%の
童で用いることができる。
本発明の歯みがきの他の重要な成分はゲル化剤であり、
ゲル化剤として非イオン性ガムを約0.8〜1重量重量
量で用いられろ。例えばカルボキシメチルセルロースの
ような、大きい有機陰イオン性分子は第四アンモニウム
塩の抗菌活性を不活化し得ることがわかっている。従っ
て、非イオン性の小さい有機分子であるヒビロキシエチ
ルセルロースは本発明のベメインーquat系において
安定な粘液性ゲルを生成するので、好ましいゲル化剤で
ある。この他、例えばヒビロキシメチルセルロース等の
ような非イオン性ゲル化剤を用いることもできる。
ゲル化剤として非イオン性ガムを約0.8〜1重量重量
量で用いられろ。例えばカルボキシメチルセルロースの
ような、大きい有機陰イオン性分子は第四アンモニウム
塩の抗菌活性を不活化し得ることがわかっている。従っ
て、非イオン性の小さい有機分子であるヒビロキシエチ
ルセルロースは本発明のベメインーquat系において
安定な粘液性ゲルを生成するので、好ましいゲル化剤で
ある。この他、例えばヒビロキシメチルセルロース等の
ような非イオン性ゲル化剤を用いることもできる。
本発明の歯みがきの好ましい付加成分であるフッ化物放
出化合物は、水中にフッ化物イオンを放出し得ろこと及
び歯みがき中の他の化合物と実質的に反応しないことを
特徴とする。このような物質には、例えばフッ化ナトリ
ウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウム、フッ化鉛
、フッ化第−銅のようなフッ化銅、フッ化亜鉛、フッ化
第−スズまたはフッ化第二スズのようなフッ化スズ、フ
ッ化バリウム、フルオロケイ酸ナトリウム、フルオロケ
イ酸アンモニウム、フルオロジルコン酸ナトリウム、モ
ノフルオロリン酸ナトリウム、モノ−及びジ−フルオロ
リン酸アルミニウム、及びフッ素化ピロリン酸カルシウ
ム−ナトリウムのような、可溶性アルカリ金属、アルカ
リ土金属及び重金属塩である無機フッ化物塩がある。特
に、フッ化ナトリウム及びフッ化第−スズのよ5な、ア
ルカリ金属及びスズのフッ化物、モノフルオロリン酸ナ
トリウム及びこれらの混合物が好ましい。
出化合物は、水中にフッ化物イオンを放出し得ろこと及
び歯みがき中の他の化合物と実質的に反応しないことを
特徴とする。このような物質には、例えばフッ化ナトリ
ウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウム、フッ化鉛
、フッ化第−銅のようなフッ化銅、フッ化亜鉛、フッ化
第−スズまたはフッ化第二スズのようなフッ化スズ、フ
ッ化バリウム、フルオロケイ酸ナトリウム、フルオロケ
イ酸アンモニウム、フルオロジルコン酸ナトリウム、モ
ノフルオロリン酸ナトリウム、モノ−及びジ−フルオロ
リン酸アルミニウム、及びフッ素化ピロリン酸カルシウ
ム−ナトリウムのような、可溶性アルカリ金属、アルカ
リ土金属及び重金属塩である無機フッ化物塩がある。特
に、フッ化ナトリウム及びフッ化第−スズのよ5な、ア
ルカリ金属及びスズのフッ化物、モノフルオロリン酸ナ
トリウム及びこれらの混合物が好ましい。
フッ化物放出化合物の量は化合物の種類、その溶解性、
及び歯みがきに成る程度依存するが、無害な量でなけれ
ばならない。練り歯みがきすなわちデンタル・クリーム
のような固体口腔用組成物中では、製剤の最大1重量%
のフッ化物イオンを放出するこのような化合物量が充分
であると考えられる。このような化合物の適当な最低量
を用いることができるが、0.005〜1重量%、好ま
しくは約0.1重量%のフッ化物イオンを放出し得るほ
どの化合物を用いることが望ましい。アルカリ金属フッ
化物及び7ツ化第−スズの場合には、典型的にこの成分
は製剤の重量に基づいて2重量%までの量で存在する。
及び歯みがきに成る程度依存するが、無害な量でなけれ
ばならない。練り歯みがきすなわちデンタル・クリーム
のような固体口腔用組成物中では、製剤の最大1重量%
のフッ化物イオンを放出するこのような化合物量が充分
であると考えられる。このような化合物の適当な最低量
を用いることができるが、0.005〜1重量%、好ま
しくは約0.1重量%のフッ化物イオンを放出し得るほ
どの化合物を用いることが望ましい。アルカリ金属フッ
化物及び7ツ化第−スズの場合には、典型的にこの成分
は製剤の重量に基づいて2重量%までの量で存在する。
モノフルオロリン酸す) IJウムの場合には、この化
合物は7.6重量%までの毫、より典型的には0.76
重量%の量で存在する。
合物は7.6重量%までの毫、より典型的には0.76
重量%の量で存在する。
本発明によって製造した歯みがきは通常の水に不溶な研
磨剤または歯科用研磨剤を全調合物の約35〜65重量
%の量で含有する。歯科用研磨剤または研磨用物質の適
当な例は、メタリン酸ナトリウム、メタリン酸カリウム
、リン酸三カルシウム、脱水したリン酸カルシウム、無
水リン酸二カルシウム、ピロリン酸カルシウム、オルト
リン酸マグネシウム、リン酸三マグネシウム、炭酸カル
シウム、ケイ酸ジルコニウム、シリカ、ベントナイト及
びこれらの混合物を含む。好ましい研磨剤はか焼アルミ
ナ、水和アルミナ及びこれらの混合物のようなアルミナ
含有研磨剤である。研磨剤は水性ゲル相に加えられる、
または油性ゲル相と水性ゲル相を一緒にした後の単−相
にかえられる。
磨剤または歯科用研磨剤を全調合物の約35〜65重量
%の量で含有する。歯科用研磨剤または研磨用物質の適
当な例は、メタリン酸ナトリウム、メタリン酸カリウム
、リン酸三カルシウム、脱水したリン酸カルシウム、無
水リン酸二カルシウム、ピロリン酸カルシウム、オルト
リン酸マグネシウム、リン酸三マグネシウム、炭酸カル
シウム、ケイ酸ジルコニウム、シリカ、ベントナイト及
びこれらの混合物を含む。好ましい研磨剤はか焼アルミ
ナ、水和アルミナ及びこれらの混合物のようなアルミナ
含有研磨剤である。研磨剤は水性ゲル相に加えられる、
または油性ゲル相と水性ゲル相を一緒にした後の単−相
にかえられる。
本発明の歯みがきは例えば着色剤すなわち白色化剤、防
腐剤及び例えばグリシルレチン酸−アンモニウムのよう
なアンモニア化物質のような、通常の補助成分を含むこ
ともできる。これらの補助取分は最終生成物の発泡性、
歯垢防止性及び安定性に影響しないかぎり、5重8%ま
で及び好ましくは1重量%までの最低量でそれぞれ、歯
みがきに加えることができる。油性相は典型的に、歯み
がきの約3.6〜8重量%を占める。
腐剤及び例えばグリシルレチン酸−アンモニウムのよう
なアンモニア化物質のような、通常の補助成分を含むこ
ともできる。これらの補助取分は最終生成物の発泡性、
歯垢防止性及び安定性に影響しないかぎり、5重8%ま
で及び好ましくは1重量%までの最低量でそれぞれ、歯
みがきに加えることができる。油性相は典型的に、歯み
がきの約3.6〜8重量%を占める。
口腔衛生を促進するために本発明を実施する場合には、
本発明による歯みがきが、少なくとも1日に1回30〜
90秒間歯をみが(ことによって、歯のエナメル質に定
期的に塗布される。
本発明による歯みがきが、少なくとも1日に1回30〜
90秒間歯をみが(ことによって、歯のエナメル質に定
期的に塗布される。
本発明の詳細な説明
次の実施例は本発明の性質をさらに説明するものである
が、本発明がこれに限定されないこと1家当然理解され
よう。組成物は通常の方法で製造されろ。この実施例及
び特許請求の範囲に記載する全ての量及び割合は、他に
指示しないかぎり、重量によるものである。
が、本発明がこれに限定されないこと1家当然理解され
よう。組成物は通常の方法で製造されろ。この実施例及
び特許請求の範囲に記載する全ての量及び割合は、他に
指示しないかぎり、重量によるものである。
実施例1
水(脱イオン化) 19.34ナトリ
ウムΦサツカリン 0.30モノフルオロ
リン酸ナトリウム 0.76ヒトロキシエチ
ルセルロース 1,1゜グリセリン
20.00ベンゼトニウム・クロリド
0.50フレイバー 1.00コ
カミドゝプロピル・ベタイア 5.00
か焼アルミナ 10.00水和アルミ
ナ 42.00ベンゼトニウム・クロ
リドをフレイバー中に分散させ、この分散系をベタイン
中に混入して、油性ゲルを形成する。ナトリウムΦサッ
カリンとモノフルオロリン酸ナトリウム(MFP)を水
に分散させる。ヒドロキシエチルセルロースをグリセリ
ン中に分散させ、この混合物を水−サツカリン−MFP
溶液に攪拌しながら加えて、水性ゲルを形成する。油性
ゲルと水性ゲルを混合して、安定な親ゲルを形成する。
ウムΦサツカリン 0.30モノフルオロ
リン酸ナトリウム 0.76ヒトロキシエチ
ルセルロース 1,1゜グリセリン
20.00ベンゼトニウム・クロリド
0.50フレイバー 1.00コ
カミドゝプロピル・ベタイア 5.00
か焼アルミナ 10.00水和アルミ
ナ 42.00ベンゼトニウム・クロ
リドをフレイバー中に分散させ、この分散系をベタイン
中に混入して、油性ゲルを形成する。ナトリウムΦサッ
カリンとモノフルオロリン酸ナトリウム(MFP)を水
に分散させる。ヒドロキシエチルセルロースをグリセリ
ン中に分散させ、この混合物を水−サツカリン−MFP
溶液に攪拌しながら加えて、水性ゲルを形成する。油性
ゲルと水性ゲルを混合して、安定な親ゲルを形成する。
か焼アルミナと水和アルミナを親ゲルと混合して、完成
歯みがきを製造する。
歯みがきを製造する。
これは歯垢に関係する細菌に対して効果的であって、丁
ぐれた化学的及びコスメテイック的安定性ならびに充分
な発泡性を有する。この歯みがきは室温において製造さ
れる。
ぐれた化学的及びコスメテイック的安定性ならびに充分
な発泡性を有する。この歯みがきは室温において製造さ
れる。
実施例2
20チグリセリンの代りに20%ソルビトールを用いた
点以外は、実施例1を(り返す。得られた生成物は同様
に、歯垢に関係する細菌に効果的であり、すぐれた化学
的及びコスメテイック的安定性ならびに充分な発泡性を
有する。
点以外は、実施例1を(り返す。得られた生成物は同様
に、歯垢に関係する細菌に効果的であり、すぐれた化学
的及びコスメテイック的安定性ならびに充分な発泡性を
有する。
MFP安定性研究は、この新規なグリセリン歯みがきと
ソルビトール歯みがきは両方ともすぐれたMFP安定性
プロフィルを有することを実証した。実施例1(20%
グリセリン)は990卑の初期全可溶性フッ化物価と9
50pIXfiのFとしてのMFP価を有する。
ソルビトール歯みがきは両方ともすぐれたMFP安定性
プロフィルを有することを実証した。実施例1(20%
グリセリン)は990卑の初期全可溶性フッ化物価と9
50pIXfiのFとしてのMFP価を有する。
実施例2(20%ソルビトール)はそれぞれ1.020
p%と98011111である、初期全可溶性フッ化物
価とFとしてのMFP価を有する(表■参照)。
p%と98011111である、初期全可溶性フッ化物
価とFとしてのMFP価を有する(表■参照)。
画調合物のpHプロフィルは、49Cにおける9週間老
化後にわずかな増加を示したにすぎなかった。促進老化
後に全可溶性フッ化物価とFとしてのMFP価は、実施
例1ではそれぞれ820卑と730pInであり、実施
例2ではそれぞれ9601)IXIと910p−であっ
た。
化後にわずかな増加を示したにすぎなかった。促進老化
後に全可溶性フッ化物価とFとしてのMFP価は、実施
例1ではそれぞれ820卑と730pInであり、実施
例2ではそれぞれ9601)IXIと910p−であっ
た。
上記調合物の変更も可能である。例えば、実施例のココ
アミド9プロピル・ベタインの代りに、ラウリンアミド
プロピル−ベタイン、ココイタイン等のような他のベタ
インな用いることもできる。
アミド9プロピル・ベタインの代りに、ラウリンアミド
プロピル−ベタイン、ココイタイン等のような他のベタ
インな用いることもできる。
同様に、実施例の特定の研磨剤の代りに他の研磨剤を用
いることができる。これと同様に、特定の実施例のモノ
フルオロリン酸ナトリウムの代りに、7ツ化ナトリウム
、フッ化カリウム等のような、他のフッ化物含有化合物
を用いることができる。
いることができる。これと同様に、特定の実施例のモノ
フルオロリン酸ナトリウムの代りに、7ツ化ナトリウム
、フッ化カリウム等のような、他のフッ化物含有化合物
を用いることができる。
同様に、ペンゼトニウムリクロリドの代りに、セチルピ
リジニウム・クロリドまたは他の第四アンモニウム歯垢
防止剤を用いることができる。ナトリウム・サッカリン
の代りにシフラミン酸ナトリウムを用いることができる
。
リジニウム・クロリドまたは他の第四アンモニウム歯垢
防止剤を用いることができる。ナトリウム・サッカリン
の代りにシフラミン酸ナトリウムを用いることができる
。
上記の詳細な記述は単に説明として記載したものであり
、この範囲で本発明の精神から逸脱することなく変更が
可能であ゛ることは当然理解されよう。上述の「要約」
は単に技術調査者の便宜を図るために記載したものであ
り、本発明の範囲を重視するために記載したものではな
い。
、この範囲で本発明の精神から逸脱することなく変更が
可能であ゛ることは当然理解されよう。上述の「要約」
は単に技術調査者の便宜を図るために記載したものであ
り、本発明の範囲を重視するために記載したものではな
い。
特許出願人 コルゲート・パーモリブ・カンパニー(
外5名)
外5名)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)歯垢防止性第四アンモニウム化合物、ベタイン界面
活性剤、フレイバー、グリセリン及び/またはソルビト
ールの保湿剤システムならびに非イオン性ゲル化剤から
成る化学的及び物理的に安定な歯垢防止歯みがきであっ
て、油性ゲル相と水性ゲル相の2種類のゲル相を形成し
、該ゲル相を一緒にして単独のゲル相とし、これに最終
段階として歯科用研磨剤を加える、または油性ゲル相を
添加する前の水性ゲル相に該歯科用研磨剤を加えること
から成る方法によって製造される歯みがき。 2)油性ゲル相が第四アンモニウム歯垢防止性化合物、
ベタイン表面活性剤及びフレイバーから成り、水性ゲル
相が水、保湿剤及び非イオン性ゲル化剤から成る特許請
求の範囲第1項記載の歯みがき。 3)水性ゲル相を形成する場合に、保湿剤とゲル化剤に
水を加える前に、調合量の水にフッ素含有化合物を溶解
する特許請求の範囲第2項記載の歯みがき。 4)水性ゲル相を形成する場合に、保湿剤とゲル化剤に
水を加える前に、調合量の水に水溶性甘味剤を溶解する
特許請求の範囲第2項または第3項記載の歯みがき。 5)該甘味剤がナトリウム・サッカリンである特許請求
の範囲第4項記載の歯みがき。 6)油性ゲル相と水性ゲル相の2相の形成から本質的に
成る、コスメティック的及び化学的に安定な歯垢防止歯
みがきの製造方法であって、次の工程順序: a、調合量の第四アンモニウム歯垢防止剤を調合量のフ
レイバーに分散させる; b、該第四アンモニウム−フレイバー分散系を調合量の
ベタイン界面活性剤に混入して、油性ゲル相を形成する
; c、調合量の非イオン性ゲル化剤を調合量のグリセリン
及び/またはソルビトールの保湿剤に分散させる; d、該ゲル化剤−保湿剤分散系を調合量の水と混合して
、水性ゲル相を形成する; e、2つのゲル相を一緒にして、安定な親ゲル相を形成
する; f、水性ゲル相または親ゲル相に歯科用研磨剤を混合し
ながら加える;及び g、安定な歯垢防止歯みがきを回収する から成る方法。 7)水性ゲル相を形成する場合に、保湿剤−ゲル化剤分
散系に水を添加する前に、調合量の水に水溶性甘味剤も
しくはフッ素含有化合物またはこの両方を溶解する特許
請求の範囲第6項記載の方法。 8)該甘味剤がナトリウム・サッカリンであり、該フッ
素含有化合物がモノフルオロリン酸ナトリウムである特
許請求の範囲第7項記載の方法。 9)該非イオン性ゲル化剤がヒドロキシエチルセルロー
スである特許請求の範囲第6項から第8項までのいずれ
かに記載の方法。 10)ベタイン含量が製剤の約3〜5重量%である特許
請求の範囲第1項記載の歯みがき。 11)非イオン性ゲル化剤が約0.8〜1.5重量%量
のヒドロキシエチルセルロースである特許請求の範囲第
10項記載の歯みがき。 12)保湿剤系として約18〜23重量%のグリセリン
もしくはソルビトールまたはこれらの混合物を含有する
特許請求の範囲第11項記載の歯みがき。 13)約35〜65重量%の水に不溶な歯科用研磨剤を
含有する特許請求の範囲第1項記載の歯みがき。 14)歯科用研磨剤がアルミナ含有研磨剤である特許請
求の範囲第13項記載の歯みがき。 15)歯垢防止剤が約0.1〜1重量%量のベンゼトニ
ウム・クロリドである特許請求の範囲第14項記載の歯
みがき。 16)フッ化物放出化合物が歯みがきに対して約0.0
65〜1重量%のフッ化物イオンを放出し得るほどの量
で存在する特許請求の範囲第3項記載の歯みがき。 17)フッ化物放出化合物がモノフルオロリン酸ナトリ
ウムである特許請求の範囲第16項記載の歯みがき。 18)ベタインがココアミド・ベタインである特許請求
の範囲第10項記載の歯みがき。 19)研磨剤が水和アルミナとか焼アルミナの混合物で
ある特許請求の範囲第14項記載の歯みがき。 20)フレイバーが約0.5〜2重量%を占める特許請
求の範囲第2項記載の歯みがき。 21)ナトリウム・サッカリンが約0.01〜0.5重
量%を占める特許請求の範囲第5項記載の歯みがき。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US64892684A | 1984-09-10 | 1984-09-10 | |
| US648926 | 1984-09-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168409A true JPS6168409A (ja) | 1986-04-08 |
Family
ID=24602785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60199278A Pending JPS6168409A (ja) | 1984-09-10 | 1985-09-09 | 安定な歯垢防止歯みがき |
Country Status (30)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168409A (ja) |
| KR (1) | KR920007830B1 (ja) |
| AT (1) | AT388293B (ja) |
| AU (1) | AU581247B2 (ja) |
| BE (1) | BE903203A (ja) |
| BR (1) | BR8504325A (ja) |
| CA (1) | CA1261758A (ja) |
| CH (1) | CH669112A5 (ja) |
| DE (1) | DE3531337A1 (ja) |
| DK (1) | DK411085A (ja) |
| ES (1) | ES8702785A1 (ja) |
| FI (1) | FI81256C (ja) |
| FR (1) | FR2569981B1 (ja) |
| GB (1) | GB2164255B (ja) |
| GR (1) | GR852186B (ja) |
| HK (1) | HK61291A (ja) |
| IN (1) | IN164485B (ja) |
| IT (1) | IT1182856B (ja) |
| MX (1) | MX164748B (ja) |
| MY (1) | MY101907A (ja) |
| NL (1) | NL8502468A (ja) |
| NO (1) | NO165477C (ja) |
| NZ (1) | NZ213285A (ja) |
| PH (1) | PH22177A (ja) |
| PT (1) | PT81097B (ja) |
| SE (1) | SE458586B (ja) |
| SG (1) | SG54791G (ja) |
| ZA (1) | ZA856445B (ja) |
| ZM (1) | ZM5985A1 (ja) |
| ZW (1) | ZW14385A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009155217A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Lion Corp | 歯磨剤組成物 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5023074A (en) * | 1986-05-13 | 1991-06-11 | Colgate-Palmolive Company | Stabilized amine fluoride dental cream |
| GB8719775D0 (en) * | 1987-08-21 | 1987-09-30 | Unilever Plc | Oral products |
| US5783200A (en) * | 1997-01-21 | 1998-07-21 | The Procter & Gamble Company | Personal cleansing compositions |
| US5785979A (en) * | 1997-01-21 | 1998-07-28 | The Procter & Gamble Company | Personal cleansing compositions |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4117107A (en) * | 1975-10-17 | 1978-09-26 | Noxell Corporation | Method and composition for improving oral hygiene |
| SE431285B (sv) * | 1976-08-16 | 1984-01-30 | Colgate Palmolive Co | Munvardskomposition innehallande en fosfonforening, for minskning av missfergning bildad av ett ingaende kvevehaltigt antibakteriellt plaquehemmande medel |
| US4130637A (en) * | 1977-01-31 | 1978-12-19 | Colgate-Palmolive Company | Anti-plaque agents |
| SE444112B (sv) * | 1978-06-15 | 1986-03-24 | Dental Therapeutics Ab | Rengoringsmedel for dentinytor |
| IN161843B (ja) * | 1983-07-13 | 1988-02-13 | Colgate Palmolive Co |
-
1985
- 1985-08-23 ZA ZA856445A patent/ZA856445B/xx unknown
- 1985-08-26 IN IN703/DEL/85A patent/IN164485B/en unknown
- 1985-08-28 SE SE8504002A patent/SE458586B/sv not_active IP Right Cessation
- 1985-08-28 NZ NZ213285A patent/NZ213285A/xx unknown
- 1985-08-29 CH CH3745/85A patent/CH669112A5/de not_active IP Right Cessation
- 1985-09-03 DE DE19853531337 patent/DE3531337A1/de not_active Withdrawn
- 1985-09-04 ZW ZW143/85A patent/ZW14385A1/xx unknown
- 1985-09-04 AT AT0258285A patent/AT388293B/de not_active IP Right Cessation
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- 1985-09-06 FI FI853425A patent/FI81256C/fi not_active IP Right Cessation
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- 1985-09-06 GB GB08522158A patent/GB2164255B/en not_active Expired
- 1985-09-09 CA CA000490222A patent/CA1261758A/en not_active Expired
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- 1985-09-09 BR BR8504325A patent/BR8504325A/pt unknown
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-
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- 1987-09-28 MY MYPI87002051A patent/MY101907A/en unknown
-
1991
- 1991-07-10 SG SG547/91A patent/SG54791G/en unknown
- 1991-08-08 HK HK612/91A patent/HK61291A/xx unknown
Cited By (1)
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