JPS6174340A - 薄膜素子製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、グロー放電によって原料ガスを分解し堆積す
る装置や、グロー放電によって分解励起されたガスを用
いて材料をエッチソゲする装置ならびにスパッタリング
法によって薄膜を堆積またはエツチングする装置に関す
る。

従来例の構成とその問題点 近年、グロー放電法ならびに、スパッタリング法によっ
て薄膜を堆積したりエツチングしたりする薄膜素子製造
装置社、大型化されつつあり、生産速度も大きくなって
きているために、原料ガスや放電の媒体となるガスの流
量が増加している。

このため、排気口とその反対側とでは真空度の差が無視
できなくなっており、放電の状態が場所によって異なっ
ていた。

交流電力供給用電極とこれに近接するシールド板との間
隔は従来、いかに一定に保つかに注意が払われていた。

放電は装置内では一定であるという前提のもとに行なわ
れていたものである。しかし、前述のとおり、大型化高
速化のため装置内の放電は一定ではなくシールド板と電
極との間で、異常放電が起こりやすかった。

発明の目的 本発明は上記欠点に鑑み異常放電や放電ムラを軽減し、
安定で均一な放電を得る薄膜素子製造装置を提供するも
のである。

発明の構成 本発明は上記目的を達成するため薄膜素子製造装置の排
気口側ではシールド板と交流電力供給電極との間隔を大
きく１反対側では小さくなるようにまたは、間隔の大小
を逆にして配することにより放電を安定かつ均一にする
。

実施例の説明 以下、本発明の一実施例について図に基づいて説明する
。

第１図は１本発明による薄膜素子製造装置の一例の断面
図である。本実施例ではグロー放電法による非晶質シリ
コン堆積装置を示した。反応室１内に高周波電源２から
電力を供給する電極３と、シールド板４および対向電極
５が図のように配設されている。電力供給電極３は、原
料ガス噴出供給口をも兼ねている。対向電極５は、被堆
積基板ｅを支持する役割も果たしてい冬。

第２図には、同装置第２図に示すように電力供給電極３
とシールド板４は、排気ロアの近くでは。

間隔が大きく、反対側では小さくなっている。排気ロア
側では、高真空になり、反対側では低真空になっている
ためにシールド間隔の最適距離が異なるためである。な
お、放電状態が異なるとシールド間隔もまた異なってく
る。このため、排気口Ｔ側では間隔を小さく、反対側で
は大きくするようにシールド板４を配すことによって異
常放電を防止することが可能となる。すなわち、シール
ド間隔を放電状態によって場所場所で変えることによっ
て本発明は実現できる。

以上、グロー放電堆積装置について述べてきたが、グロ
ー放電によるエツチング装置でも、スノくツタリング装
置でも放電を用いる装置では同様であることは言うまで
もない。

発明の効果 以上のように、本発明によれば、７一ルド間隔を反応室
内の場所による真空度に応じて最適にしてｆることに゛
より異状放電を防止し、放電を安定かつ均一にすること
ができるため、唯積膜質の良好な膜を安定かつ均一に形
成することが可能となっ罠。従って近年ますます大型化
高速化されつつある放電を用いた薄膜素子製造装置を効
率良く有効に使用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による薄膜素子製造装置の横断面図、第
２図は同縦断面図である。 １・・・・・・反応室、２・・・・・・高周波電源、３
・・・・・・電力供給電極、４・・・・・・シールド板
、６・・・・・・対向電極。 ６・・・・・・被堆積基板、７・・・・・・排気口。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）シールド板と交流電力供給用電極との間隔を連続
   に変化させて配することを特徴とする薄膜素子製造装置
   。
2. （２）シールド板と交流電力供給用電極との間隔を排気
   口側では大きく、前記排気口と反対側では小さくするこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜素子製
   造装置。
3. （３）シールド板と交流電力供給用電極との間隔を、排
   気口側では小さく、前記排気口と反対側では大きくする
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の薄膜素子
   製造装置。