JPS617566U - 多層膜形成装置 - Google Patents

多層膜形成装置

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JPS617566U
JPS617566U JP9157584U JP9157584U JPS617566U JP S617566 U JPS617566 U JP S617566U JP 9157584 U JP9157584 U JP 9157584U JP 9157584 U JP9157584 U JP 9157584U JP S617566 U JPS617566 U JP S617566U
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JP
Japan
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substrate
mask
multilayer film
film forming
forming equipment
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JP9157584U
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Inventor
洋一 加藤
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日本真空技術株式会社
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例の截断側面図、第2図はその■
−■線部分の拡大図、第3図は第2図の■一■線部分の
断面図第4図は要部の拡大断面図である。 1・・・真空槽、2・・・基板、3・・・蒸発源、4・
・・マズク、5・・・透孔、6・・・マスクホルタ、7
・・・マスク昇降部材。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空槽1内に基板2と対向して蒸発源3を設け、該基板
    2の表面にパターン形成用のマスク4を施してその表面
    に蒸発物質のパターンを形成する式のものに於いて、該
    真空槽1内に複数個の蒸発源3を用意し、該基板2の前
    方へ進出自在にマスク4を挿着した複数個の透孔5を有
    するマスクホルダ6を設け、該基板2のマスクホルタ6
    を介しての対向側に該マスク4を基板2に当接させるマ
    スク昇降部材7を設けて成る多層膜形成装置。
JP9157584U 1984-06-21 1984-06-21 多層膜形成装置 Granted JPS617566U (ja)

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JP9157584U JPS617566U (ja) 1984-06-21 1984-06-21 多層膜形成装置

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Publication Number Publication Date
JPS617566U true JPS617566U (ja) 1986-01-17
JPH0238921Y2 JPH0238921Y2 (ja) 1990-10-19

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ID=30647585

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JP9157584U Granted JPS617566U (ja) 1984-06-21 1984-06-21 多層膜形成装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0338177U (ja) * 1989-08-26 1991-04-12

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0338177U (ja) * 1989-08-26 1991-04-12

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JPH0238921Y2 (ja) 1990-10-19

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