JPS6176270A - 研磨装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈技術分野〉 本発明は、それに限定されるものではないが特に半導体
ウェーハの表面金研磨即ちポリッシング又はラッピング
するのに適した研磨装置に関する。

本明細書において使用される語句「研磨」は、ポリッシ
ング又はラッピングを意味する。

〈従来技術〉 周知の如く、半導体デバイス製造においては、一般は、
半導体ウェーハを所要薄さにせしめると共にその表面全
充分に平滑な鏡面にせしめるためは、半導体ウェーハの
表面を研磨することが必要である。そして、実際上、半
導体ウェーハの表面を研磨するためは、種々の形態の研
磨装置が提案され実用に供されている（例えば、米国特
許第４．１４１．１８０号明細書及び図面を参照された
い殆然るは、従来の研磨装置又に研磨システムには、ｆ
ｌ）相自複雑且つ大型である、（２）研磨効率が比較的
低い、（３）研磨量及び研磨精度が異なつ几複数台の別
個の研磨量Ｂを備え、半導体ウェーハをかかる複数台の
研磨装置に順次に送給し、順次によ）高精度の研磨を半
導体ウェーハに施さなければならず、設備コストが高く
且つ作業能率が低い、（４）研磨工程の完全自動化が不
可能である、等の問題乃至欠点がある。

〈発明の目的〉 従って、本発明の主目的は、被加工物、殊に半導体ウェ
ーハ、の表面は、研磨量及び研磨精度が異なる複数種の
研磨上所要の順序で順次に充分な高効率で施し、かくし
て充分な作業能率で所要通りの研磨を遂行することがで
きる、比較的簡潔で且つ小型の新規且つ優れた研磨装置
を提供することである。

本発明の他の目的は、比較的容易に研磨工程の完全自動
化を実現することを可能にする、新規且つ優れ次研磨装
置を提供することである。

〈発明の要約〉 本発明によれば、中心軸線を中心として回転自在に装着
された割出テーブルと、該割出テーブルの周方向に間隔
音直いて該割出テーブル上に回転自在に装着された複数
個の中間テーブルと、該中間テーブルの各々に回転自在
に装着され且つその表面に被加工物を保持することがで
きる少なくとも１個のチャックテーブルと、該割出テー
ブルの周方向に間隔を置いた複数個の位置に夫々、規定
′された複数個の作業域であって、少なくとも２個の研
磨域を含むところの複数個の作業域と、該研磨域の各々
に配設され念、被加工物の表面を研磨するための研磨手
段と、該割出テーブルを間けつ的に回転せしめて、該中
間テーブルの各々ｋＲ複数個の作業域のうちの、少なく
とも２個の該研磨域を含む２個以上の作業域に順次に位
置付けるための割出手段と、該中間テーブルを回転せし
めて該チャックテーブルを公転せしめ且つ該チャックテ
ーブルを自転せしめるための回転手段と、を具備する研
磨装置が提供される。　　　′〈発明の好適具体例〉 以下、本発明に従って構成された研磨装置の一具体例を
図示している添付図面を参照して、更に詳細に説明する
。

全体的構成の概要 第１図を参照して図示の研磨装置の全体的構成の概要を
説明すると、研磨装置は、実質上鉛直に（第１図におい
て紙面に垂直な方向に）延びる中心軸線２を中心として
回転自在に装着された、比較的大径の円盤形態である割
出テーブル４を具備している。この割出テーブル４上に
は、周方向に間隔を置いて複数個、図示の具体例では６
個、の円盤形態である中間テーブル６が回転自在に装着
されている。複数個の中間テーブル６は、夫々、上記中
心軸線２からの半径方向距離が相互に実質上同一で且つ
割出テーブル４の周方向に等間隔を置いた（即ち等角度
間隔を置いた）複数個の位置に配置されているのが好ま
しい。中間テーブル６の各々には、少なくとも１個、好
ましくは複数個、図示の具体例では３個、の比較的小径
の円盤形態であるチャックテーブル８が回転自在に装着
されている。複数個のチャックテーブル８は、夫々、第
１図において紙面に垂直な方向に延びるところの中間テ
ーブル６の回転中心軸線１ｏからの半径方向距離が相互
に実質上同一で且つ中間テーブル８の周方向に等間隔を
置いた（即ち等角度間隔を置いた）複数個の位置に配置
されているのが好ましい。

上記割出テーブル４の周方向に間隔を置いた複数個の位
置には、夫々、作業域が規定されている。

図示の具体例においては、上記中間テーブル６０個数と
同数、従って６個の作業域Ａ、　　Ｂ、　　Ｃ，Ｄ。

Ｅ及びＦが規定されておシ、かかる６個の作業域Ａ、　
　Ｂ、　　Ｃ，Ｄ、　　Ｅ及びＦは夫々中間テーブル６
の各々に対応して位置している。従って、作業域Ａ、　
　Ｂ、　　Ｃ，Ｄ、　Ｅ及びＦは、夫々、割出テーブル
４の中心軸線２からの半径方向距離が相互に実質上同一
であると共に上記中間テーブル６と実質上同一であり且
つ割出テーブル４の周方向に等間隔を置いた（即ち等角
度間隔を置いた）６個の位置に規定されている。各作業
域Ａ、　　Ｂ、　　Ｃ，Ｄ。

Ｅ及びＦ間には、静止仕切壁１１が配設されている。作
業域Ａは被加工物取出及び装填域であり、作業域Ｂは粗
研磨域であり、作業域Ｃは洗浄域でちゃ、作業域りは中
間研磨域であり、作業域Ｅｉ洗浄域であり、作業域Ｆは
仕上げ研磨域である。

粗研磨域Ｂ１１間研賠域り及び仕上げ研磨域Ｆには、夫
々、被加工物の表面を適宜に研磨するための研磨手段が
配設されている（研磨手段についてに後に説明する）。

洗浄域Ｃ及びＥには、夫々、洗浄液噴射手段が配設され
ている（洗浄液噴射手段については後に説明する）。

上記の通りの研磨装置においては、割出テーブル４が隣
接する中間テーブル６間の角度間隔、即ち６０度づつ間
けっ的に矢印１２で示す方向に回転せしめられ、かくし
て、中間テーブル６の各々は、順次は、被加工物取出及
び装填域Ａ１粗研磨域Ｂ１洗浄域Ｃ１中間研磨域Ｄ１洗
浄域Ｅ１及び仕上げ研磨域Ｆに位置付けられる。被加工
物取出及び装填域Ａにおいては、それ自体は公知の適宜
の形態のものでよい取出手段（図示していない）によっ
て、既に所要の研磨を受けた半導体ウェーハの如き被加
工物がチャックテーブル８がら取出される。取出された
被加工物は別個に配設された最終洗浄域（図示していな
い）に搬入されて、この最終洗浄域において洗浄液の噴
射等によって清浄化され、しかる後に収集域に送給、或
いは直接的に次の処理装置に送給される。被加工物の取
出に続いて、被加工物取出及び装填域Ａにおいては、そ
れ自体は公知の適宜の形態のものでょい装項手段（図示
していない）によって、半導体ウェーハの如き被加工物
が研磨すべき表面を上方に向けてチャックテーブル８上
に装項される。チャックテーブル８上に装項された被加
工物は、真空吸着作用によってそこに充分強固に吸着保
持される。粗研磨域Ｂにおいては、中間テーブル６が矢
印１４で示す方向に回転せしめられてチャックテーブル
８及びその上に保持された被加工物が公転せしめられる
と共は、チャックテーブル８が矢印１６で示す方向、即
ち中間テーブル６０回転方向と逆方向に回転せしめられ
てチャックテーブル８及びその上に保持された被加工物
が自転せしめられる。

そしてこの間は、研磨手段が被加工物の表面に作用して
、比較的大きな研Ｍ量で比較的粗く被加工物の表面を研
磨する。洗浄域Ｃにおいては、洗浄液噴射手段がチャッ
クテーブル８上に保持されている被加工物に洗浄液を噴
射して洗浄する。中間研磨域りにおいては、上記粗研磨
域Ｂにおける場合と同様にして、中間研磨量で且つ中間
粗さで被加工物の表面が研磨される。洗浄域Ｅにおいて
は、上記洗浄域Ｃにおける場合と同様にして、被加工物
が洗浄される。そして、仕上げ研磨域Ｆにおいては、上
記粗研磨域Ｂにおける場合と同様にして、比較的小さい
研Ｍ量で充分−精度に被加工物の表面が研磨される。

而して、図示の具体例では、６個の中間テーブル６に対
応して６個の作業域Ａ、　　Ｂ、　　Ｃ，Ｄ、　　Ｅ及
びＦ′５ｒ、設け、割出テーブル４の間けつ回転によっ
て中間テーブル６の各々を作業域Ａ、　　Ｂ、　　Ｃ。

Ｄ、Ｅ及びＦの全てに順次に位置付けているが、所望な
らば、例えば割出テーブルに１２個の中間テーブル、全
配設すると共は、作業域Ａ、Ｂ、Ｃ。

Ｄ、　　Ｅ及びＦ全夫々２個づつ、従って総計で１２個
の作業域を設け、６個の中間テーブルの各々は一方の組
の作業域Ａ、　　Ｂ、　　Ｃ，Ｄ、　　Ｅ及びＦの各々
に順次に位置付け、残りの６個の中間テーブルの各々は
他方の組の作業域Ａ、　　Ｂ、　　Ｃ，Ｄ、　Ｅ及びＦ
の各々に順次に位置付けることもできる。また、割出テ
ーブルに２個の同心円状に複数個の中間テーブルを配列
すると共は、これに対応して複数個の作業域を２個の同
心円状に配列し、内側の複数個の中間テーブルの各々は
内側の複数個の作業域の各々に順次に位置付け、外側の
複数個の中間テーブルの各々は外側の複数個の作業域の
各々に順次に位置付けることもできる。

割出、中間及びチャックテーブル 次は、第１図と共に第２図全参照して、割出テーブル４
、中間テーブル６及びチャックテーブル８について詳細
に説明する。

図示の研磨装置においては、割出テーブル４の中心軸線
２（第１図）に溢って実質上鉛直に延びる主支持軸（図
示していない）が配設されており、この主支持軸に割出
テーブル４が回転自在に装着されている。更は、割出テ
ーブル４０周縁部下方には、静止環状支持台１８が配設
されており、この支持台１８の上面には、割出テーブル
４の周縁部下面に形成されている環状被案内面２０を受
ける環状案内面２２が形成されている。かくして、割出
テーブル４は、その周縁部が支持台１８に支持され、実
質上水平な状態に充分確実に支持される。支持台１８の
外周面にホ、環状排水路を規定する断面が略り字状のチ
ャンネル部材２４が固定されている。割出テーブル４は
適宜の伝動例（図示していない゛）を介して電動モータ
でよい駆動源２６に駆動連結されている。この駆動源２
６は、割出テーブル４を所要角度即ち６０度づつ所定時
間間隔を置いて間けつ的に回転せしめる割出手段を構成
する。

第２図を参照して割出テーブル４への中間テーブル６の
装着方式及び中間テーブル６へのチャックテーブル８の
装着方式について説明すると、次の通りである。割出テ
ーブル４には、６個の中間テーブル装着位置の各々にて
、実質上鉛直に割出テーブル４を貫通して延びる回転軸
２８（第２図には１本の回転軸２８のみを図示している
）が、ラジアルベアリング３０並びにスラストベアリン
グ３２及び３４によって回転自在に装着されている。そ
して、かかる回転軸２８の各々の上端に中間テーブル６
の中央部下面が固定されている。中間テーブル６の周縁
部下面には環状部材３６が固定されている。この環状部
材３６には半径方向外方に突出する短軸３８が周方向に
間隔を置いて複数個装着されており、かかる短軸３８の
各々の突出端には被案内ローラ４０が回転自在に装着さ
れている。一方、割出テーブル４の上面には、中間テー
ブル６の各々に対応して環状案内レール４２が形成され
ている。上記被案内ロー２４０の各々は環状案内レール
４２の上面に乗せられ、かくして中間テーブル６の周縁
部下面が被案内ローラ４０全介して環状案内レール４２
によって支持され、これによって中間テーブル６は実質
上水平な状態に充分確実に支持される。中間テーブル６
の各々には、３個のチャックテーブル装着位置の各々に
て上下方向に貫通する開口４４が形成されており、かか
る開口４４の各々にチャックテーブル８がラジアル及び
スラストベアリング４６によって回転自在に装着されて
いる（第２図には２個の開口４４と２個のチャックテー
ブル８のみを図示している）。

図示のチャックテーブル８の各々は、中間テーブル６の
上面を越えて上方に突出する上部部材４８とこの上部部
材４８の下面に固定された下部部材５０とから構成され
ている。チャックテーブル８の各々には適宜の保護カバ
ー５２が付設され、セしてま之中間テーブル６の各々に
も適宜の保護カバー５４及び５６が付設されている。こ
れらの保護カバー５２．５４及び５６は、研磨域Ｂ、　
Ｄ及びＦ（第１図）において使用される研磨スラリー並
びに洗浄域Ｃ及びＥ（第１図）において使用される洗浄
液等が、チャックテーブル８及び中間テーブル６の内部
支持構造に進入するのを防止する。

図示の研磨装置においては、中間テーブル６及びチャッ
クテーブル８の各々は、次の通りの流路手段が設けられ
ている。第２図を参照して説明七続けると、チャックテ
ーブル８の上部部材４８の中央部には上下方向に貫通し
て延びる複数個の貫通流路５８が形成されている。また
、上部部材路には、上記貫通流路５８のうちの半径方向
外側に位置するものから半径方向外方に延びる複数個の
放射状流路６０と、かかる放射状流路６０の各々から半
径方向に間隔を置いて上方へ上部部材４８の上面まで延
びる複数個の補助流路６２とが形成されている。上記放
射状流路６０の各々の外側端は、適宜の方式によって密
閉されている。チャックテーブル８の下部部材５０の上
面には比較的浅い円形凹部６４が形成されており、上記
貫通流路５８の各々の下端はかかる円形凹部６４に連通
せしめられている。下部部材５０には、更は、その下端
部外周面に環状溝６６が形成されていると共は、かかる
環状溝６６と上記円形凹部６４とを接続する流路６８が
形成されている。下部部材５０く形成されている上記環
状溝６６は、中間テーブル６に対して相対的に移動しな
い環状マニホルド７０によって囲繞されている。一方、
上記回転軸２８とその上端に固定された中間テーブル６
との間には、密封空間７２が規定されておシ、中間テー
ブル６には、かかる密封空間７２から半径方向に上記開
口４４の各々の内周面まで延びる放射状流路７４が形成
されている。そして、かかる放射状流路７４の各々の外
側端が短い管路７６に′よって上記環状マニホルド７０
に接続されている。上記回転軸２８には、その上端面か
ら下方へその下端近傍まで延び、次いで半径方向外方へ
外周面まで延びる流路７８が形成されている。回転軸２
８の下端部は、割出テーブル４に対して相対的に移動し
ない環状部材８０によって囲繞されており、この環状部
材８０の内周面には、環状＊８２が形成されている。回
転軸２８に形成されている上記流路７８は、環状溝８２
と上記密封空間７２とを接続している。上記環状部材８
０には、更は、上記環状溝８２から外周面まで延びる放
射状流路８４が形成されている。そして、この流路８４
は、適宜の切換弁８６を有する管路８８を介して、真空
源９０と水でよい液体の供給源９２とに接続されている
。

中間テーブル６が被加工物取出及び装填域Ａ（第１図）
に位置付けられると、切換弁８６が操作されて、それま
で真空源９０に連沸せしめられていた上記流路手段が供
給源９２に連通せしめられる。かくすると、供給源９２
から送給される液体がチャックテーブル８の上部部材４
８に形成されている貫通流路５８及び補助流路６２全通
してチャックテーブル８の上面に流出せしめられる。か
くして、それまでチャックテーブル８の上面に真空吸着
されていたところの半導体ウェーノーの如き被加工物が
チャックテーブル８の上面から浮上せしめられる。そし
てまた、チャックテーブル８の上面に流出せしめられた
液体によってチャックテーブル８が洗浄される。先の被
加工物がチャックテーブル８から取出され、次の被加工
物がチャックテーブル８上に装置されると、切換弁８６
が操作されて流路手段が真空源９０に連通せしめられる
。かくすると、チャックテーブル８の上部部材４８に形
成されている貫通流路５８及び補助流路６２金通して空
気が吸引され、かくして被加工物がチャックテーブル８
の上面に真空吸着される。

而して、図示の研磨装置においては、第１口金参照して
既に言及した如く、粗研磨域Ｂ１中間研磨域り及び仕上
げ研磨域Ｆの各々（おいて、中間テーブル６を矢印１４
で示す方向に回転駆動せしめると共は、チャックテーブ
ル８を矢印１６で示す方向に回転駆動せしめることが必
要であり、そのための回転手段が設けられている。第２
図を参照して説明を続けると、研磨域Ｂ、　　Ｄ及びＦ
（第１図）の各々に関連せしめて、夫々、電動モータで
よい駆動源９４とこの駆動源９４に態動連結された一次
伝動手段９６（第２図にはその出力端部のみを図示して
いる）とが配設されている。第２図には、研磨域Ｂに関
連せしめて配設された駆動源９４及び一次伝動手段９６
のみを図示しているが、研磨域り及びＦにも、夫々、同
一形態でよい駆動源及び一次伝動手段が配設されている
。所望ならば、３個の研磨域Ｂ、　　Ｄ及びＦの夫々に
関連せしめて３個の駆動源を配設することに代えて、単
一の共通駆動源全配設することもできる。一次伝動手段
９６は、電磁ンレノイドの如き適宜の作動手段（図示し
ていない）によって実線で示す非作用位置と２点鎖線で
示す作用位置とに選択的に位置付けられる出力軸９８を
有する。この出力軸９８の上端には、出力歯車１００が
固定されている。

一方、中間テーブル６の各々には、次の通りの二次伝動
手段が付設されている。上記回転軸２８の下部には、ラ
ジアルベアリング１０２及び１０４によって入力歯車１
０６が回転自在に装着されており、上記回転軸２８の上
部には、ラジアルベアリング１０８及び１１０を介して
歯車１１２及び歯車１１４金有する単一片２連歯車部材
１１６が回転自在に装着されている０割出テーブル４に
は、更は、実質上鉛直に延びる回転軸１１８がラジアル
ベアリング１２０及び１２２によって回転自在に装着さ
れ、そしてまた、実質上鉛直に延びる回転軸１２４がラ
ジアルベアリング１２６及び１２８によって回転自在に
装着されている。回転軸１１８の下端には、上記入力歯
車１０６に係合せしめられた歯車１３０が固定され、回
転軸１１８の上端には、上記２連歯車部材１１６の歯車
１１２に係合せしめられた歯車１３２が固定されている
。回転軸１２４の上端には、上記歯車１３２に係合せし
められた歯車１３４が固定されている。一方、中間テー
ブル６の周縁部下面に固定された上記環状部材３６の内
周面下部には、内歯歯車１３６が形成されており、かか
る歯車１３６が上記歯車１３４に係合せしめられている
。また、チャックテーブル８の各々の上記下部部材５０
の下面には、歯車１３８が形成されており、かかる歯車
１３８が上記２連歯車部材１１６の歯車１１４に係合せ
しめられている。

中間テーブル６が研磨域Ｂ（或いはＤ又はＦ）に位置付
けられると、一次伝動手段９６の出力軸９８及びこれに
固定された出力歯車１００が、実線で示す非作用位置か
ら２点鎖線で示す作用位置へ移動され、かくして一次伝
動手段９６の出力歯車１００が二次伝動手段の入力歯車
１０６に係合せしめられ、一次伝動手段９６と二次伝動
手段とが駆動連結せしめられる。好ましくは、第３図に
図示する如く、出力歯車１００の歯と入力歯車１０６の
歯との相互係合方向前端部、即ち出力歯車１００の歯の
上端部と入力歯車１０６の歯の下端部とにおいては、夫
々、番号１４０及び１４２で示す如く、少なくとも歯先
部にテーバ形成されており、これによって、出力歯車１
００が非作用位置から作用位置に移動せしめられること
によって、出力歯車１００の歯と入力歯車１０６の歯と
が相互角度位置にかかわシなく円滑に係合せしめられ得
る。出力歯車１００が２点鎖線で示す作用位置まで移動
せしめられると、第２図及び第３図を参照することによ
って容易に理解される如く、出力歯車１００の歯と入力
歯車１０６の歯とは非テーバ部で相互に係合せしめられ
、従って上記テーバ１４０及び１４２を形成することに
よって出力歯車１００と入力歯車１０６との相互係合に
相蟲な遊びが生成されることはない。一次伝動手段９６
と二次伝動手段とが駆動連結せしめられると、駆動源９
４が付勢される。かくすると、入力歯車１０６、歯車１
３０、歯車１３２及び歯車１３４全介して歯車１３６が
回転駆動され、従って中間テーブル６が矢印１４（第１
図）で示す方向に回転され、チャックテーブル８の各々
が矢印１４（第１図）で示す方向に公転される。同時は
、入力歯車１０６、歯車１３０、歯車１３２及び２連菌
車部材１１６を介して歯車１３８の各々が回転駆動され
、従ってチャックテーブル８の各々が矢印１６（第１図
）で示す方向に自転される。研Ｊ坊域Ｂ（或いはＤ又は
Ｆ）での研磨が終了すると、駆動源９４が除勢さｎ１次
いで出力軸９８及びこれに固定された出力歯車１００が
２点鎖線で示す作用位置から実線で示す非作用位置く戻
され、かくして一次伝動手段９６が二次伝動手段から切
離される。

研磨手段及び洗浄手段 第４図は、研磨域Ｂ、Ｄ及びＦの各々に配設することが
できる、それ自体の公知の形態でよい研磨手段１４４の
一例を簡略に図示している。図示の研磨手段１４４は、
適宜の静止支持枠体（図示していない）Ｋ回転自在に且
つ昇降自在に装着された懸架ロッド１４６を含んでいる
。この懸架ロッド１４６の下端には、適宜の継手手段（
図示していない）を介して、円盤部材１４８がロッド１
４６と共に回転可能であるがロッド１４６に対して任意
の方向に傾動自在に装着されている。そして、この円盤
部材１４８の下面には、研磨パッド１５０が固定されて
いる。研磨パッド１５０としては、例えば米国のＲｏｄ
ｅｌ　Ｐｒｏｄｕｃｔｓ　Ｃｏｒｐ、　　から商品名「
５ＵＢＡ　Ｊとして販売されているポリッシングパッド
等を使用することができる。

中間テーブル６が研磨域Ｂ（或いはＤ又はＦ）に位置付
けられ、研磨作業が遂行される間には、流体圧シリンダ
機構の如き適宜の昇降手段（図示していない）によって
懸架ロッド１４６が下降されて、円盤部材１４８及びそ
の下面に固定された研磨バンド１５０が実線で示す位置
から２点鎖線で示す位置まで下降され、チャックテーブ
ル８の各々の表面に保持されている半導体ウェーハの如
き被加工物Ｗの表面に研磨パッド１５０か所要圧力で押
付けられる。同時は、電動モータでよい駆動源（図示し
ていない）によって懸架ロッド１４６が所要速度で回転
駆動され、従って円盤部材１４８及びその下面に固定さ
れ次研磨パッド１５０が所要速度で回転駆動される。研
磨パッド１５０には供給源（図示していない）から懸架
ロッド１４６及び円盤部材１４８に形成されている供給
路（図示していない）から遊離砥粒を含んだ適宜の研磨
スラリーが供給される。研磨作業の間には、第１図を参
照して既に言及した如く、中間テーブル６が矢印１４で
示す方向に回転せしめられると共は、チャックテーブル
８の各々が矢印１６で示す方向に回転せしめられ、従っ
て、チャックテーブル８の各々に保持された被加工物Ｗ
は矢印１４で示す方向に公転せしめられると共に矢印１
６で示す方向に自転せしめられる。かくして、被加工物
Ｗの表面が所要通りに研磨せしめられる。

第５図は、洗浄域Ｃ及びＥの各々に配設することができ
る、それ自体は公知の形態でよい洗浄手段１５２の一例
を簡略に図示している。図示の洗浄手段１５２は、適宜
の静止支持枠体（図示していない）に回転自在に装着さ
れた噴射ノズル手段１５４と、上記静止支持枠体に昇降
自在に装着されたカバー１５６とを含んでいる。噴射ノ
ズル手段１５４の下端部には複数個の噴射口１５８が設
けられている。円筒形状でよいカバー１５６の開口され
た下端内周面にはスポンジ又はゴム等の柔軟材料から形
成されたシールリング１６０が固定されている。

中間テーブル６が洗浄域Ｃ（又はＥ）に位置付けられ、
洗浄作業が遂行される間には、適宜の昇　　・降手段（
図示していない）によってカバー１５６が実線で示す位
置から２点鎖線で示す位置まで下降されて中間テーブル
６を囲繞し、かくして周囲への洗浄液の飛散を防止する
。そして、電動モータの如き適宜の駆動源（図示してい
ない）によって噴射ノズル手段１５４が回転駆動される
と共は、純水でよい洗浄液が噴射ノズル手段１５４に供
給されて噴射口１５８からチャックテーブル８の各々に
保持されている被加工物Ｗに向けて噴射される。かくし
て、被加工物Ｗが所要通ジに洗浄される。

以上、添付図面を参照して本発明に従って構成され次研
磨装置の一具体例について詳細に説明したが、本発明は
かかる具体例に限定されるものではなく、本発明の範囲
を逸脱することなく種々の変形乃至修正が可能であるこ
とは多言を要しない。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に従って構成された研磨装置の一具体
例を示す簡略平面図。 第２図は、第１図に示す研磨装置における割出、中間及
びチャックテーブルを示す部分断面図。 第３図は、第２図に示す回転手段における出力歯車と入
力歯車を示す斜面図。 第４図は、第１図に示す研磨装置に使用される研磨手段
の一例を示す簡略側面図。 第５図は、第１図に示す研磨装置に使用される洗浄手段
の一例を示す簡略断面図。 ４・・・割出テーブル ６・・・中間テーブル ８・・・チャックテーブル ２６・・・駆動源（割出手段） ９４・・・駆動源 ９６・・・一次伝動手段 １００・・・出力歯車 １０６・・・入力歯車 １４４・・・研磨手段 １５２・・・洗浄手段 Ａ・・・被加工物取出及び装填域 Ｂ・・・粗研磨域 Ｃ・・・洗浄域 Ｄ・・・中間研磨域 Ｅ・・・洗浄域 Ｆ・・・仕上げ研磨域

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、中心軸線を中心として回転自在に装着された割出テ
   ーブルと、該割出テーブルの周方向に間隔を置いて該割
   出テーブル上に回転自在に装着された複数個の中間テー
   ブルと、該中間テーブルの各々に回転自在に装着され且
   つその表面に被加工物を保持することができる少なくと
   も１個のチャックテーブルと、該割出テーブルの周方向
   に間隔を置いた複数個の位置に夫々規定された複数個の
   作業域であつて、少なくとも２個の研磨域を含むところ
   の複数個の作業域と、該研磨域の各々に配設された、被
   加工物の表面を研磨するための研磨手段と、該割出テー
   ブルを間けつ的に回転せしめて、該中間テーブルの各々
   を該複数個の作業域のうちの、少なくとも２個の該研磨
   域を含む２個以上の作業域に順次に位置付けるための割
   出手段と、該中間テーブルを回転せしめて該チャックテ
   ーブルを公転せしめ且つ該チャックテーブルを自転せし
   めるための回転手段と、を具備する研磨装置。 ２、該複数個の中間テーブルは、夫々、該割出テーブル
   の該中心軸線からの半径方向距離が相互に実質上同一で
   且つ該割出テーブルの周方向に等間隔を置いた複数個の
   位置にて該割出テーブル上に装着されている、特許請求
   の範囲第１項記載の研磨装置。 ３、該複数個の作業域が夫々規定されている該複数個の
   位置は、夫々、該割出テーブルの該中心軸線からの半径
   方向距離が相互に実質上同一であると共に該中間テーブ
   ルと実質上同一であり且つ該割出テーブルの周方向に等
   間隔を置いている、特許請求の範囲第２項記載の研磨装
   置。 ４、該中間テーブルの数と該作業域の数とは実質上同一
   であり、該割出手段は、隣接する中間テーブル間の角度
   間隔づつ該割出テーブルを間けつ的に回転せしめ、かく
   して該中間テーブルの各々を該複数個の作業域の全てに
   順次に位置付ける、特許請求の範囲第３項記載の研磨装
   置。 ５、該中間テーブルの各々には複数個のチャックテーブ
   ルが装着されている、特許請求の範囲第１項乃至第４項
   のいずれかに記載の研磨装置。 ６、該複数個のチャックテーブルは、夫々、該中間テー
   ブルの回転中心軸線からの半径方向距離が相互に実質上
   同一で且つ該中間テーブルの周方向に等間隔を置いた複
   数個の位置にて該中間テーブル上に装着されている、特
   許請求の範囲第５項記載の研磨装置。 ７、該複数個の作業域は、被加工物取出及び装填域と、
   複数個の研磨域と、該複数個の研磨域間に位置する複数
   個の洗浄域とを含み、該中間テーブルは、該被加工物取
   出及び装填域に位置付けられ、次いで最初の研磨域に位
   置付けられ、次の研磨域に位置付けられる前に洗浄域に
   位置付けられ、最後の研磨域に位置付けられた後に再び
   該被加工物取出及び装填域に位置付けられる、特許請求
   の範囲第１項乃至第６項のいずれかに記載の研磨装置。 ８、該洗浄域の各々には、該チャックテーブルに保持さ
   れている被加工物に洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段が
   配設されている、特許請求の範囲第７項記載の研磨装置
   。 ９、該複数個の研磨域に夫々配設されている該複数個の
   研磨手段は、該チャックテーブルに保持されている被加
   工物の表面に順次により高精度の研磨作用を施す、特許
   請求の範囲第７項又は第８項記載の研磨装置。 １０、該回転手段は、該研磨域の夫々に関連せしめて配
   設されている一次伝動手段と、該中間テーブルの各々に
   付設された二次伝動手段とを含み、該中間テーブルの各
   々が該研磨域に位置付けられた時には該一次伝動手段が
   該二次伝動手段に駆動連結される、特許請求の範囲第１
   項乃至第９項のいずれかに記載の研磨装置。 １１、該回転手段は、該研磨域の夫々に関連せしめて配
   設され且つ該一次伝動手段に夫々駆動連結された駆動源
   を含む、特許請求の範囲第１０項記載の研磨装置。 １２、該一次伝動手段の各々は、作用位置と非作用位置
   とに選択的に位置付けられる出力要素を有し、該中間テ
   ーブルの各々が該研磨域に位置付けられた時には該出力
   要素が該作用位置に位置付けられて該二次伝動手段の入
   力要素に係合せしめられ、かくして該一次伝動手段が該
   二次伝動手段に駆動連結される、特許請求の範囲第１０
   項又は第１１項記載の研磨装置。 １３、該出力要素は出力歯車であり、該入力要素は入力
   歯車であり、該出力歯車はその中心軸線方向に且つ該入
   力歯車に向けて移動せしめることによつて該非作用位置
   から該作用位置に移動せしめられ、そして該出力歯車の
   歯と該入力歯車の歯との相互係合方向前端部の少なくと
   も歯先部にはラーパが形成されている、特許請求の範囲
   第１２項記載の研磨装置。