JPS6178582A - シ−ム溶接装置 - Google Patents
シ−ム溶接装置Info
- Publication number
- JPS6178582A JPS6178582A JP20064084A JP20064084A JPS6178582A JP S6178582 A JPS6178582 A JP S6178582A JP 20064084 A JP20064084 A JP 20064084A JP 20064084 A JP20064084 A JP 20064084A JP S6178582 A JPS6178582 A JP S6178582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- welding
- seam welding
- welding device
- seam
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K11/00—Resistance welding; Severing by resistance heating
- B23K11/30—Features relating to electrodes
- B23K11/3009—Pressure electrodes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Resistance Welding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はシーム溶接装置に係り、特（二溶接部分の耐食
性を向上したものＣ二関する。
性を向上したものＣ二関する。
シーム溶接を求ａ−ル状の８８間に被溶接物ｔはさみ、
電＆’＆回転移動させながら、連続的Ｃ二点溶接１に：
繰り返すものであり、油密、気密、水密等を要する継手
に利用さｎる。このシーム溶接ｆ求比較的入然も少なく
酸化物の形成も少ないが、溶接部端部に隙間が生じ、こ
の隙間Ｃ二発生する酸化スケールにより腐食の発生する
ことがある。
電＆’＆回転移動させながら、連続的Ｃ二点溶接１に：
繰り返すものであり、油密、気密、水密等を要する継手
に利用さｎる。このシーム溶接ｆ求比較的入然も少なく
酸化物の形成も少ないが、溶接部端部に隙間が生じ、こ
の隙間Ｃ二発生する酸化スケールにより腐食の発生する
ことがある。
この様子を第２図に示す。被溶接物（ｌａ）、（ｌりは
電＆ （２ａ）（２１））にはさまｎ、電流を流すこと
によす溶接される。この心電（２１）（２ｂ）は紙面垂
直方向に移動する。、′ｇ接＃Ｎは、電ａ幅ｄと同程度
であることが好ましいが、実際（二ｆ求溶着部（３ａ）
と圧後部（釦ン及び隙間部（３ｃ）が形成される。この
隙間部（３Ｃ）は酸化スケールの発生（二つながり、耐
食性劣化の要因となる。
電＆ （２ａ）（２１））にはさまｎ、電流を流すこと
によす溶接される。この心電（２１）（２ｂ）は紙面垂
直方向に移動する。、′ｇ接＃Ｎは、電ａ幅ｄと同程度
であることが好ましいが、実際（二ｆ求溶着部（３ａ）
と圧後部（釦ン及び隙間部（３ｃ）が形成される。この
隙間部（３Ｃ）は酸化スケールの発生（二つながり、耐
食性劣化の要因となる。
例えば８０８４４４１Ｘ温水環境Ｃ二おいて応力腐食割
れもなく耐食性ｃ％れていることから、４水ボイラー、
貯湯槽、太陽熱温水ｍ器等Ｃ二汎用さｎでいる。このよ
うな温水機器の施工にｔ求ンーム溶接が多用さ匹ており
、前記隙間部の形成が多く、シーム溶接時の酸化スケー
ルの発生で耐食性の点に問題があった。
れもなく耐食性ｃ％れていることから、４水ボイラー、
貯湯槽、太陽熱温水ｍ器等Ｃ二汎用さｎでいる。このよ
うな温水機器の施工にｔ求ンーム溶接が多用さ匹ており
、前記隙間部の形成が多く、シーム溶接時の酸化スケー
ルの発生で耐食性の点に問題があった。
本発明）ま以上の点を考慮してなさオ℃にものであり、
シーム溶接時（二形成される隙間部を少なくし、シーム
溶接部の耐食性を向上することのできるシーム溶接装置
を提供することを目的とする。
シーム溶接時（二形成される隙間部を少なくし、シーム
溶接部の耐食性を向上することのできるシーム溶接装置
を提供することを目的とする。
本発明は、溶接用型ａの被溶接物との接触面に凹部な有
することを特徴とするシーム溶接装置である。
することを特徴とするシーム溶接装置である。
以下第１図を用いて説明する。
第２図と同様の図面の簡単な説明ｔＣ省略する。
本発明に係る電８１ＩＣ２ａ） （２ｂ升求、接触面中
央部に凹部（２ａ’） （２ｂ’）が設けられている。
央部に凹部（２ａ’） （２ｂ’）が設けられている。
このような構成をとるシームｆｇ接装置を用いることに
より、溶着部（３１） （ナゲツト〕の幅が広がり、は
とんど隙間）２生じない。
より、溶着部（３１） （ナゲツト〕の幅が広がり、は
とんど隙間）２生じない。
前述のごとく耐食性は溶接時に隙間に発生する酸化スケ
ールに大きく影響される。従って隙間の発生を抑えるこ
とにより耐食性が向上する。第１図及び＠２因から明ら
かなよう（−１本発明Ｃ：おいては隙間がほとんど発生
せず、従って耐食性が向上する。
ールに大きく影響される。従って隙間の発生を抑えるこ
とにより耐食性が向上する。第１図及び＠２因から明ら
かなよう（−１本発明Ｃ：おいては隙間がほとんど発生
せず、従って耐食性が向上する。
この隙間の発生間合を示すにめ溶着等を用いる。
ここで
（溶着率）＝（残留ビードの幅）／（電極幅）である。
残留ビードの幅を２圧接部及び溶着部を含めた部分の幅
である。
である。
通常の条件、溶接電流１８５００Ａ、溶接速度１４５０
ｗ ／ ｍｉｎ 、加圧力６２０ＫＰ／−でシーム溶接
を行なった場合、１０ｍ幅の電極でに溶着率が０．５程
度であるが１例えば第１図のごとく中央部Ｃ２１ｍ幅、
０、５鵬深さの凹部な設けた場合は０．８と向上する。
ｗ ／ ｍｉｎ 、加圧力６２０ＫＰ／−でシーム溶接
を行なった場合、１０ｍ幅の電極でに溶着率が０．５程
度であるが１例えば第１図のごとく中央部Ｃ２１ｍ幅、
０、５鵬深さの凹部な設けた場合は０．８と向上する。
その他電樵形状としてｔ求第３図に示すように凹部を２
ケ所以上形成したもの等が挙げられる。
ケ所以上形成したもの等が挙げられる。
実質的に、平坦面を基準として考えたとき、電ａ＠ｉ部
から電極幅のあ〜４５％１例えは４０％程支を平坦向と
して維持し、中央領域１二凹部が形成さｎていｎはよい
。余り凹部が狭いと凹部形成の効果がな（、又、広すぎ
ると溶接強度が不十分となる。
から電極幅のあ〜４５％１例えは４０％程支を平坦向と
して維持し、中央領域１二凹部が形成さｎていｎはよい
。余り凹部が狭いと凹部形成の効果がな（、又、広すぎ
ると溶接強度が不十分となる。
なお凹部の深さは被溶接物の表面アクチ、ソリ成の効果
が不十分である。
が不十分である。
以上説明したよう（二本発明ｆ二よれば、溶着率が向上
し、隙間形成を抑え、もって酸化スケールの発生を防止
し、耐食性に優れたシームＩ！ｇ接を行なうことができ
る。
し、隙間形成を抑え、もって酸化スケールの発生を防止
し、耐食性に優れたシームＩ！ｇ接を行なうことができ
る。
以下Ｉ：本発明の詳細な説明する。
シーム溶接装置の電ａとして第１図Ｃ：示すような構造
のものを用いる。なお、図中ｄ、’＝ｄ、＝ ４ Ｍ
。
のものを用いる。なお、図中ｄ、’＝ｄ、＝ ４ Ｍ
。
ｄ、＝２１１１１である。又、凹部（２゛烏′）の深さ
シ求１ｍｓ＋とした。
シ求１ｍｓ＋とした。
板厚０．３器２Ｂ仕上の市販５Ｕ８４４４ 鋼を２枚重
ねて、溶接電流１８５００Ａ、溶接速度１４５０町ｍｌ
ｎ卯圧力６２０ゆ／Ｗｄの条件でシーム溶接を行なった
ところ、顕微鏡観察で溶着率０．８程度であった。
ねて、溶接電流１８５００Ａ、溶接速度１４５０町ｍｌ
ｎ卯圧力６２０ゆ／Ｗｄの条件でシーム溶接を行なった
ところ、顕微鏡観察で溶着率０．８程度であった。
比較のため、電極幅１０１１１１の第２図Ｃ：示す構造
の電離を用いたところ溶着率は０．５であった。又。
の電離を用いたところ溶着率は０．５であった。又。
比較例ではごく狭い隙間部を構成していることが確認さ
れた。一方、本発明のシール溶接法では、ナゲツトが広
がり隙間部も無くなっていた。
れた。一方、本発明のシール溶接法では、ナゲツトが広
がり隙間部も無くなっていた。
次に２枚重ねのうち、１枚を接合部からはぎ収り、酸化
、ｔ、ケールの有無と状態を調べた。従来のシーム溶接
法では、加圧部下Ｃ二非常に狭い隙間があり、しかもこ
の中Ｃ二酸化スケールが発生していることか確認された
。これに対し本発明のシーム溶接法では加圧部下Ｃ：隙
間も出来ず、酸化スケールも発生していなかった。また
腐食試験（人工海水中浸漬試験）においても前者は酸化
スケール部で腐食しているの（二対し１本発明では腐食
が行らなかった。
、ｔ、ケールの有無と状態を調べた。従来のシーム溶接
法では、加圧部下Ｃ二非常に狭い隙間があり、しかもこ
の中Ｃ二酸化スケールが発生していることか確認された
。これに対し本発明のシーム溶接法では加圧部下Ｃ：隙
間も出来ず、酸化スケールも発生していなかった。また
腐食試験（人工海水中浸漬試験）においても前者は酸化
スケール部で腐食しているの（二対し１本発明では腐食
が行らなかった。
第１図は本発明１；係るシーム溶接装置の電株断面を示
す模式図、第２図μ従来のシーム浴接装置の電＆断面！
示す模式図、第３図は本発明Ｃ：係るシーム溶接装置の
電極断面図。 ２ａ、２ｂ・・・電極 ２ａ’＋２６’・・・凹部 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名）
す模式図、第２図μ従来のシーム浴接装置の電＆断面！
示す模式図、第３図は本発明Ｃ：係るシーム溶接装置の
電極断面図。 ２ａ、２ｂ・・・電極 ２ａ’＋２６’・・・凹部 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名）
Claims (1)
- 被溶接物と接触する電極表面に凹部を有することを特徴
とするシーム溶接装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20064084A JPS6178582A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | シ−ム溶接装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20064084A JPS6178582A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | シ−ム溶接装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6178582A true JPS6178582A (ja) | 1986-04-22 |
Family
ID=16427751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20064084A Pending JPS6178582A (ja) | 1984-09-27 | 1984-09-27 | シ−ム溶接装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6178582A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03120986U (ja) * | 1990-03-26 | 1991-12-11 |
-
1984
- 1984-09-27 JP JP20064084A patent/JPS6178582A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03120986U (ja) * | 1990-03-26 | 1991-12-11 |
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