JPS6182004A - 空気式ポジショナ - Google Patents

空気式ポジショナ

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JPS6182004A
JPS6182004A JP60211208A JP21120885A JPS6182004A JP S6182004 A JPS6182004 A JP S6182004A JP 60211208 A JP60211208 A JP 60211208A JP 21120885 A JP21120885 A JP 21120885A JP S6182004 A JPS6182004 A JP S6182004A
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JP
Japan
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vane
nozzle
relay
outlet
pneumatic
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JP60211208A
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リー・エイ・ウエーバー
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Babcock and Wilcox Co
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Babcock and Wilcox Co
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
    • H10D30/60—Insulated-gate field-effect transistors [IGFET]
    • H10D30/68—Floating-gate IGFETs
    • H10D30/681—Floating-gate IGFETs having only two programming levels
    • H10D30/682—Floating-gate IGFETs having only two programming levels programmed by injection of carriers through a conductive insulator, e.g. Poole-Frankel conduction

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  • Non-Volatile Memory (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Supply Devices, Intensifiers, Converters, And Telemotors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、空気式アクチュエータのピストンまたはダイ
ヤフラムを制御信号により要求される位置に駆動するた
め空気供給源を採用したポジショナにおける空気式コン
バータに関する。
〔発明の背景〕
周知の形式の空気式ポジショナにおいては、信号カプセ
ルがベーンの一端に取り付けられており、リレー構造体
がベーンの他端に取り付けられる。
信号カムセルとリレー構造体の中間のベーンに近接して
ノズルが配置される。ノズルは、圧縮空気源により連続
的に加圧される。信号カプセルに加えられる空気入力制
御信号が増大すると、ベーンはノズルに向って動かされ
、ベーンとノズル間の間隙は減じ、ノズルの背圧は増大
する。背圧は、供給圧力に抗して、リレー構造体を動か
し、空気供給源弁および排気弁を比例的に開閉して、空
気供給または排気を調節して最終制御要素を変位する圧
力差信号を供給する。リレー構造体が移動する量は、ベ
ーンがノズルから離れる距離により決定される。ベーン
のノズルからの離間は、ノズルの−ｔｒ圧を減じ、リレ
ー構造体の運動を停止せしめる。最終制御要素の変位運
動は、レンジスプリングによりベーンにフィードバック
される。レンジスプリングと入力信号の間に力平衡が達
成されると、リレー構造体は中立位置に戻る。最終制御
要素はそのとき入力制御信号と平衡状態となる。入力制
御信号が減すると順序は逆となる。
ノズルは、ベーン上の信号カプセルおよびリレー構造体
に関して本質的に支点として機能する。
ｆｆｌ！カプセル、ノズルおよびリレー間の動作上の関
係は、ベーンに沿うこれらの３つの部倒位置に依存する
。所与の位置にて運動は固定される。
〔発明の概要〕
本発明にしたがえば、リレー構造体の運動の大きさ、し
たがって空気供給または排気の量は、ベーン、信号カプ
セルおよびリレー構造体に関してノズルの位置を変える
ことにより変化される。信　。
号カプセルの移動は、入力スパンの１％より大きい圧力
変化に対しては固定されるから、リレー構造体の運動ま
たは移動は、ノズルの位置に依存する。
リレー構造体の中心の実際の運動は、信号カプセルおよ
びリレー構造体に関するノズルの位置に依存する。ノズ
ルにより設定される支点は、信号カプセルおよびリレー
酵造体間の中間に位置づけられると、中心（４造体の運
動は信号カプセルの運動に等しい。ノズルにより設定さ
れる支点が信号カプセルにより近くに移動されると、中
心構造体は、ノズル背圧をその平衡レベルに戻すためよ
り大きく移動しなければならない。ノズルにより設定さ
れる支点が中心５１り遺体により近く位置づけられると
、中心Ｍ清体はノズル背圧を復旧するためにより少なく
移動すればよいことになる。供給および排気弁が開く量
は中心構造体の運動に直接関係づけられるから、ノズル
の位置でポジショナの空気供給および利得を制御できる
。このようにして、ポジショナの利得は広いスパンに亘
って４１節できる。
本発明にしたがえば、空気式ポジショナは、円板上に回
転できるように取り付けられたＯ状のベーンおよびノズ
ルを備える。円板の回転で、ノズルはＯ輪状のベーンの
長さに沿って移動され、ノズルの出口から出る空気がベ
ーンの長さに沿って異なる位置でベーンを打つことがで
きるようになっている。
〔実施例の説明〕
第１図に示される空気式ポジショナ１ｏは、リレーハウ
ジング１２に装着された人力または信号カプセルアセン
ブリ１１を含む。
信号カプセルアセンブリ１１は、円筒形のハウジング１
５内において可動の中心支持体１４に接続されたロッド
１３を有する。中心支持体１４は、１１１１線方向に離
間されたダイヤフラム１６．１７により半径方向の境界
が形成されている。ダイヤフラム１．６．１７は、中心
支持体１４およびハウジング１５の上・下端部に機械的
に結合され、チャンバ１日を形成している。中心支持体
１４は、チャンバ１８内の圧力に応答して移動し得る。
中心支持体１４の軸方向下端部には、ベーンアセンブリ
が図面に配向されるように接続されてぃる。ベーンアセ
ンブリはリンク２１を備えており、該リンクは、Ｙ坦な
Ｏ状のストリップ（第３図参照）の形態を有するベーン
２２第１の端部にリンク２１に取り付けられた第１の可
撓性の膜２３に接続されており、ベーンに対する第１の
枢支点を形成している。０状ベーン２２の反端の第２の
端部は、第２の可撓性の膜２４を介して垂直接続リンク
２５に接続されている。しかして、このリンク２５は、
第２可撓性膜から吊るされ、その下端部の横方向に延び
るスタブ２６で終端している。
ノズル３０は、０状のベーン２２にそれと垂直に整列し
て並廿されている。ノズルは、第２図に略示されるよう
に加圧空気源に接続されている。
ノズル３０の出口から出る空気は、ベーン２２に当たる
。ノズル３０は、中心ステム５２の回りに回転可能に嵌
合された円板３１内に取り付けられている。円板３１が
ステム５２の回りに回転すると、ノズル３０は、ベーン
の脚部の端部間において円弧に沿ってベーン２２の長さ
に関して再位置設定され、ノズル３０の出口がベーン２
２と連続的に垂直に整列されるようになる。ベーン２２
がノズル３０の出口に対して接近、離間運動すると、そ
のｔｉｌｌに形成されるギャップは変わり、空気流出量
、シたがってノズルの上流のノズル背圧管３９の背圧が
変わる。
第１図に示されるように、垂直接続リンク２５は、リレ
ー中心構造体２８の連結リンク２７に取り付けられてい
る。
リレー中心構造体２８は、リレーハウジング１２の細長
部分内に、垂直接続リンク２５と平行な方向に直線運動
するように取り付けられている。
第２図は、ポジショナの空気通路、室、および弁をノズ
ル、入力カプセルおよびリレー構造体との関係において
略示する線図である。
動作について説明すると、空気流は、加圧空気源（図示
せず）に接続されたノズル３０の出口から連続的に放出
され、中心支持体１４およびリレー中心構造体２８に可
動的に取り付けられた０状のベーン２２を打つように方
向づけられている。
チャンバ１Ｂに対する入力が増すと、信号カプセル１１
およびベーン２２はノズル３０に向って動く。ベーン２
２がノズル！ＩＯの出口に向って移動せしめられると、
出口の制限のため、ノズル背圧管５９したがってノズル
背圧室４０内の背圧は増す。このため、リレー中心構造
体２Ｂは、供給圧力基準室３゛３により加えられる圧力
に抗して（図面の配向において）上方に移動し、ベーン
２２はノズル３０の出口から離間するに至る。リレー中
心椙心体２Ｂが二次出力室４２に向って移動するト摂、
二次出力室４２の弁はリレー中心構造体２８上に１・！
つでおり、−次供給室３４を運動の割合で開放する。−
次室弁４３は、−次供給室３５上に座着されており、リ
レー中心構造体２８の運動の：’ｙ’１合で中心ｕｉ　
ｆｆｊ体をリレー排気口３６に開放する。
この正味の結果として、二次出力室の出力は増加し、−
次出力室４６の出力は減少する。−次室井上にはばわ４
１により、二次室弁４４上にはばね４５により正の力が
維持されている。−次出力室４６と二次出力室４２間の
圧力差は、最終制御要素（図示せず）を変位するのに利
用される。こ＼で、「−次」および「二次」なる用語は
単にそれぞれの室を区別するためにのみ使用される。
制御要素の変位運動は、レンジスプリング５０を介して
空気式ポジショナ１０にフィードバックされる。レンジ
スプリングは、例えば、ピボット腕５１によりロッド１
３に枢着的に接続される。
かくして、レンジばね５０は、入力すなわち作動圧力と
ともに、所望に応じてベーン２２を動かす。
レンジスプリング５０と入力信号間に力の平衡が達成さ
れると、リレー中心構造体２８は中立位置に戻り、−次
室弁４３および二次室弁４４を閉じる。
リレー中心構造体の移動運動は、ノズル３０の位置に依
存する。
上述のように、人力が増大すると、信号カプセル１１お
よびベーン２２はノズ／Ｉ／３０に向ッテ移動する。こ
の結果、ノズル背圧室４０の圧力が増加し、リレー中心
構造体２８を移動させる。リレー中心構造体２Ｂは、ベ
ーン２２の信号カプセル１１からのとは反対の端部に機
械的に結合される。
リレー中心構造体２８の運動方向は、ベーン２２にネガ
ティブフィードバックを与え、それをノズルから離間さ
せる。リレー中心構造体の運動は、ベーン２２がノズル
３０から十分に離間してノズル背圧罠４０をその平衡レ
ベルに戻すまで続く。
リレー中心構造体２８の実際の運動は、信号カプセル１
１およびリレー中心構造体枢支点２３．２４に閃するノ
ズル３０の位置に依存する。もしもノズル３０が２つの
枢支点２５．２４間の中間に位ｆ＋２づけられると、リ
レー中心構造体２８の運動は、信号カプセル１１の運動
に等しい。もしもノズル３０が信号カプセル枢支点２４
により近く移動されると、リレー中心構造体２８は、ノ
ズル背圧室４０をその平衡レベルに戻すようにより大き
く移動しなければならない。ノズル３０をリレー中心ｆ
ｓ遺体枢支点２３により近く位１ｔＬづけると、リレー
中心構造体２８は、ノズル背圧室をその平衡レベルに復
旧するためにはより少なく移動するだけでよいことにな
る。−次および二次弁４３．４４が開閉する量は、リレ
ー中心構造体２８の運動に直接関係づけられるから、ノ
ズル５ｏの位置で空気式ポジショナ１０の空気供給ない
し利得を制御できる。このようにして、ポジショナの利
得は広いスパンにわたり調節できる。
第１図は本発明の空気式ポジショナの垂直断面図、第２
図は本発明を利用したポジショナの概略線図、第３図は
第１１の０状ベーンの平面図、第４図は第１図のＯ状ベ
ーンの立面図である。
１０：空気式ポジショナ １１：信号カプセル組立体 １２：リレーハウジング １５：ロンド １４：中心支持体 １５：円筒型ハウジング １６．１７：ダイヤフラム １８：チャンバ ２１：リンク ２２：０状ストリツプ ２３．２４：可撓性の膜 ２５：垂直扱にリンク ２７：辰続リンク ２８：リレー中心構造体 ３０：ノズル ３１：円板 ３２：中心ステム ３３：供給圧力基準室 ３４：二次供給案 ３５ニ一次供給室 ３６：リレー排気口 ５９：ノズル背圧管 ４２：二次出力室 ４３ニ一次室弁 ４４：二次量弁 ４５：ばね Ｆ／に、／ Ｆ／（３，２ Ｆｌθ、３

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）加圧空気源に接続されたノズルと、ノズルの出口
    に隣接して並置された平坦なベーンと、ベーンの第１端
    部に動作上結合されており、ベーンを出口に関して枢動
    し、出口からの空気の流出量を可変的に制限してノズル
    の背圧を変化させる入力手段を備え、前記ノズルが、前
    記ベーンの第１および第２端部間の部分に並置される形
    式の空気式ポジショナにおいて、前記ベーンが、Ｏ状の
    ストリップと、該ストリップの脚部間においてＯ状の凹
    部ととも延びる細長いステムと、該ステムに回転可能に
    取り付けられたディスクとを備え、前記ノズルの出口が
    ベーンの第１および第２端部間の通路に沿ってベーンと
    連続的に整列するように、ノズルが円板とともに運動す
    るよう円板内に装着されていることを特徴とする空気式
    ポジショナ。
  2. （２）入力手段とベーンの第１端部間に接続された可撓
    性の膜を備える特許請求の範囲第１項記載の空気式ポジ
    ショナ。
  3. （３）ベーンの第２端部と信号発生手段との間に接続さ
    れた可撓性の膜を備える特許請求の範囲第２項記載の空
    気式ポジショナ。
  4. （４）ベーンの第２端部と信号発生手段との間に接続さ
    れた可撓性の膜を備える特許請求の範囲第１項記載の空
    気式ポジショナ。
  5. （５）ベーンの第２端部および信号発生手段間に接続さ
    れた可撓性の膜を備え、信号発生手段が、円筒状リレー
    ハウジングと、ハウジング内に摺動可能に受容されたリ
    レー中心構造体と、リレー中心構造体および可撓性部材
    間に機械的に接続されたリンクとを含む特許請求の範囲
    第１項記載の空気式ポジショナ。
JP60211208A 1984-09-27 1985-09-26 空気式ポジショナ Granted JPS6182004A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US65517584A 1984-09-27 1984-09-27
US655175 1984-09-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6182004A true JPS6182004A (ja) 1986-04-25
JPH0463241B2 JPH0463241B2 (ja) 1992-10-09

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60126410A Granted JPS6180866A (ja) 1984-09-27 1985-06-12 不揮発性半導体メモリ・セル
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