JPS6182347A - 光記録媒体製造装置 - Google Patents
光記録媒体製造装置Info
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- JPS6182347A JPS6182347A JP20528484A JP20528484A JPS6182347A JP S6182347 A JPS6182347 A JP S6182347A JP 20528484 A JP20528484 A JP 20528484A JP 20528484 A JP20528484 A JP 20528484A JP S6182347 A JPS6182347 A JP S6182347A
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
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Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光記録媒体、特に追加記録（ＤＲＡＷ）型光記
録媒体の製造装置に関する。
録媒体の製造装置に関する。
従来の技術
ＤＲＡＷ型光記録媒体の記録層として、ホール等の形状
変化を伴うことなくレーザ光による記録再生が可能な薄
膜があり、典型的にはＴｅＯｘ 。
変化を伴うことなくレーザ光による記録再生が可能な薄
膜があり、典型的にはＴｅＯｘ 。
ＰｂＯｘ等の低酸化物が知られている。このような薄膜
は、集束された強いレーザ光を照射するとそこで物性が
変化して光反射率が低くなるかまたは高くなるときによ
り記録ビットを形成する。再生時には弱いレーザ光を照
射して記録ビットの反射率変化を読み取るようにしてい
る。
は、集束された強いレーザ光を照射するとそこで物性が
変化して光反射率が低くなるかまたは高くなるときによ
り記録ビットを形成する。再生時には弱いレーザ光を照
射して記録ビットの反射率変化を読み取るようにしてい
る。
第３図には、記録層がＰｂＯｘ薄膜からなる光記録媒体
を製造するための従来の装ｆ、ｆを概略的に示す。真空
はルチャ内に入れられた基板１は、透明アクリル樹脂（
ポリメチルメタクリレート）又はガラス等からなり、モ
ータ（図示せず）により５〜５０ ｒｐｍの速度で回転
駆動される。基板１の下側にはｐｂ蒸着源２、ＰｂＯ蒸
着源３が近接して配設される。抵抗加熱または電子線加
熱によりこれらの蒸着源２，３のｐｂ、ｐｂｏを加熱蒸
発させると、基板１の表面（第３図では裏面）にそれら
ｐｂ １ｐｂｏが共蒸着することによりＰｂＯｘの薄膜
が形成される。蒸着源２，３の付近には、蒸着中の膜組
成および膜厚をモニタするための水晶発振式膜厚計４．
５がそれぞれ配設される。これらの膜厚計４，５は、蒸
発物質ｐｂ、ｐｂｏの一部を拾うことによって固有振動
数ｆ１、ｆ２が変化する。それら固有振動数ｆ１、ｆ２
の変化分△ｆ１、△ｆ２に基づいてｐｂ、ｐｂｏの蒸着
量がそれぞれ測定され、これによって蒸着制御が可能と
なる。
を製造するための従来の装ｆ、ｆを概略的に示す。真空
はルチャ内に入れられた基板１は、透明アクリル樹脂（
ポリメチルメタクリレート）又はガラス等からなり、モ
ータ（図示せず）により５〜５０ ｒｐｍの速度で回転
駆動される。基板１の下側にはｐｂ蒸着源２、ＰｂＯ蒸
着源３が近接して配設される。抵抗加熱または電子線加
熱によりこれらの蒸着源２，３のｐｂ、ｐｂｏを加熱蒸
発させると、基板１の表面（第３図では裏面）にそれら
ｐｂ １ｐｂｏが共蒸着することによりＰｂＯｘの薄膜
が形成される。蒸着源２，３の付近には、蒸着中の膜組
成および膜厚をモニタするための水晶発振式膜厚計４．
５がそれぞれ配設される。これらの膜厚計４，５は、蒸
発物質ｐｂ、ｐｂｏの一部を拾うことによって固有振動
数ｆ１、ｆ２が変化する。それら固有振動数ｆ１、ｆ２
の変化分△ｆ１、△ｆ２に基づいてｐｂ、ｐｂｏの蒸着
量がそれぞれ測定され、これによって蒸着制御が可能と
なる。
発明が解決しようとする問題点
上述した従来の光記録媒体製造装置では、２つの異なる
蒸着源３，４を近接させて蒸発物質Ｐｂ。
蒸着源３，４を近接させて蒸発物質Ｐｂ。
ｐｂｏを融合または共蒸着せしめている。Ｐｂ、ＰｂＯ
が融合しないと、それらが積層状に堆積してしまい、Ｐ
ｂ Ｏｘ （ｏ、 ２５ （ｘ （１）低酸化物が形
成されないためである。しかしながら、膜厚計４，５が
他の蒸着源３，２にも近接するため、Ｐｂ用の膜厚計４
は蒸着源３からの蒸発物質ｐｂｏをも拾い、他方ＰｂＯ
用の膜厚計５は蒸着源２からの蒸発物質ｐｂをも拾って
しまい、モニタ精度がそれぞれ低下し、Ｐｂ０ｘ（０，
２５（ｘ（１）の正確な非化学量論値を得る共蒸着制御
が困難になる。
が融合しないと、それらが積層状に堆積してしまい、Ｐ
ｂ Ｏｘ （ｏ、 ２５ （ｘ （１）低酸化物が形
成されないためである。しかしながら、膜厚計４，５が
他の蒸着源３，２にも近接するため、Ｐｂ用の膜厚計４
は蒸着源３からの蒸発物質ｐｂｏをも拾い、他方ＰｂＯ
用の膜厚計５は蒸着源２からの蒸発物質ｐｂをも拾って
しまい、モニタ精度がそれぞれ低下し、Ｐｂ０ｘ（０，
２５（ｘ（１）の正確な非化学量論値を得る共蒸着制御
が困難になる。
問題点を解決するための手段
本発明は、異なる蒸着源の付近にそれぞれ配設される上
記膜厚計等の各モニタ手段が他の蒸着源の影響を実質上
受けないような間隔を置いてそれらの蒸着源を配設する
とともに、それら異なる蒸着源からの共蒸着により光記
録用の薄膜が形成される基板を比較的高速で回転運動さ
せることにより、上記問題点を解決する。
記膜厚計等の各モニタ手段が他の蒸着源の影響を実質上
受けないような間隔を置いてそれらの蒸着源を配設する
とともに、それら異なる蒸着源からの共蒸着により光記
録用の薄膜が形成される基板を比較的高速で回転運動さ
せることにより、上記問題点を解決する。
作用
異なる蒸着源は比較的大きな間隔を衝いているが、基板
が高速回転するため、それぞれの蒸発物質は基板表面に
対して実質上同時に到達してそこで融合し、共蒸着がな
される。各モニタ手段は対応蒸着源からの蒸発物質のみ
拾い、独立的な蒸着量測定値を与える。
が高速回転するため、それぞれの蒸発物質は基板表面に
対して実質上同時に到達してそこで融合し、共蒸着がな
される。各モニタ手段は対応蒸着源からの蒸発物質のみ
拾い、独立的な蒸着量測定値を与える。
実施例
ｍ１図および第２図を参照して本発明の一実施例を説明
する。
する。
第１図において基板１０はアクリル樹脂（ポリメチルメ
タクリレート）、ポリカーボネイ１−（ＰＣ）。
タクリレート）、ポリカーボネイ１−（ＰＣ）。
ガラス等の透明材料からなり、円板状Ｚこ形成されてい
る。基板１０の下方１こはｐｂ蒸着源１１ 、ＰｂＯ蒸
着源１２が第２図に示すように円周方向に約１８０°の
間隔を置いて配設されている。これらの蒸着源１１．１
２は、るつぼの中にｐｂ、ｐｂ。
る。基板１０の下方１こはｐｂ蒸着源１１ 、ＰｂＯ蒸
着源１２が第２図に示すように円周方向に約１８０°の
間隔を置いて配設されている。これらの蒸着源１１．１
２は、るつぼの中にｐｂ、ｐｂ。
粉末をそれぞれ入れてあり、外部からタングステン線ヒ
ータあるいは電子ビーム（図示せず）により加熱される
ようになっている。蒸着源１１．１２の付近には蒸着中
の膜組成をモニタするための手段、例えば水晶発振式膜
厚計１３．１４がそれぞれ配設される。膜厚計１３は、
蒸着源１１から蒸発するｐｂの一部を拾い、その付着数
にしたがって固有振動数が変化することにより、Ｐｂの
蒸着量測定値を与える。膜厚計１４は、蒸着源１２から
蒸発するｐｂｏの一部を拾い、その付着量にしたがって
固有振動数が変化することにより、ＰｂＯの蒸着量測定
値を与える。これらの膜厚計１３．１４は測定器回路（
図示せず）に接続し、上記測定値に基づいてｐｂ、ｐｂ
ｏの蒸着量または蒸発量がそれぞれ制御されるようにな
っている。上述した基板１０．蒸着源１１，１２および
膜厚計１３．１４は共に真空（ルチャ内に入れられてい
る。
ータあるいは電子ビーム（図示せず）により加熱される
ようになっている。蒸着源１１．１２の付近には蒸着中
の膜組成をモニタするための手段、例えば水晶発振式膜
厚計１３．１４がそれぞれ配設される。膜厚計１３は、
蒸着源１１から蒸発するｐｂの一部を拾い、その付着数
にしたがって固有振動数が変化することにより、Ｐｂの
蒸着量測定値を与える。膜厚計１４は、蒸着源１２から
蒸発するｐｂｏの一部を拾い、その付着量にしたがって
固有振動数が変化することにより、ＰｂＯの蒸着量測定
値を与える。これらの膜厚計１３．１４は測定器回路（
図示せず）に接続し、上記測定値に基づいてｐｂ、ｐｂ
ｏの蒸着量または蒸発量がそれぞれ制御されるようにな
っている。上述した基板１０．蒸着源１１，１２および
膜厚計１３．１４は共に真空（ルチャ内に入れられてい
る。
蒸着源１１．１２を加熱すると、ｐｂ、ｐｂｏがそれぞ
れ蒸発し、それらの大部分が基板１０の表面（第１図で
は裏面）に向かって直進する。本実施例によれば、基板
１０はモータ（図示せず）により１００〜２００ ｒｐ
ｍの速度で回転駆動され、蒸発ＰｂＪｇ、子、ＰｂＯ分
子は基板１０の表面に対して実質上同時に到達して融合
しＰｂＯｘ低酸化物を形成する。蒸発したｐｂ、ｐｂｏ
の一部は膜厚計１３．１４Ｉこそれぞれ拾われる。図示
のように、膜厚計１３は蒸着源１２に対して円周方向に
約１８０の間隔を置いているためｐｂｏを拾うことはな
く、他方膜厚計１４は蒸着源１１に対して円周方向に°
約１８０°の間隔を置いているためＰｂを拾うことは
ない。したがって、膜厚計１３．１４は蒸着源１１．１
２の影響を受けることなくｐｂ、ｐｂ。
れ蒸発し、それらの大部分が基板１０の表面（第１図で
は裏面）に向かって直進する。本実施例によれば、基板
１０はモータ（図示せず）により１００〜２００ ｒｐ
ｍの速度で回転駆動され、蒸発ＰｂＪｇ、子、ＰｂＯ分
子は基板１０の表面に対して実質上同時に到達して融合
しＰｂＯｘ低酸化物を形成する。蒸発したｐｂ、ｐｂｏ
の一部は膜厚計１３．１４Ｉこそれぞれ拾われる。図示
のように、膜厚計１３は蒸着源１２に対して円周方向に
約１８０の間隔を置いているためｐｂｏを拾うことはな
く、他方膜厚計１４は蒸着源１１に対して円周方向に°
約１８０°の間隔を置いているためＰｂを拾うことは
ない。したがって、膜厚計１３．１４は蒸着源１１．１
２の影響を受けることなくｐｂ、ｐｂ。
の蒸着量測定値をそれぞれ与え、それらの測定値に基づ
いてＰｂＯｘ低酸化物（０，２５＜Ｘ＜１ ）の非化学
量論値が精細に制御される。
いてＰｂＯｘ低酸化物（０，２５＜Ｘ＜１ ）の非化学
量論値が精細に制御される。
なお本実施例では、基板を１００〜２０ Ｏｒｐｍで高
速回転させるため、Ｐｂとｐｂｏの積層膜屹なることな
くより均一で広い面積のＰｂＯｘ膜が比較的容易に得ら
れる。
速回転させるため、Ｐｂとｐｂｏの積層膜屹なることな
くより均一で広い面積のＰｂＯｘ膜が比較的容易に得ら
れる。
本実施例にしたがってＰｂＯｘ （０，２５（ｘ （１
）膜を基板１０上に３００〜５００μｍの膜厚に形成し
たところ、所要記録レーザパワーは８〜９ｍＷと比較的
低く Ｃ／Ｎは４５ ｄＢ以上が得られている。また記
録ビットが物性変化によって形成されホール等の形状変
化を伴わないため、ビットエッヂが鋭く、ノイズレばル
は記録後に上昇することがなく、表面ノイズが低い等の
利点もある。
）膜を基板１０上に３００〜５００μｍの膜厚に形成し
たところ、所要記録レーザパワーは８〜９ｍＷと比較的
低く Ｃ／Ｎは４５ ｄＢ以上が得られている。また記
録ビットが物性変化によって形成されホール等の形状変
化を伴わないため、ビットエッヂが鋭く、ノイズレばル
は記録後に上昇することがなく、表面ノイズが低い等の
利点もある。
第３図には本発明の別の実施例を示す。この実施例では
蒸着源１１．１２の間隔を比較的小さくしているが、そ
の代わりにシールド９板１５を間に配設して蒸着源１１
．１２から蒸発したｐｈ、ｐｂ。
蒸着源１１．１２の間隔を比較的小さくしているが、そ
の代わりにシールド９板１５を間に配設して蒸着源１１
．１２から蒸発したｐｈ、ｐｂ。
がそれぞれ膜厚計１４．１３には及ばないようにしてい
る。
る。
上述した実施例はＰｂＯｘ低酸化物の薄膜を有する光記
録媒体の製造装置であったが、本発明はＭＯＸ低酸化物
（Ｍ：金属）９合金薄膜等、他の共蒸着薄膜の光記録媒
体製造装置にも適用可能である。
録媒体の製造装置であったが、本発明はＭＯＸ低酸化物
（Ｍ：金属）９合金薄膜等、他の共蒸着薄膜の光記録媒
体製造装置にも適用可能である。
発明の効果
本発明によれば、蒸着中の膜組成をモニタするための手
段が他の蒸着源の影響を受けることなく独立的に対応蒸
着源の蒸着状況をモニタするため、より精細な共蒸着制
御が行える。
段が他の蒸着源の影響を受けることなく独立的に対応蒸
着源の蒸着状況をモニタするため、より精細な共蒸着制
御が行える。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図、第２図は第１
図の装置の平面図、 ｖＪ３図は本発明の別の実施例を示す斜視図、および 第４図は従来の装置を示す一部切欠き斜視図である。 １０・・・・・・基板、 １１・・・・・・ｐｂ蒸着
源、１２・・・・・・ｐｂｏ蒸着源、 １３．１４・・
・・・・水晶発振式膜厚計、 １５・・・・・・シー
ルド板。 特許出願人 日本電気ホームエレクトロニクス株式会
社代理人弁理士 佐 々 木 を 孝 第１図 第２図 第３図 １り 第午図
図の装置の平面図、 ｖＪ３図は本発明の別の実施例を示す斜視図、および 第４図は従来の装置を示す一部切欠き斜視図である。 １０・・・・・・基板、 １１・・・・・・ｐｂ蒸着
源、１２・・・・・・ｐｂｏ蒸着源、 １３．１４・・
・・・・水晶発振式膜厚計、 １５・・・・・・シー
ルド板。 特許出願人 日本電気ホームエレクトロニクス株式会
社代理人弁理士 佐 々 木 を 孝 第１図 第２図 第３図 １り 第午図
Claims (5)
- （１）基板を回転運動させながら異なる蒸着源より前記
基板の表面に共蒸着させて光記録用の薄膜を形成せしめ
、前記蒸着源の各々の付近には蒸着中の膜組成をモニタ
するための手段を配設してなる光記録媒体の製造装置に
おいて、 前記モニタ手段の各々が他の蒸着源の影響を実質上受け
ないような間隔を置いて前記異なる蒸着源をそれぞれ配
設し、前記基板を比較的高速で回転運動させることを特
徴とする光記録媒体製造装置。 - （２）前記基板は円板状に形成されたポリメチルメタク
リレートからなる特許請求の範囲第１項に記載の製造装
置。 - （３）前記異なる蒸着源はそれぞれＰｂとＰｂＯの蒸着
物質を有し、前記薄膜はＰｂＯ＿ｘ（０．２５＜ｘ＜１
）の膜組成に選ばれる特許請求の範囲第１項に記載の製
造装置。 - （４）前記異なる蒸着源は前記基板に対して円周方向に
約１８０°の間隔を置いて配設される特許請求の範囲第
１項に記載の製造装置。 - （５）前記基板を１００〜２００ｒｐｍで回転運動させ
る特許請求の範囲第１項に記載の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20528484A JPS6182347A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 光記録媒体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20528484A JPS6182347A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 光記録媒体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6182347A true JPS6182347A (ja) | 1986-04-25 |
Family
ID=16504424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20528484A Pending JPS6182347A (ja) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | 光記録媒体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6182347A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255368A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Hitachi Ltd | 成膜装置 |
| JP2000133453A (ja) * | 1998-10-22 | 2000-05-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
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1984
- 1984-09-29 JP JP20528484A patent/JPS6182347A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255368A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-21 | Hitachi Ltd | 成膜装置 |
| JP2000133453A (ja) * | 1998-10-22 | 2000-05-12 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法 |
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