JPS6184850A - Heatconductive cooling module - Google Patents

Heatconductive cooling module

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Publication number
JPS6184850A
JPS6184850A JP59206312A JP20631284A JPS6184850A JP S6184850 A JPS6184850 A JP S6184850A JP 59206312 A JP59206312 A JP 59206312A JP 20631284 A JP20631284 A JP 20631284A JP S6184850 A JPS6184850 A JP S6184850A
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JP
Japan
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heat
housing
thermal
beryllium
cooling module
Prior art date
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Pending
Application number
JP59206312A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasutoshi Kurihara
保敏 栗原
Tasao Soga
太佐男 曽我
Komei Yatsuno
八野 耕明
Kenji Miyata
健治 宮田
Masahiro Okamura
岡村 昌弘
Fumiyuki Kobayashi
小林 二三幸
Takahiro Oguro
崇弘 大黒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS6184850A publication Critical patent/JPS6184850A/en
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • H05K7/2039Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating characterised by the heat transfer by conduction from the heat generating element to a dissipating body
    • H05K7/20436Inner thermal coupling elements in heat dissipating housings, e.g. protrusions or depressions integrally formed in the housing
    • H05K7/2049Pressing means used to urge contact, e.g. springs
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W40/00Arrangements for thermal protection or thermal control
    • H10W40/70Fillings or auxiliary members in containers or in encapsulations for thermal protection or control
    • H10W40/77Auxiliary members characterised by their shape
    • H10W40/774Pistons, e.g. spring-loaded members

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  • Thermal Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent thermal power generators from forming electrical connection paths to each other through thermal conduction paths, and to prevent the deterioration of connection pins and connecting members, by a method wherein, regarding the technique for transmitting the heat generated by a semiconductor device to a cooling device, a part located in a thermal conduction path connected to a small power consumption heat generator and carrying out heat-exchange of the housing is provided with an insulating oxide which increases the thermal resistance. CONSTITUTION:The inside of the housing 16 is provided with thermal conductive relay members 20 arranged in opposition to chips 10 and 10a and so engaged as to form thermal conductive interfaces that exchange heat with the housing 16, and these members 20 keep contact with the chips 10 and 10a under the pressure of springs 21. At this time, the housing 16pts. contained in thermal conduction paths connected to the small power chips 10a are coated with Si dioxide films 16d and thus designed so as to increase the thermal resistance of the interfaces between the members 20 and the housing 16. Therefore, the thermal transmittance from the small power chips 10a to the housing 16 is inhibited by the thermal resistance of the Si dioxide films 16d.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は半導体装置基体によって発生される熱を冷却装
置に伝達するための構成及び技法に関する。更に、具体
的には、消費電力の小さ%N半導体基体に関連する熱伝
導路の熱抵抗を高めて半導体基体がより高い温度に維持
されると同時に、半導体装置基体の各々に関連する熱伝
導路を通じて電気的導通路を形成しないように、特別に
形成されたキャップ、又は、ハウジングをもつ熱伝導冷
却モジュール装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to structures and techniques for transferring heat generated by a semiconductor device substrate to a cooling device. Furthermore, in particular, the semiconductor body is maintained at a higher temperature by increasing the thermal resistance of the thermal conduction path associated with the semiconductor body with a lower power consumption, while at the same time increasing the thermal conductivity associated with each of the semiconductor device bodies. The present invention relates to a thermally conductive cooling module device having a specially configured cap or housing so as not to create an electrical conduction path through the circuit.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

従来、大型電子計算機では計算速度の速いことが要求さ
れるため、近年、限定された半応体基体中に半導体素子
を多数個集積し、もって各素子間の電気的連絡配線長を
可及的に短縮したLSIチップが開発されている。又、
LSIチップを搭載し、同チップと外部回路とを電気的
中継接続する基板も多層、かつ、高密度に電気配線され
、中継接続配線長を実質的に短縮した回路基板が開発さ
れている。更に、LSIチップが回路基板上に多数個実
装される方法が開発されている。LSIチップの動作パ
ラメータを予定の範囲内に保持するとともに、過熱によ
る同チップの破壊を防止するためには、動作によって発
生した熱を効率的に外部へ放散させる補助的手段を施す
必要がある。
Conventionally, large-scale electronic computers have been required to have high calculation speeds, so in recent years, a large number of semiconductor devices have been integrated into a limited semi-reactive substrate, thereby maximizing the length of the electrical interconnections between each device. LSI chips have been developed that are shortened to . or,
A circuit board on which an LSI chip is mounted and which electrically interconnects the chip and an external circuit has multi-layered and high-density electrical wiring, and the length of the interconnection wiring is substantially shortened. Furthermore, a method has been developed in which a large number of LSI chips are mounted on a circuit board. In order to maintain the operating parameters of an LSI chip within a predetermined range and to prevent the chip from being destroyed due to overheating, it is necessary to provide auxiliary means to efficiently dissipate the heat generated during operation to the outside.

補助的冷却手段の一例として提案されているものに、空
冷と液体冷却を併用した冷却システムがある。これは、
米国特許第3741292号に示されているように、カ
プセル内に封入された低融点の誘電性液体で包囲された
部分に、熱発生成分を浸漬したモジュールである。これ
に多用される液体は。
One example of auxiliary cooling means that has been proposed is a cooling system that uses both air cooling and liquid cooling. this is,
As shown in US Pat. No. 3,741,292, the module has a heat generating component immersed in a portion surrounded by a low melting point dielectric liquid encapsulated within a capsule. What is the most commonly used liquid for this?

低沸点のフロロカーボン液で、比較的低い温度のもとで
沸騰する。即ち、熱発生成分から伝熱されたこの液体は
蒸気となり、液面より上部に位置した蒸気部分に移動し
、容器から内部へ向けて連なった凝縮器として作用する
内部フィンで冷却されて再び液化されるサイクルをくり
返す。この際、容器から外方に延びている外部フィンが
空冷され、内部フィンから伝達された熱に対する放熱体
の役割を担うにの過程のもとで熱発生成分の熱放散が達
成される。しかし、この種の液体カプセル封入モジュー
ルは、沸騰−凝縮の基本プロセスが確実に遂行されるよ
うに維持されねばならないが、このためには極端に高純
度で汚染物質の無い冷却剤液体を必要とする。又、この
冷却概念は、 LSIチップのような熱発生成分を冷却
する場合には、容易に適用できない。液体及び同液体に
取込まれた不純物質又は汚染物質によりLSI構成物質
が腐蝕されたり、これに伴う故障を併発する危険が極め
て大きいからである。
A low boiling point fluorocarbon liquid that boils at relatively low temperatures. In other words, this liquid, which is heat-transferred from the heat-generating component, turns into vapor, moves to the vapor part located above the liquid level, is cooled by internal fins that act as a condenser, and is liquefied again. Repeat the cycle. At this time, the external fins extending outward from the container are air-cooled, and heat dissipation of the heat-generating components is achieved through the process of acting as a heat dissipation body for the heat transferred from the internal fins. However, this type of liquid encapsulation module must be maintained to ensure that the basic process of boiling-condensation is carried out, which requires extremely high purity and contaminant-free coolant liquid. do. Furthermore, this cooling concept cannot be easily applied when cooling a heat-generating component such as an LSI chip. This is because there is an extremely high risk that LSI constituent materials will be corroded by the liquid and impurities or contaminants taken into the liquid, and that failures will occur as a result.

米国特許第3993123号には、半導体チップのよう
な熱発生装置をガスとともにカプセル封止した冷却モジ
ュール装置が開示されている。熱発生装置はアルミナ基
板上に搭載され、この基板とキャップにより密閉され、
この密閉空間に不活性ガスが充填され、熱伝導性部材が
配置されている。基板に対向するキャップの壁面は熱発
生装置に向って同装置と同一中心上を延びる細長い開孔
をもつ。
US Pat. No. 3,993,123 discloses a cooling module device in which a heat generating device such as a semiconductor chip is encapsulated with gas. The heat generating device is mounted on an alumina substrate and sealed by this substrate and a cap.
This sealed space is filled with an inert gas, and a thermally conductive member is disposed. The wall of the cap facing the substrate has an elongated aperture extending toward the heat generating device and coaxially with the heat generating device.

この開孔の内方端部には弾性部材が配置される。An elastic member is disposed at the inner end of the aperture.

熱伝導性部材が各開孔内に配置されており、各開孔の壁
面とそれに関連する熱伝導性部材との間に狭い周辺間隙
が形成されている。この弾性部材は熱伝導性部材を熱発
生装置に圧接するような力を、熱伝導性部材に付与して
いる。気密空間内には不活性ガスが充填されていてこの
不活性ガスにより周辺間隙及び熱発生装置と熱伝導性部
材間の界面を形成している。熱発生装置で生じた熱は、
不活性ガスや熱伝導性部材を経由してキャップに至り。
A thermally conductive member is disposed within each aperture, and a narrow peripheral gap is formed between the wall of each aperture and its associated thermally conductive member. The elastic member applies a force to the thermally conductive member that presses the thermally conductive member against the heat generating device. The airtight space is filled with an inert gas, which forms a peripheral gap and an interface between the heat generating device and the thermally conductive member. The heat generated by the heat generator is
It reaches the cap via inert gas and thermally conductive material.

同キャップと結合したヒートシンクへ放出される。It is emitted to a heat sink connected to the same cap.

カプセル封止冷却モジュール装置には、キャップ材及び
熱伝導性部材として銅やアルミニウム、そして、封入ガ
スとしてヘリウム、水素、二酸化炭素が用いられている
。これらは熱伝導性の優れた材料であって、熱発生装置
からヒートシンクへ至る熱伝導経路をこれらの材料で構
成することにより、効率のよい熱放散を実現している。
In the encapsulated cooling module device, copper or aluminum is used as the cap material and the thermally conductive member, and helium, hydrogen, or carbon dioxide is used as the filler gas. These materials have excellent thermal conductivity, and by constructing the heat conduction path from the heat generating device to the heat sink with these materials, efficient heat dissipation is realized.

しかし、消費電力の少ない熱発生装置が同一モジュール
内で消費電力の多い熱発生装置とともに含まれている場
合・、又は、消1!電力の少ない熱発生装置のみが含ま
れている場合には、モジュールの冷却効率が高過ぎるた
め、消費電力の少ない熱発生装置は実質的に冷却され過
ぎてしまう、これらの熱発生装置が予定さ九た動作をす
るためには、それらの最低動作温度以下に冷却されてし
まうことは好ましくない、又、冷却されすぎると熱発生
装置が動作温度に達するまでに長時間を要す。このよう
な動作温度の問題は、消費電力の大きい熱発生装置より
も小消費電力熱発生装置において顕著であり、対策を要
す。
However, if a heat generating device with low power consumption is included in the same module along with a heat generating device with high power consumption, If only low-power heat generators are included, the cooling efficiency of the module is too high and the low-power heat generators are effectively overcooled. In order to perform various operations, it is undesirable for the heat generating device to be cooled below its minimum operating temperature, and if it is cooled too much, it will take a long time for the heat generating device to reach the operating temperature. Such a problem with operating temperature is more noticeable in heat generating devices with low power consumption than in heat generating devices with high power consumption, and requires countermeasures.

又、封入カプセル内の基板には、熱発生装置が可及的高
密度に実装されている。それぞれの熱発生装置は、限定
された半導体基体中に多数個集積された半導体素子をも
つ。各々の半導体素子が電気回路を形成するためには、
必要に応じて個々の素子を電気絶縁しなければならない
、従って、一般に、半導体素子は、pn接合を逆バイア
スして電気的に絶縁された、通常、島と呼ばれる半導体
領域内に形成する。第二の問題は、pn接合を逆バイア
スするための電圧が半導体基体、即ち、熱伝導性部材と
接触界面を形成する熱発生装置基体に与えられることに
よって生じる。基板上に実装される熱発生装置の全てが
同一機能をもつ半導体基体からなる場合は稀で、一般に
は、機能の異なる二種ないしそれ以上の熱発生装置が同
一冷却モジュール装置内に実装されると考えねばならな
い。
Furthermore, heat generating devices are mounted as densely as possible on the substrate within the sealed capsule. Each heat generating device has a large number of semiconductor elements integrated in a limited semiconductor substrate. In order for each semiconductor element to form an electric circuit,
Individual elements must be electrically isolated as required; therefore, semiconductor elements are generally formed in semiconductor regions, commonly referred to as islands, which are electrically isolated by reverse biasing the pn junction. A second problem arises because the voltage to reverse bias the pn junction is applied to the semiconductor substrate, ie, the heat generating device substrate, which forms a contact interface with the thermally conductive member. It is rare that all of the heat generating devices mounted on a board are made of semiconductor substrates with the same function; in general, two or more types of heat generating devices with different functions are mounted within the same cooling module device. I have to think about it.

このような場合は、逆バイアス電圧を二ないしそれ以上
の水準に維持する必要がある6ところで、異なる逆バイ
アス電圧の与えられた上記熱発生装置どうしは、導電性
の熱伝導性部材9弾性部材。
In such a case, it is necessary to maintain the reverse bias voltage at two or more levels.6 However, the heat generating devices given different reverse bias voltages are connected to each other by a conductive heat conductive member 9 an elastic member. .

キャップを介して電気的に連絡することとなり。Electrical communication will be made through the cap.

あらかじめ予定された逆バイアス条件を維持できず、冷
却モジュール装置全体の回路機能が損なわれる。又、冷
却モジュール装置内に実装された全ての熱発生装置の逆
バイアス条件が全く同一である場合は、上述の問題は解
消される。しかし、キャップに連なって接触界面を形成
するヒートシンクないし冷媒中の不純物や汚染物質を通
じて冷却モジュール装置相互が電気的に連絡されたり、
更に、筐体中に高密度実装されたプリント基板上の、冷
却モジュール装置どうしの振動接触による電気連絡網を
形成する危険を伴う、従って、基板上に実装された熱発
生装置同士は、あらかじめ予定された導電路以外で電気
的に連絡されることは好ましくなく、この意味でキャッ
プに電気絶縁機能を付与しておくことが望ましい。
The pre-scheduled reverse bias condition cannot be maintained and the circuit function of the entire cooling module device is impaired. Further, if the reverse bias conditions of all the heat generating devices mounted in the cooling module device are exactly the same, the above-mentioned problem is solved. However, the cooling module devices are electrically connected to each other through impurities and contaminants in the heat sink or refrigerant that connects to the cap and forms a contact interface.
Furthermore, there is a risk of forming an electrical communication network due to vibration contact between the cooling module devices on the printed circuit board that is mounted in high density in the housing. It is undesirable for the cap to be electrically connected to anything other than the conductive path, and in this sense it is desirable to provide the cap with an electrically insulating function.

更に、キャップは冷却モジュール装置全体の重量に対し
て占める割合が極めて大きい、冷却モジュール装置は、
基板の熱発生装置を搭載した面と反対側の面から垂直方
向に突出し、金−錫ろう材のようなもので固定された多
数の接続ピンによって、補助回路等を担持するプリント
基板にはんだ様のもので接続され、しかも、プリント基
板面が引力方向に対して平行になるように実装される。
Furthermore, the cap occupies an extremely large proportion of the weight of the entire cooling module device.
A large number of connection pins protrude vertically from the side of the board opposite to the side on which the heat generating device is mounted, and are fixed with something like gold-tin brazing material. The printed circuit board surface is parallel to the direction of attraction.

従って、冷却モジュール装置の全荷重は、ピンとこれに
連なる接続部材、例えば、金−錫系ろう材やはんだで支
持される。冷却モジュール装置は、稼動時には、それを
実装する筐体からプリント基板を経て伝達される機械的
振動を受ける。この際、第三の問題は、過大な荷重によ
り、冷却モジュール装置を支持する接続ピン並びに接続
部材の機械的劣化が加速され、これに伴う故障を生じる
に至る。
Therefore, the entire load of the cooling module device is supported by the pin and the connecting member connected thereto, such as gold-tin brazing material or solder. When a cooling module device is in operation, it is subjected to mechanical vibrations transmitted from a housing in which it is mounted via a printed circuit board. In this case, the third problem is that the excessive load accelerates mechanical deterioration of the connection pins and connection members that support the cooling module device, leading to failures associated with this.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、冷却されるべき小消費電力熱発生装置
の熱伝導路において用いられ、熱伝導路の熱抵抗を増し
て小消費電力熱発生装置の動作温度をそれらの最低動作
温度よりも高く維持する、ハウジングをもつ熱伝導冷却
モジュールMffiであって、具体的には熱伝導路の熱
抵抗を増す皮膜を被覆したハウジングをもつ熱伝導冷却
モジュール装置を提供することにある。
It is an object of the present invention to be used in the heat transfer paths of low power heat generating devices to be cooled to increase the thermal resistance of the heat transfer paths to increase the operating temperature of the low power heat generating devices below their minimum operating temperature. The object of the present invention is to provide a heat conduction cooling module Mffi having a housing that maintains a high temperature, and in particular a heat conduction cooling module device having a housing coated with a coating that increases the thermal resistance of the heat conduction path.

本発明の他の目的は、冷却されるべき小消費電力熱発生
装置を含む熱発生装置の熱伝導路において、熱伝導路を
通じて熱発生装置が相互に電気的連絡路が形成されない
、改良されたハウジングをもつ熱伝導冷却モジュール装
置を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide an improved heat-conducting path for a heat-generating device including a low-power heat-generating device to be cooled, in which no electrical communication path is formed between the heat-generating devices through the heat-conducting path. An object of the present invention is to provide a heat conduction cooling module device having a housing.

本発明のさらに他の目的は、接続ピン並びに接続部材の
劣化を防止ないし軽減する、軽量な熱伝導冷却モジュー
ル装置を提供することにある。
Still another object of the present invention is to provide a lightweight thermal conduction cooling module device that prevents or reduces deterioration of connection pins and connection members.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明熱伝導冷却モジュール装置は、以下の特徴をもつ
The heat conduction cooling module device of the present invention has the following features.

(1)本発明の熱伝導冷却モジュール装置は、冷却され
るべき小消費電力の熱発生装置を含む熱発生装置と、熱
発生装置の各々に対向するように熱伝導路内に含まれて
いるハウジングと、ハウジングの表壁との間で熱交換を
行なうように配置されている熱伝導中継部材と、熱発生
装置に熱伝導中継部材を圧接してこれら両者間に熱伝導
界面を形成する弾性手段を含む熱伝導冷却モジュール装
置であってハウジングが炭化ケイ素を主成分とする焼結
体であって、小消費電力熱発生装置に関連する熱伝導路
にあってハウジングの熱交換を行なう部分に、熱抵抗を
増す絶縁性酸化物を設けたことを特徴とする。
(1) The heat conduction cooling module device of the present invention includes a heat generation device including a low power consumption heat generation device to be cooled, and a heat conduction path that faces each of the heat generation devices. A heat conductive relay member arranged to exchange heat between the housing and the front wall of the housing, and an elastic member that presses the heat conductive relay member against the heat generating device to form a heat conductive interface between the two. A heat conduction cooling module device comprising means, the housing being a sintered body mainly composed of silicon carbide, and a heat exchanger in a portion of the housing in a heat conduction path associated with a low power consumption heat generating device. , is characterized by the provision of an insulating oxide that increases thermal resistance.

(2)本発明の熱伝導冷却モジュール装置は、ハウジン
グが炭化ケイ素を主成分とし、ベリリウム。
(2) In the heat conduction cooling module device of the present invention, the housing is mainly composed of silicon carbide and beryllium.

酸化ベリリウム、窒化ホウ素の少なくとも一種を含む焼
結体であり、少なくとも小消費電力熱発生装置に関連す
る熱伝導路にあってハウジングの熱交換を行なう部分に
設けられた熱抵抗を増す絶縁性酸化物が、シリコン、ゲ
ルマニウム。
A sintered body containing at least one of beryllium oxide and boron nitride, which is an insulating oxide that increases thermal resistance and is provided at least in a heat-exchanging part of the housing in a heat conduction path associated with a low power consumption heat generating device. The materials are silicon and germanium.

アルミニウム、チタニウム、マグネシウム、リチウム、
ジルコニウム、鉛、亜鉛の少なくとも一種の金属の酸化
物であることを特徴とする。
aluminum, titanium, magnesium, lithium,
It is characterized by being an oxide of at least one metal among zirconium, lead, and zinc.

(3)本発明の熱伝導冷却モジュール装置は、ハウジン
グが炭化ケイ素を主成分とし、ベリリウム。
(3) In the heat conduction cooling module device of the present invention, the housing is mainly composed of silicon carbide and beryllium.

酸化ベリリウム、窒化ホウ素の少なくとも一種とアルミ
ニウム、シリコン、鉄、チタニウム。
At least one of beryllium oxide, boron nitride, and aluminum, silicon, iron, and titanium.

ニッケルの少なくとも一種の単体又は酸化物ないし炭化
物を含む焼結体であり、少なくとも小消費電力熱発生装
置に関連する熱伝導路にあって、ハウジングの熱交換を
行なう部分に設けられた熱抵抗を増す絶縁性酸化物が、
シリコン。
A sintered body containing at least one element, oxide or carbide of nickel, which is at least a thermal resistor provided in a heat exchanger part of the housing in a heat conduction path associated with a low power consumption heat generating device. The increasing number of insulating oxides
silicon.

ゲルマニウム、アルミニウム、チタニウム、マグネシウ
ム、リチウム、ジルコニウム、鉛、亜鉛の少なくとも一
種の金属の酸化物であることを特徴とする。
It is characterized by being an oxide of at least one metal selected from germanium, aluminum, titanium, magnesium, lithium, zirconium, lead, and zinc.

ところで、ハウジングは、消費電力の大きい熱発生装置
に関連する熱伝導路にも用いられるから、本質的に高い
熱伝導性をもつことが必要であるほか、軽量、かつ、電
気絶縁性をもつことが最も望ましい。ハウジングになり
得る種々の材料を用いて熱伝導モジュール装置を比較検
討した結果、炭化ケイ素を主成分とする焼結体、更に、
具体的には炭化ケイ素100重量部に対し、ベリリウム
含有量(酸化ベリリウム換算)、窒化ホウ素含有量が2
重量部以上である焼結炭化ケイ素は、熱伝導率0.7 
caIA/”C・cx ・s (室温)、密度3.2g
 / ci 、ビッカース硬さ約4000 、曲げ強さ
く三点支持)45kg−f/薗及び電気抵抗率101a
Ω・国以上(室温)と、ハウジング用材料として好適な
性能をもつことに着目した。
By the way, since the housing is also used as a heat conduction path associated with a heat generating device that consumes a large amount of power, it is necessary to inherently have high thermal conductivity, as well as be lightweight and have electrical insulation properties. is the most desirable. As a result of comparative studies of heat conduction module devices using various materials that can be used as housings, we found that a sintered body whose main component is silicon carbide;
Specifically, for 100 parts by weight of silicon carbide, the beryllium content (in terms of beryllium oxide) and the boron nitride content are 2
The sintered silicon carbide, which is more than part by weight, has a thermal conductivity of 0.7
caIA/”C・cx・s (room temperature), density 3.2g
/ci, Vickers hardness approximately 4000, bending strength, three-point support) 45kg-f/Sono and electrical resistivity 101a
We focused on the fact that it has a resistance of at least Ω・kuni (at room temperature), which makes it suitable for use as a material for housings.

炭化ケイ素焼結体からなるハウジングは、ベリリウム、
酸化ベリリウム、窒化ホウ素により炭化ケイ素焼結粒界
の電気抵抗を高められ、炭化ケイ素焼結体の電気絶縁性
が付与されると同時に熱伝導性が付与される。焼結炭化
ケイ素には、出発原料中に不純物の形で含有されている
シリコン、アルミニウム、鉄、チタニウム、ニッケルの
単体又はこれらの酸化物、炭化物及び遊離炭素が残留し
ている。これらの不純物の小で、アルミニウムは炭化ケ
イ素焼結体の抵抗率を低下させる働きをするので少な・
いことが望ましい。しかし、一方、アルミニウムは焼結
炭化ケイ素の高密度化、即ち、気孔率の低減に重要な役
割を演する。この気孔率の低減の必要性は後述するパッ
ケージの高気密化に無視できない意味を持つ。従って、
このような場合は、アルミニウムの存在によって低下し
た抵抗率を相殺する分量のベリリウム、酸化ベリリウム
、窒化ホウ素を添加することが望ましい。
Housing made of silicon carbide sintered body is made of beryllium,
Beryllium oxide and boron nitride increase the electrical resistance of the sintered silicon carbide grain boundaries, imparting electrical insulation and thermal conductivity to the sintered silicon carbide body. Sintered silicon carbide contains residual silicon, aluminum, iron, titanium, and nickel, or their oxides, carbides, and free carbon, which are contained in the form of impurities in the starting materials. These impurities are small, and aluminum works to reduce the resistivity of silicon carbide sintered bodies, so they are small.
It is desirable that the However, on the other hand, aluminum plays an important role in densifying the sintered silicon carbide, ie, reducing the porosity. The necessity of reducing the porosity has a meaning that cannot be ignored in making the package highly airtight, which will be described later. Therefore,
In such a case, it is desirable to add beryllium, beryllium oxide, or boron nitride in an amount that offsets the resistivity lowered by the presence of aluminum.

本発明の熱伝導性冷却モジュール装置において、熱伝導
路に電気的連絡路が形成されないようにするために必要
な抵抗率は1010Ω■以上、そして熱伝導率は少なく
ともアルミニウム(0,53ca12/■・℃・S)と
同等若しくはそれ以上であることが望ましい。これを達
成するための望ましい添加量は、酸化ベリリウムによっ
てベリリウムを添加する場合の添加量及び窒化ホウ素の
添加量を主成分となる炭化ケイ素100重量部に対して
2重量部以上である。
In the thermally conductive cooling module device of the present invention, the resistivity required to prevent the formation of electrical communication paths in the thermal conduction path is 1010Ω or more, and the thermal conductivity is at least aluminum (0.53ca12/■. It is desirable that the temperature is equal to or higher than ℃・S). To achieve this, the desired addition amount is 2 parts by weight or more when beryllium is added using beryllium oxide and the addition amount of boron nitride based on 100 parts by weight of silicon carbide, which is the main component.

又、特にハウジングは、基板や他の部材とともに熱発生
装置を包囲する空間を形成し、熱伝導中継部材とハウジ
ング、又は、熱発生装置間界面の伝熱を補助するヘリウ
ムガスのような気体を封入する容器を兼ねるため、高気
密性が必要である。
In particular, the housing forms a space surrounding the heat generating device together with the substrate and other members, and contains a gas such as helium gas that assists heat transfer between the heat conductive relay member and the housing, or the interface between the heat generating device. Since it also serves as a container for sealing, it must be highly airtight.

ヘリウムガスは原子半径の小さい気体であって。Helium gas is a gas with a small atomic radius.

極めて微少な間隙や気孔を通して散逸しゃすいからであ
る。このような気密性の問題は、ハウジング用素材とし
て金属を用いる場合と異なり、セラミクス材を適用する
場合に、特に、解決しなければならない点である。この
気密性は、熱伝導冷却モジュールの場合、ヘリウムガス
のもれ量に換算して10−’atm m Q / s以
下が好ましい値であるが、焼結炭化ケイ素にこの程度の
気密性を付与するには、同焼結体の相対密度を97%以
上にすることが望ましい、このような炭化ケイ素焼結体
を得るには、典型的には粒径2μm以下の炭化ケイ素粉
末を同等の粒径の絶縁性、熱伝導性を付与する酸化ベリ
リウム、ベリリウム、窒化ホウ素のような添加物ととも
に均一に混合し、この混合物を98 M P a程度の
圧力で仮成形後、温度205(Ic圧力30 M P 
aで一時間程度真空ホットプレス(真空度10−’MP
a)するのがよい。この際、焼結炭化ケイ素中には、絶
縁性や熱伝導性を付与するための添加物以外に、出発原
料中に含まれる不純物としてのシリコン、アルミニウム
、鉄、チタニウム、ニッケルの単体又はこれらの酸化物
や炭化物及び遊離炭素が含まれている。これらの不純物
は炭化ケイ素結晶粒相互間を緻密にさせるために有効な
働きを持つものである。従って、積極的に焼結炭化ケイ
に気密性を付与するために、シリコン、アルミニウム、
鉄、チタニウム、ニッケルの単体又はこれらの酸化物、
炭化物を添加するのは好ましいことである。
This is because it easily dissipates through extremely small gaps and pores. Such an airtightness problem must be solved especially when a ceramic material is used as the housing material, unlike when metal is used. In the case of a heat conduction cooling module, this airtightness is preferably 10-'atm mQ/s or less in terms of the amount of helium gas leakage, but this level of airtightness is given to sintered silicon carbide. In order to achieve this, it is desirable that the relative density of the sintered body be 97% or more.To obtain such a silicon carbide sintered body, silicon carbide powder with a particle size of 2 μm or less is typically mixed with equivalent particles. The mixture is uniformly mixed with additives such as beryllium oxide, beryllium, and boron nitride that provide diameter insulation and thermal conductivity, and this mixture is preformed at a pressure of about 98 MPa, and then heated to a temperature of 205 mA (Ic pressure of 30 mA). M P
Vacuum hot press for about an hour at a (vacuum degree 10-'MP)
a) It is better to do so. At this time, in addition to additives for imparting insulation and thermal conductivity, the sintered silicon carbide contains impurities such as silicon, aluminum, iron, titanium, and nickel contained in the starting raw materials, or individual elements thereof. Contains oxides, carbides and free carbon. These impurities have an effective function to make the silicon carbide crystal grains denser. Therefore, in order to actively impart airtightness to sintered silicon carbide, silicon, aluminum,
Iron, titanium, nickel alone or their oxides,
Addition of carbide is preferred.

C発明の実施例〕 次に、図面を参照して1本発明の実施例を更に詳細に説
明する。第1図はLSIチップ10として示されている
熱発生装置と、これを冷却するための補助的冷却手段を
もつ気体封入熱伝導冷却モジュール装置の斜視図そして
、第2図は第1図に示される■−■部の断面図である。
C Embodiment of the invention] Next, an embodiment of the invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a gas-filled heat conduction cooling module device having a heat generating device shown as an LSI chip 10 and an auxiliary cooling means for cooling the heat generating device, and FIG. 2 is a perspective view of a heat conduction cooling module device shown in FIG. FIG.

両図を参照して説明するに、チップ10はセラミックの
多層配線基板12の一方の側に微少はんだボール11に
より装着されており、これらチップ10の中には消費電
力が少なく発熱量の小さい熱発生装置としての小電力チ
ップ10aが含まれる。基板12はその他方の側から突
出する接続ピン14をもつ。
To explain with reference to both figures, the chips 10 are attached to one side of a ceramic multilayer wiring board 12 by minute solder balls 11, and some of these chips 10 contain heat sinks that consume less power and generate less heat. A low power chip 10a is included as a generator. The substrate 12 has a connecting pin 14 projecting from the other side.

これらのピン14を補助回路等を担持した配線ボード1
3に差込み、熱伝導モジュール装置が支持される。基板
12のチップ10,10aを搭載した側の周辺部には金
属又はセラミックからなるスペーサ15が、そしてスペ
ーサ15の他方の側にはキャップ、即ち、ハウジング1
6が連らなって配置され、はんだ等のろう材のような封
着部材17.18により固着されている。これらの部材
構成によって密閉空間19が形成されているが、この部
分にはヘリウムガスのように熱伝導性気体31が充填さ
れている(第2図参照)、ハウジング16の内方には、
チップ10,10aに対向するように配置され、ハウジ
ング16と熱交換を行なう熱伝導界面を形成するように
係合された熱伝導中継部材20が設けられ、熱伝導中継
部材20はばね21(第2図参照)の抑圧によりチップ
10.10aとの接触を維持している。この際、ハウジ
ング16の小電力チップ10aに関連する熱伝導路に含
まれる部分には、二酸化シリコン膜16dが被覆され、
熱伝導中継部材20とハウジング16間界面の熱抵抗を
増すように設計されている。二酸化シリコン膜16dは
熱伝導性焼結炭化ケイ素に比べ、二指程度低い熱伝導率
をもつ。
These pins 14 are connected to a wiring board 1 that carries auxiliary circuits, etc.
3, the thermal conduction module device is supported. A spacer 15 made of metal or ceramic is provided around the side of the substrate 12 on which the chips 10 and 10a are mounted, and a cap, that is, the housing 1 is provided on the other side of the spacer 15.
6 are arranged in a row and are fixed by sealing members 17 and 18 such as brazing material such as solder. A sealed space 19 is formed by these members, and this part is filled with a thermally conductive gas 31 such as helium gas (see FIG. 2). Inside the housing 16,
A heat conductive relay member 20 is disposed to face the chips 10, 10a and is engaged with the housing 16 so as to form a heat conductive interface for heat exchange. 2) maintains contact with the chip 10.10a. At this time, a portion of the housing 16 included in the heat conduction path related to the low power chip 10a is covered with a silicon dioxide film 16d.
It is designed to increase the thermal resistance at the interface between the heat conductive relay member 20 and the housing 16. The silicon dioxide film 16d has a thermal conductivity that is two fingers lower than that of thermally conductive sintered silicon carbide.

従って、二酸化シリコン膜16dの熱抵抗によって、小
電力チップ10aからハウジング16に至る熱伝達が抑
制される。この結果小電力チップ10aにおける蓄熱が
なされ、同チップは予定された動作温度範囲に維持され
る。二酸化シリコン膜16dは熱酸化法によって形成さ
れるのが適切である。この場合、二酸化シリコン膜は、
炭化ケイ素焼結体を31!1された酸素源をもつ#囲気
1例えば、水蒸気と酸素ガスを含む雰囲気中で、100
0〜1500℃に加熱することによって形成される。し
かし、上記熱酸化以外の方法、例えば、Chemica
lVapor Deposition法で代表されるよ
うな化学反応を利用した方法や、スパッタリング法等に
よっても二酸化シリコン膜を形成でき、これらの方法に
よって形成された二酸化シリコン膜であっても、本発明
の目的を達成するための熱抵抗増加担体になり得る。又
、二酸化シリコン膜16dは、二酸化シリコンであるこ
とは本発明の目的を達成する上で必ずしも必須としない
。即ち、ゲルマニウム。
Therefore, heat transfer from the low power chip 10a to the housing 16 is suppressed by the thermal resistance of the silicon dioxide film 16d. As a result, heat is stored in the low power chip 10a, and the chip is maintained within a predetermined operating temperature range. It is appropriate that the silicon dioxide film 16d be formed by a thermal oxidation method. In this case, the silicon dioxide film is
For example, in an atmosphere containing water vapor and oxygen gas, a silicon carbide sintered body with an oxygen source of 31!
It is formed by heating to 0-1500°C. However, methods other than the above thermal oxidation, such as Chemica
A silicon dioxide film can also be formed by a method using a chemical reaction such as the lVapor Deposition method, a sputtering method, etc., and even silicon dioxide films formed by these methods can achieve the object of the present invention. It can be used as a carrier to increase thermal resistance. Further, it is not essential that the silicon dioxide film 16d be silicon dioxide in order to achieve the object of the present invention. Namely, germanium.

アルミニウム、チタニウム、マグネシウム、リチウム、
ジルコニウム、鉛、亜鉛のように少なくとも一種の金属
の酸化物であっても熱抵抗増加担体になり得る。この場
合、スパッタリング法以外に、厚膜焼成法、溶射法のよ
うな他の方法で形成される。
aluminum, titanium, magnesium, lithium,
Even oxides of at least one metal such as zirconium, lead, and zinc can serve as carriers for increasing thermal resistance. In this case, in addition to the sputtering method, other methods such as a thick film firing method and a thermal spraying method are used.

第3図は小電力チップ10aに関連する熱伝導路に用い
られたハウジング16の部分を拡大して示した概略断面
図である。小電力チップ10aは。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an enlarged portion of the housing 16 used as a heat conduction path related to the low power chip 10a. The low power chip 10a.

熱伝導中継部材20と熱伝導界面を形成するが、上記熱
伝導中継部材20のチップ10aに接しない他端部に開
孔20aが設けられ、開開孔20aをハウジング16の
チップ10aに対向する部分に設けた突出部16aに案
内するように装着される。ハウジング16の突出部16
aには二酸化シリコン膜16dが設けられている。この
際、小電力チップ10aに関する熱伝導路では、熱抵抗
は二酸化シリコン膜16dの厚さによって調節される。
An aperture 20a is provided at the other end of the heat conductive relay member 20 that forms a heat conductive interface with the heat conductive relay member 20 but is not in contact with the chip 10a, and the aperture 20a faces the chip 10a of the housing 16. It is attached so as to be guided by a protrusion 16a provided in the section. Projection 16 of housing 16
A silicon dioxide film 16d is provided on a. At this time, in the heat conduction path for the low power chip 10a, the thermal resistance is adjusted by the thickness of the silicon dioxide film 16d.

チップ10aに向けてばね21により押圧が与えられる
熱伝導中継部材20の末端部分20bの直径りは約6.
5 trn、同部材の全長は6.0  ffff1に調
整されている。熱伝導中継部材20の開孔部20aの側
壁20 cとハウジング16の突出部16aの側壁16
bの間隙は約0.025 wtrである。
The diameter of the end portion 20b of the thermally conductive relay member 20, which is pressed by the spring 21 toward the chip 10a, is approximately 6 mm.
5 trn, and the total length of the same member is adjusted to 6.0 ffff1. The side wall 20c of the opening 20a of the heat conduction relay member 20 and the side wall 16 of the protrusion 16a of the housing 16
The gap in b is approximately 0.025 wtr.

突出部16aの直径はD/2に等しく、その長さは8.
0 Imである。従って、側壁20cと側壁16bの間
の対向面積と相関をもつ対向長りは2.5 rrmであ
る。これらの一定パラメータを用いて、チップ10aか
らハウジング16に至る全熱抵抗(’C/W)を二酸化
シリコン膜16dの厚さくμm)に対してプロットする
ことにより、第4図に示す熱特性曲線が得られる。同曲
線に示されるように、厚さが増すにつれ熱抵抗を増して
おり。
The diameter of the protrusion 16a is equal to D/2, and its length is 8.
0 Im. Therefore, the opposing length that correlates with the opposing area between the side wall 20c and the side wall 16b is 2.5 rrm. Using these constant parameters, by plotting the total thermal resistance ('C/W) from the chip 10a to the housing 16 against the thickness of the silicon dioxide film 16d (μm), the thermal characteristic curve shown in FIG. is obtained. As shown in the curve, the thermal resistance increases as the thickness increases.

二酸化シリコン膜16dの厚さを調節することにより放
熱能力を制御できることを開示している。
It is disclosed that the heat radiation ability can be controlled by adjusting the thickness of the silicon dioxide film 16d.

尚、放熱能力の制御は対向長りの調節によっても可能な
ことは勿論である。更に必要なら熱伝導中継部材に二酸
化シリコン膜を設けることもできる。
Incidentally, it goes without saying that the heat dissipation capacity can also be controlled by adjusting the opposing length. Furthermore, if necessary, a silicon dioxide film can be provided on the heat conductive relay member.

又、本実施例において、ハウジング16としての焼結炭
化ケイ素には添加剤によって電気絶縁性が付与されてい
るが、各種金属の酸化物は焼結炭化ケイ素に、更に、確
実な電気絶縁性を付与するのに効果がある。そして、熱
伝導冷却モジュール装置の全重量に対して占める割合の
大きいハウジング16が、炭化ケイ素焼結体の使用によ
って軽量化されており、接続ピン14の接続部の劣化を
軽減ないし防止できることは轟然である。
Furthermore, in this embodiment, the sintered silicon carbide used as the housing 16 is given electrical insulation by additives, but oxides of various metals can further provide reliable electrical insulation to the sintered silicon carbide. It is effective in giving. Furthermore, the housing 16, which accounts for a large proportion of the total weight of the heat conduction cooling module device, is lightweight by using silicon carbide sintered body, and it is amazing that deterioration of the connecting portion of the connecting pin 14 can be reduced or prevented. It is.

第5図は本発明の他の実施例を開示する熱伝導冷却モジ
ュール装置の、熱伝導路を拡大して示す概略断面図であ
る。小電力チップ10aは他のチップ1oとともに基板
12上に搭載され、これらのチップ10.10aに対向
するハウジング16の内壁に開孔部16gが設けられ、
略柱状の熱伝導中継部材20が開孔部16gに配置され
、ばね21によってチップ10.10aに熱伝導熱中継
部材2oを圧接する力が付与されている。この際。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing an enlarged heat conduction path of a heat conduction cooling module device disclosing another embodiment of the present invention. The low power chip 10a is mounted on a substrate 12 together with other chips 1o, and an opening 16g is provided in the inner wall of the housing 16 facing these chips 10.10a.
A substantially columnar heat conductive relay member 20 is placed in the opening 16g, and a spring 21 applies a force to press the heat conductive relay member 2o against the chip 10.10a. On this occasion.

小電力チップ10aの熱伝導路内にある開孔部16gの
表面には二酸化シリコン@16dが設けられ、熱伝導路
内の熱抵抗が調整されるように設計されている。この結
果、小電力チップ10aは予定された動作温度範囲に維
持される。尚1本実施例の場合は、熱伝導性中継部材2
0はハウジング16の開孔部16gに案内される構造を
とるため、第2図の構造のような場合に比ベハウジング
16の重量増加を伴う、この場合でも、接続ピン14に
関連する接続部の問題を避は得る範囲で実施できること
は勿論である。
Silicon dioxide@16d is provided on the surface of the opening 16g in the heat conduction path of the low power chip 10a, and is designed to adjust the thermal resistance in the heat conduction path. As a result, the low power chip 10a is maintained within the intended operating temperature range. In addition, in the case of this embodiment, the thermally conductive relay member 2
0 has a structure in which the housing 16 is guided through the opening 16g of the housing 16, which increases the weight of the housing 16 compared to the structure shown in FIG. Of course, this can be implemented to the extent that this problem can be avoided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の斜視図、第2図は第1図の
■−■矢視断面図、第3図は本発明のハウジングの断面
図、第4図は本発明の熱特性曲線図、第5図は本発明の
他の実施例の断面図である616・・・ハウジング、1
6d・・・二酸化シリコン膜。
FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along arrows -■ in FIG. 1, FIG. 3 is a sectional view of the housing of the present invention, and FIG. 4 is a thermal Characteristic curve diagram, FIG. 5 is a sectional view of another embodiment of the present invention 616...Housing, 1
6d...Silicon dioxide film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、冷却されるべき小消費電力の熱発生装置と、この熱
発生装置の各々に対向するように熱伝導路内に含まれて
いるハウジングと、このハウジングの表壁との間で熱交
換を行なうように配置されている熱伝導中継部材と、前
記熱発生装置に前記熱伝導中継部材を圧接して熱伝導界
面を形成する弾性手段を含む熱伝導冷却モジュール装置
において、前記ハウジングが炭化ケイ素を主成分とする
焼結体で、前記小消費電力熱発生装置に関連する熱伝導
路にあつて前記ハウジングの熱交換を行なう部分に、熱
抵抗を増す絶縁性酸化物を設けたことを特徴とする熱伝
導冷却モジュール装置。 2、特許請求の範囲第1項において、 前記ハウジングが炭化ケイ素を主成分とし、ベリリウム
、酸化ベリリウム、窒化ホウ素の少なくとも一種を含む
焼結体であり、前記小消費電力熱発生装置に関連する熱
伝導路にあつて前記ハウジングの熱交換を行なう部分に
設けられた熱抵抗を増す絶縁性酸化物が、シリコン、ゲ
ルマニウム、アルミニウム、チタニウム、マグネシウム
、リチウム、ジルコニウム、鉛、亜鉛の少なくとも一種
の金属の酸化物であることを特徴とする熱伝導冷却モジ
ュール装置。 3、特許請求の範囲第2項において、 前記ハウジングが炭化ケイ素を主成分とし、ベリリウム
、酸化ベリリウム、窒化ホウ素の少なくとも一種と、ア
ルミニウム、シリコン、鉄、チタニウム、ニッケルの単
体又は酸化物ないし炭化物を含む焼結体であることを特
徴とする熱伝導冷却モジュール装置。
[Claims] 1. A heat generating device with low power consumption to be cooled, a housing included in a heat conduction path so as to face each of the heat generating devices, and a surface wall of the housing. A heat conductive cooling module device including a heat conductive relay member arranged to exchange heat between the heat conductive relay member and an elastic means for press-contacting the heat conductive relay member to the heat generating device to form a heat conductive interface, The housing is a sintered body containing silicon carbide as a main component, and an insulating oxide that increases thermal resistance is applied to a portion of the housing that performs heat exchange in a heat conduction path related to the low power consumption heat generating device. A heat conduction cooling module device characterized in that: 2. In claim 1, the housing is a sintered body mainly composed of silicon carbide and containing at least one of beryllium, beryllium oxide, and boron nitride, and the housing is a sintered body containing at least one of beryllium, beryllium oxide, and boron nitride, and the housing is a sintered body containing at least one of beryllium, beryllium oxide, and boron nitride, and The insulating oxide that increases thermal resistance provided in the heat exchange portion of the housing in the conduction path is made of at least one metal selected from silicon, germanium, aluminum, titanium, magnesium, lithium, zirconium, lead, and zinc. A thermal conduction cooling module device characterized in that it is an oxide. 3. In claim 2, the housing is mainly composed of silicon carbide, and at least one of beryllium, beryllium oxide, and boron nitride, and a single substance or oxide or carbide of aluminum, silicon, iron, titanium, or nickel. A heat conduction cooling module device characterized by being a sintered body containing.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010153699A (en) * 2008-12-26 2010-07-08 Denki Kagaku Kogyo Kk Heat-resistant and wear-resistant member for 3-5 group compound semiconductor manufacturing apparatus
WO2023083823A1 (en) * 2021-11-09 2023-05-19 Rolls-Royce Deutschland Ltd & Co Kg Circuit board assembly
JP2024518684A (en) * 2021-03-31 2024-05-02 ヒタチ・エナジー・リミテッド METHOD FOR MANUFACTURING A POWER MODULE AND POWER MODULE - Patent application

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