JPS6185705A - 導電ペ−スト - Google Patents
導電ペ−ストInfo
- Publication number
- JPS6185705A JPS6185705A JP20704284A JP20704284A JPS6185705A JP S6185705 A JPS6185705 A JP S6185705A JP 20704284 A JP20704284 A JP 20704284A JP 20704284 A JP20704284 A JP 20704284A JP S6185705 A JPS6185705 A JP S6185705A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- powder
- fine
- silver
- copper
- content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はサーディツプ基板用ペースト、特にドラディン
グペーストに関するものである。
グペーストに関するものである。
従来の技術
近年、電子機器の薄型化、コンパクト化は著しく、集積
度の増加と共に一段と信頼性が向上し、用途も拡大の一
途をたどっている。モノリシックICでは急速な密度の
増加、小型化がすすんできており、一方ハイブリットエ
Cの分野でも特に自動車用制御回路やM源装置用などの
産業機器においては耐熱性、耐熱衝撃性にすぐれた大規
模ハイブリッ)IC化の傾向が強い、最近のバイブリフ
トICでは、セラミック基板上にダイオード、トランジ
スタ、半導体ICなどの能動部品のほかコイル、トラン
ス、コンデンサーなどほとんどの電気部品を搭載してい
る。集積度も一段と増加し信頼度も飛躍的に向上した混
成集積回路が開発されている。
度の増加と共に一段と信頼性が向上し、用途も拡大の一
途をたどっている。モノリシックICでは急速な密度の
増加、小型化がすすんできており、一方ハイブリットエ
Cの分野でも特に自動車用制御回路やM源装置用などの
産業機器においては耐熱性、耐熱衝撃性にすぐれた大規
模ハイブリッ)IC化の傾向が強い、最近のバイブリフ
トICでは、セラミック基板上にダイオード、トランジ
スタ、半導体ICなどの能動部品のほかコイル、トラン
ス、コンデンサーなどほとんどの電気部品を搭載してい
る。集積度も一段と増加し信頼度も飛躍的に向上した混
成集積回路が開発されている。
これらのハイブリッ)ICはセラミック基板上に、個別
部品あるいはICエレメントをfilしたり、厚膜技術
を駆使して構成されている。サーディツプICは通常A
文20392〜96%程度のアルミナ基板上にシリコン
のICチップをポンディングペーストを使用して固着し
ているが。
部品あるいはICエレメントをfilしたり、厚膜技術
を駆使して構成されている。サーディツプICは通常A
文20392〜96%程度のアルミナ基板上にシリコン
のICチップをポンディングペーストを使用して固着し
ているが。
一層耐久力のある固着力が要求されている。
通常サーディツプ用のボンディング方法としてはAu系
ペーストまたは半田、ガラスなどが使用されている。A
u系ペーストは導電性に優れ。
ペーストまたは半田、ガラスなどが使用されている。A
u系ペーストは導電性に優れ。
化学的にもまったく安定で、Auワイヤーとのボンダビ
リティがもっとも良く、SIとも容易に合金化し、基板
との接着もきわめて良好で、特に信頼性に優れているが
高価であるという難点がある。この難点を解消するため
AuをAgに代えAgの欠点であるマイグレーションを
防止するためにPdを添加したAg−Pd系のペースト
が開発されてきた。
リティがもっとも良く、SIとも容易に合金化し、基板
との接着もきわめて良好で、特に信頼性に優れているが
高価であるという難点がある。この難点を解消するため
AuをAgに代えAgの欠点であるマイグレーションを
防止するためにPdを添加したAg−Pd系のペースト
が開発されてきた。
発明が解決しようとする問題点
これら従来のペーストは金属粉末にガラス買金属酸化物
を混合し、ビヒクルを用いて混練したものであり、アル
ミナ基板との接着はもっばらガラスフリットの焼結結合
にたよるものであった。
を混合し、ビヒクルを用いて混練したものであり、アル
ミナ基板との接着はもっばらガラスフリットの焼結結合
にたよるものであった。
しかしながらガラスフリットは熱衝撃に弱く。
基板を焼成してパッケージ化する工程や、あるいは使用
中の環境温度の変化によって接着強度が熱劣化する欠点
を有する。アルミ゛す基板との接着力を向上させるため
、Cuなどを微量添加しアルミナ基板と化学的に結合さ
せる試みもなされているが、ガラスフリットを使用する
限り熱劣化特性を飛躍的に向上させることは困難であっ
た。
中の環境温度の変化によって接着強度が熱劣化する欠点
を有する。アルミ゛す基板との接着力を向上させるため
、Cuなどを微量添加しアルミナ基板と化学的に結合さ
せる試みもなされているが、ガラスフリットを使用する
限り熱劣化特性を飛躍的に向上させることは困難であっ
た。
すなわち、たり単にCu微粉末を添加したのでは、ビヒ
クル中では比重差により他の金属微粉末と分離する現象
が起こり、ドラディングに際しては分散が悪く、均一な
メタライズ皮膜とならないばかりでなく、アルミナ基板
に充分拡散しないため皮膜の接着強度が不充分なものと
なる。また焼成過程でCuの偏析した箇所は局部的に酸
化されて着色し均一な平滑面を有する皮膜が得られない
などの欠点がある。
クル中では比重差により他の金属微粉末と分離する現象
が起こり、ドラディングに際しては分散が悪く、均一な
メタライズ皮膜とならないばかりでなく、アルミナ基板
に充分拡散しないため皮膜の接着強度が不充分なものと
なる。また焼成過程でCuの偏析した箇所は局部的に酸
化されて着色し均一な平滑面を有する皮膜が得られない
などの欠点がある。
本発明は上記のような欠点を解消すべくなされたもので
あり、サーディツプIC用のドラディングペーストにお
いて、アルミナ基板とシリコンチップとの接着力にすぐ
れ、耐熱性、耐熱衝撃性にもすぐれており、使い易く、
安価なフリットレスタイプのドラディングペーストを提
供せんとするものである。
あり、サーディツプIC用のドラディングペーストにお
いて、アルミナ基板とシリコンチップとの接着力にすぐ
れ、耐熱性、耐熱衝撃性にもすぐれており、使い易く、
安価なフリットレスタイプのドラディングペーストを提
供せんとするものである。
問題を解決するための手段および作用
本発明者らは先に銀CAg)と銅(Cu)の複合微粉末
を使用することを特徴とする導電ペーストを提案した(
特願昭58−18914) 0本発明は先の提案にさら
に酸化イツトリウムを添加することにより、接着強度を
さらに強めることを目的としたものである。第一の発明
は銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末と酸化イツトリウ
ムを含有し、残部がビヒクルよりなることを要旨とする
。第二の発明は銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末、お
よび銀と白金との複合微粉末または白金微粉末と酸化イ
ツトリウムを含有し、残部がビヒクルよりなることを要
旨とじ、Agのマイグレーションを防止し、ワイヤー接
着性、ハンダ特性を向上させる効果を有するものとなる
。
を使用することを特徴とする導電ペーストを提案した(
特願昭58−18914) 0本発明は先の提案にさら
に酸化イツトリウムを添加することにより、接着強度を
さらに強めることを目的としたものである。第一の発明
は銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末と酸化イツトリウ
ムを含有し、残部がビヒクルよりなることを要旨とする
。第二の発明は銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末、お
よび銀と白金との複合微粉末または白金微粉末と酸化イ
ツトリウムを含有し、残部がビヒクルよりなることを要
旨とじ、Agのマイグレーションを防止し、ワイヤー接
着性、ハンダ特性を向上させる効果を有するものとなる
。
第三の発明は銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末、およ
び銀とパラジウムとの複合微粉末又は、パラジウム微粉
末と酸化イツトリウムを含有し、残部がビヒクルよりな
ることを要旨とするもので、Agのマイグレーション防
止に特にすぐれ、ワイヤー接着性、ハンダ特性を向上さ
せる効果を有する。
び銀とパラジウムとの複合微粉末又は、パラジウム微粉
末と酸化イツトリウムを含有し、残部がビヒクルよりな
ることを要旨とするもので、Agのマイグレーション防
止に特にすぐれ、ワイヤー接着性、ハンダ特性を向上さ
せる効果を有する。
次に本発明につき詳説する0本発明において銀微粉末は
粒径1107z以下のもの、好ましくは平均粒径(D刃
)が0.5〜5に腸のものを使用する。
粒径1107z以下のもの、好ましくは平均粒径(D刃
)が0.5〜5に腸のものを使用する。
1107Lより大きくなるとビヒクル中での分散性が悪
くなり、ドラディングの時にニードルが閉塞する恐れが
ある。又、焼成仕上がり面の平滑性が得難くなる。銀粉
末は特殊なものである必要はなく、通常の還元法や電解
法で得られた銀粉末を使用することができる。
くなり、ドラディングの時にニードルが閉塞する恐れが
ある。又、焼成仕上がり面の平滑性が得難くなる。銀粉
末は特殊なものである必要はなく、通常の還元法や電解
法で得られた銀粉末を使用することができる。
銀と銅の複合微粉末はビヒクル中で銀粒子と銅粒子が結
合を保っていれば良く、メッキ粉、共沈粉、メカニカル
70イ粉末等が利用できる。特にメカニカルアロイ粉末
は、銀と銅の粉末をボールミル中で高速回転させて混合
粉砕した結果得られるものであり、銀粒子と銅粒子が機
械的に噛合って結合しており、バインダーを何ら使用す
ることなく銀粒子と鋼粒子の強固な結合を保つことが可
億である。メカニカル70イ粉末による場合は広範囲の
Cu含有量の複合粉末を任意に選択使用できる利点を有
する。銀と銅との複合粉末の粒子径は10gm以下、好
ましくは平均粒子径(Di )が0.5〜5絡腸のもの
が良い、銀と銅との複合粉末中の銅の含有量は2G−!
35%が適当である。銅含有量が20%以下では皮膜強
度が充分でなく、95%を越えると複合粉末化の効果が
なくなる。さらに比重値がなるべく銀と銅との中間値に
近いものがビヒクル中での分散性を良くする上で望まし
い。
合を保っていれば良く、メッキ粉、共沈粉、メカニカル
70イ粉末等が利用できる。特にメカニカルアロイ粉末
は、銀と銅の粉末をボールミル中で高速回転させて混合
粉砕した結果得られるものであり、銀粒子と銅粒子が機
械的に噛合って結合しており、バインダーを何ら使用す
ることなく銀粒子と鋼粒子の強固な結合を保つことが可
億である。メカニカル70イ粉末による場合は広範囲の
Cu含有量の複合粉末を任意に選択使用できる利点を有
する。銀と銅との複合粉末の粒子径は10gm以下、好
ましくは平均粒子径(Di )が0.5〜5絡腸のもの
が良い、銀と銅との複合粉末中の銅の含有量は2G−!
35%が適当である。銅含有量が20%以下では皮膜強
度が充分でなく、95%を越えると複合粉末化の効果が
なくなる。さらに比重値がなるべく銀と銅との中間値に
近いものがビヒクル中での分散性を良くする上で望まし
い。
導電ペースト中の金属粉末中に占める銅含有率は0.1
〜10%、好ましくは2〜5%である。銅含有率が0.
1%以下ではアルミナ中への拡散が不充分で接着強度が
上がらない、また、銅含有量が10%を越えると銅の酸
化が著しくなり、かえって悪影響をおよぼす結果となる
。
〜10%、好ましくは2〜5%である。銅含有率が0.
1%以下ではアルミナ中への拡散が不充分で接着強度が
上がらない、また、銅含有量が10%を越えると銅の酸
化が著しくなり、かえって悪影響をおよぼす結果となる
。
導電ペースト中の金属粉末含有量は90〜90%とする
必要があり、これ以外では取扱い易いペースト粘度が得
られない。
必要があり、これ以外では取扱い易いペースト粘度が得
られない。
酸化イツトリウム(Y203)は化学的手法で製造され
た純度が98.6%以上のものが好ましい。
た純度が98.6%以上のものが好ましい。
粒度は平均粒径で5鉢■以下が好ましく、粒径は強度を
向上させるために、あるいは分散性を良くするために細
かい方が良い、平均粒径が1す]以上になると、均一分
散性が悪く表面平滑性の面で好ましくない。
向上させるために、あるいは分散性を良くするために細
かい方が良い、平均粒径が1す]以上になると、均一分
散性が悪く表面平滑性の面で好ましくない。
酸化イツトリウムの添加量はペーストの固形成分中の割
合が0.02〜2%、好ましくは0.05〜1%となる
よう添加すると付着強度向上に著しい効果を発揮するこ
とが判明した。添加量が0.05%以下では効果が認め
られず、2%を越えるとY2O3が析出し、表面平滑性
に悪影響を及ぼし、ダイアタッチ性を阻害する0表面平
滑性を保ちしかも付着強度を向上させるにはペーストの
固形成分中に0.05〜1%添加するのが良い。
合が0.02〜2%、好ましくは0.05〜1%となる
よう添加すると付着強度向上に著しい効果を発揮するこ
とが判明した。添加量が0.05%以下では効果が認め
られず、2%を越えるとY2O3が析出し、表面平滑性
に悪影響を及ぼし、ダイアタッチ性を阻害する0表面平
滑性を保ちしかも付着強度を向上させるにはペーストの
固形成分中に0.05〜1%添加するのが良い。
ビヒクルは金属微粉末を均一に分散させ、使用に際して
は適度の粘性と表面重力を有し、塗布面に滑らかに拡散
させる機崗を有する0本発明で使用するビヒクルは通常
使用されているエチルセルロースをバインダーとして、
溶剤としてテレピネオール、ブチルカルピトール、ブチ
ルカルピトールアセテート、テキサノール等の有btu
溶媒が使用できる。また、金属粉末との漏れ性を良くす
るため界面活性剤を0.5〜10%添加すると分散性が
良くなる。又、分散剤としてロジン系樹脂を0.1〜2
%添加する場合もある。ペースト状態では金属微粉末粒
子の分離偏析を避けるため、粘度は高く調整しておくが
、使用に際しては溶剤を用いて希釈し、40〜4500
P3の粘度に調整する。
は適度の粘性と表面重力を有し、塗布面に滑らかに拡散
させる機崗を有する0本発明で使用するビヒクルは通常
使用されているエチルセルロースをバインダーとして、
溶剤としてテレピネオール、ブチルカルピトール、ブチ
ルカルピトールアセテート、テキサノール等の有btu
溶媒が使用できる。また、金属粉末との漏れ性を良くす
るため界面活性剤を0.5〜10%添加すると分散性が
良くなる。又、分散剤としてロジン系樹脂を0.1〜2
%添加する場合もある。ペースト状態では金属微粉末粒
子の分離偏析を避けるため、粘度は高く調整しておくが
、使用に際しては溶剤を用いて希釈し、40〜4500
P3の粘度に調整する。
第一の発明では銀微粉末および銀と銅との複合微粉末を
含み、これらの金属微粉末粒子の合計が60〜90%で
、かつ金属微粉末中の銅の含有量が0.1〜lθ%であ
り、さらに酸化イー、トリウムを固形成分中に0.02
〜2%含み、残部がビヒクルからなる導電ペーストであ
る。ペース・トを上記のように構成することにより熱衝
撃に耐え、熱劣化性が著しく改善された強固な結合力を
有するものとなる。さらに本発明によるペーストはドラ
ディングの際の分散性も良くなり、平滑で均一な焼土が
り特性を有するすぐれた表面皮119となる。
含み、これらの金属微粉末粒子の合計が60〜90%で
、かつ金属微粉末中の銅の含有量が0.1〜lθ%であ
り、さらに酸化イー、トリウムを固形成分中に0.02
〜2%含み、残部がビヒクルからなる導電ペーストであ
る。ペース・トを上記のように構成することにより熱衝
撃に耐え、熱劣化性が著しく改善された強固な結合力を
有するものとなる。さらに本発明によるペーストはドラ
ディングの際の分散性も良くなり、平滑で均一な焼土が
り特性を有するすぐれた表面皮119となる。
第二の発明は第一の発明に白金を添加したものであり、
銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末と、銀と白金との複
合微粉末または白金微粉末とを含み、これらの金属微粉
末粒子の合計が90〜90%で、かつ金属微粉末中の銅
の含有量が0.1〜10%であり、銀との複合粉末であ
る場合白金の含有呈が0.2〜30%であり、さらに酸
化イツトリウムを固形成分中に0.02〜2%含み、残
部がビヒクルからなる導電ペーストである。上記のごと
くペーストを構成することにより、熱衝撃に耐え、熱劣
化性が著しく改善された強固な結合力を有するほかに、
銀のマイグレーションを防止し、ワイヤーポンディング
性、ファインライン性、ハンダ特性、導電性を改善する
効果を有する。又、キャビティ一部にワイヤーを接続す
る場合、AfL線が使用できる大きな利点をもつ。
銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末と、銀と白金との複
合微粉末または白金微粉末とを含み、これらの金属微粉
末粒子の合計が90〜90%で、かつ金属微粉末中の銅
の含有量が0.1〜10%であり、銀との複合粉末であ
る場合白金の含有呈が0.2〜30%であり、さらに酸
化イツトリウムを固形成分中に0.02〜2%含み、残
部がビヒクルからなる導電ペーストである。上記のごと
くペーストを構成することにより、熱衝撃に耐え、熱劣
化性が著しく改善された強固な結合力を有するほかに、
銀のマイグレーションを防止し、ワイヤーポンディング
性、ファインライン性、ハンダ特性、導電性を改善する
効果を有する。又、キャビティ一部にワイヤーを接続す
る場合、AfL線が使用できる大きな利点をもつ。
白金は化学的に安定であるから単独で混合しても上記特
性を改善するのに有効であるが、銀との複合粉末を使用
するとビヒクル中で均一に分散するので、一層効果的で
ある。銀と白金との複合粉末はノー2キ粉、共沈粉、メ
カニカルアロイ粉等が使用できる。複合粉末中の白金の
含有率は5〜60%が適する。メカニカルアロイ粉では
白金含有率の高いものを容易に得ることができる。
性を改善するのに有効であるが、銀との複合粉末を使用
するとビヒクル中で均一に分散するので、一層効果的で
ある。銀と白金との複合粉末はノー2キ粉、共沈粉、メ
カニカルアロイ粉等が使用できる。複合粉末中の白金の
含有率は5〜60%が適する。メカニカルアロイ粉では
白金含有率の高いものを容易に得ることができる。
複合粉末の粉末粒子径は1OIL−以下、平均粒子径(
DMI )は5pm以下程度のものが良い、白金の含有
にはペースト中の金属粒子に対し0.2〜10%、好ま
しくは0.5〜3.0%である。白金含有量が0.2%
以下では添加効果が認められず、 10%以上ではコス
ト削減の効果が現われない。
DMI )は5pm以下程度のものが良い、白金の含有
にはペースト中の金属粒子に対し0.2〜10%、好ま
しくは0.5〜3.0%である。白金含有量が0.2%
以下では添加効果が認められず、 10%以上ではコス
ト削減の効果が現われない。
第三の発明は第一の発明にパラジウムを添加したもので
あり、銀微粉末と、銀と銅との複合粉末と、銀とパラジ
ウムとの複合微粉末又はパラジウム微粉末とを含み、こ
れらの金属微粉末粒子の合計が60〜90%で、かつ金
属微粉末中の銅の含有量が0.1〜10%であり、パラ
ジウムの含有量が0.2〜30%であり、さらに酸化イ
ツトリウムを固形成分中に0.02〜2%含み、残部が
ビヒクルからなる導電ペーストである。上記のごとくペ
ーストを構成することにより、熱衝撃に耐え、熱劣化性
が著しく改善された強固な結合力を有するほかに、特に
銀のマイグレーション防止に著しい効果を発揮し、ワイ
ヤーボンディング性。
あり、銀微粉末と、銀と銅との複合粉末と、銀とパラジ
ウムとの複合微粉末又はパラジウム微粉末とを含み、こ
れらの金属微粉末粒子の合計が60〜90%で、かつ金
属微粉末中の銅の含有量が0.1〜10%であり、パラ
ジウムの含有量が0.2〜30%であり、さらに酸化イ
ツトリウムを固形成分中に0.02〜2%含み、残部が
ビヒクルからなる導電ペーストである。上記のごとくペ
ーストを構成することにより、熱衝撃に耐え、熱劣化性
が著しく改善された強固な結合力を有するほかに、特に
銀のマイグレーション防止に著しい効果を発揮し、ワイ
ヤーボンディング性。
ハンダ特性を改善し、表面の滑らかな均質皮膜が得られ
る効果を有する。
る効果を有する。
パラジウムを添加したペーストは銀のマイグレーション
を防止する効果を有することは広く知られた事実である
が、パラジウムを単独で添加したペーストは、焼成過程
でパラジウムが容易に酸化され、表面粗さが極端に粗く
なる欠点がある。そのためパラジウムを単独で添加する
場合。
を防止する効果を有することは広く知られた事実である
が、パラジウムを単独で添加したペーストは、焼成過程
でパラジウムが容易に酸化され、表面粗さが極端に粗く
なる欠点がある。そのためパラジウムを単独で添加する
場合。
粒度(050)を21Lm以下の微粉末を使用しなけれ
ばならない0本発明ではパラジウムを銀と複合化した粉
末を使用することにより、パラジウムの酸化を防止しつ
つ平面状態のきわめて良好な皮膜が得られることを見出
した。
ばならない0本発明ではパラジウムを銀と複合化した粉
末を使用することにより、パラジウムの酸化を防止しつ
つ平面状態のきわめて良好な皮膜が得られることを見出
した。
銀とパラジウムとの複合化粉末としては共沈粉末、メカ
ニカルアロイ粉末、メッキ粉末が利用できる。複合粉末
中のパラジウムの含有率は10〜40%、好ましくは2
0〜30%のものが使い易い。
ニカルアロイ粉末、メッキ粉末が利用できる。複合粉末
中のパラジウムの含有率は10〜40%、好ましくは2
0〜30%のものが使い易い。
複合粉末の粒子径は10終腸以下、平均粒子径(DI
)は5終膓以下程度のものが良い。
)は5終膓以下程度のものが良い。
パラジウムの含有量はペースト中の金属粒子に対して0
.2〜30%、好ましくは0.5〜10%である。パラ
ジウム含有量が0.2%以下では添加の効果が認められ
ず、30%以上添加しても著しい特性向上は期待できな
くなるからである。
.2〜30%、好ましくは0.5〜10%である。パラ
ジウム含有量が0.2%以下では添加の効果が認められ
ず、30%以上添加しても著しい特性向上は期待できな
くなるからである。
実施例
次に実施例をあげて本発明を説明する。
表1に示す金属粉末と酸化イツトリウムを使用しビヒク
ルとしてテルピネオール、エチルセルロース及び界面活
性剤を使用して三本ロールミルで混練してペーストを作
った。
ルとしてテルピネオール、エチルセルロース及び界面活
性剤を使用して三本ロールミルで混練してペーストを作
った。
銀粉末は市販の還元粉を使用し、純度は88.8%、粒
度は1〜4ル膳であった。
度は1〜4ル膳であった。
銀と銅との複合粉末として銀粉90%と銅粉10%をボ
ールミル中で高速混合粉砕したメカニカルアロイ粉を使
用した。複合粉末の粒度は10ル履以下に分級したもの
を使用した。
ールミル中で高速混合粉砕したメカニカルアロイ粉を使
用した。複合粉末の粒度は10ル履以下に分級したもの
を使用した。
白金は市販の0.5〜0.8 gmの微粉末、および銀
と白金の割合が85:15の共沈粉末を5ル鵬以下に分
散して使用した。
と白金の割合が85:15の共沈粉末を5ル鵬以下に分
散して使用した。
パラジウムは市販の粒度0.8〜1.8p、txの微粉
末、および銀とパラジウムの重量比が7二3である共沈
粉末を5ル腸以下に分散したものを使用した。
末、および銀とパラジウムの重量比が7二3である共沈
粉末を5ル腸以下に分散したものを使用した。
酸化イアトリウムは平均粒径1.2用墓、純度999%
の市販品を使用した。
の市販品を使用した。
どヒクル成分はテルピネオールに対して12%のエチル
セルロース及びノニオン系界面活性剤2.5%を添加し
たものを用いた。
セルロース及びノニオン系界面活性剤2.5%を添加し
たものを用いた。
これらの金属粉末と酸化イツトリウムとビヒクルを表1
に示す配合条件で三本ロールミルを使用して充分混練し
、ペーストを得た。その時の粘度はBroakfiel
d粘度計HBTで、141!!スピンドルを使用して測
定したところ、200±50 Kcpsであった。
に示す配合条件で三本ロールミルを使用して充分混練し
、ペーストを得た。その時の粘度はBroakfiel
d粘度計HBTで、141!!スピンドルを使用して測
定したところ、200±50 Kcpsであった。
次に該ペーストを、ブチルカルピトールとテルピネオー
ルを1:lに混合した溶液をシンナーとして使用し、最
終粘度が約100cpsになるように調整してドラディ
ングに使用した。
ルを1:lに混合した溶液をシンナーとして使用し、最
終粘度が約100cpsになるように調整してドラディ
ングに使用した。
基板はブラックアルミナ(i]2%Al2O3、寸法3
1.7X 13X 2 a層)を使用し、キャビティー
の寸法は8.25X B、25X O,18mmであっ
た。
1.7X 13X 2 a層)を使用し、キャビティー
の寸法は8.25X B、25X O,18mmであっ
た。
アルミナ基板はトリクロレンで洗浄後使用した。このキ
ャビティー上に粘度調整された希釈ペーストをドラディ
ングにより滴下塗布した。
ャビティー上に粘度調整された希釈ペーストをドラディ
ングにより滴下塗布した。
ドラディング装置は層下エンジニアリング製のものを使
用した。該導電ペーストをドラディング後、レベリング
を1時間おこなった後120℃で20分間乾燥し、さら
にワトキンス・ジ、ンソン社製4MC型厚膜焼成炉によ
り、大気雰囲気中で焼成した。焼成条件は60分間プロ
ファイルでピーク温度910℃及び920℃で10分間
とした。
用した。該導電ペーストをドラディング後、レベリング
を1時間おこなった後120℃で20分間乾燥し、さら
にワトキンス・ジ、ンソン社製4MC型厚膜焼成炉によ
り、大気雰囲気中で焼成した。焼成条件は60分間プロ
ファイルでピーク温度910℃及び920℃で10分間
とした。
このようにして得られたペースト皮膜表面を観察し、表
面粗さを東京精密製表面粗さ計により測定した。サンプ
ルは各水準毎に50偏を使用した。
面粗さを東京精密製表面粗さ計により測定した。サンプ
ルは各水準毎に50偏を使用した。
さらに 2.5X 2.5鵬ロロ×25終鵬のAuプ
レフォームを使用し、ウェストボンド社製ダイアタッチ
921により450℃でシリコンチップを接着した。こ
のようにして得られたサーディツプICにつき特性試験
を実施した。これらの結果を表2に示す。
レフォームを使用し、ウェストボンド社製ダイアタッチ
921により450℃でシリコンチップを接着した。こ
のようにして得られたサーディツプICにつき特性試験
を実施した。これらの結果を表2に示す。
接着強度はダイアタッチ性とグイブツシュ試験で判定し
た。ダイアタッチ性とは接着時のスクライビングの特開
により判断し、表2中Q印は短時間に接着できたもので
ある。グイプッシュ試験は耐熱試験終了後のテストピー
スについてエンジニアド拳テクニカル・プロタクト社製
のバーチカルポンドテスターを使用して測定した0表2
中O印は20個全部のテストピースがグイ破壊を示した
場合、Δ印は20個のサンプルのうち1個でも膜剥離が
あった場合を示す、X印は20個のテストピース全部が
膜剥離をしたことを示している。
た。ダイアタッチ性とは接着時のスクライビングの特開
により判断し、表2中Q印は短時間に接着できたもので
ある。グイプッシュ試験は耐熱試験終了後のテストピー
スについてエンジニアド拳テクニカル・プロタクト社製
のバーチカルポンドテスターを使用して測定した0表2
中O印は20個全部のテストピースがグイ破壊を示した
場合、Δ印は20個のサンプルのうち1個でも膜剥離が
あった場合を示す、X印は20個のテストピース全部が
膜剥離をしたことを示している。
上記の耐熱試験は熱サイクルテストと熱衝撃テストを実
施した。試験条件は熱サイクルテストはにILL−ST
o 883B +010争2に基づきC0NDITIO
N Cでおこなった。熱衝撃テストは同じ< MIL
L−ST088381010 拳2 、 GOMDIT
IOIII Cでおこなった。
施した。試験条件は熱サイクルテストはにILL−ST
o 883B +010争2に基づきC0NDITIO
N Cでおこなった。熱衝撃テストは同じ< MIL
L−ST088381010 拳2 、 GOMDIT
IOIII Cでおこなった。
メタライズ焼成膜の垂直引張強度は、次の方法で行った
。まず、先端2.85m1+中の銅スタッドに10gm
の厚さで銀メッキしたものを金−けい素合金teJ (
2,2wmX 2.2票膳×50μml )をプレフォ
ームとして使用し、 450℃でスクライブさせながら
銀メンキスタンドを接着させた0次いで銀メツキスタッ
ドを引張速度16■l/分の一定速度で、今田製作所製
ブツシュ・プル・テスターにより垂直方向の引きながし
強度を測定した。
。まず、先端2.85m1+中の銅スタッドに10gm
の厚さで銀メッキしたものを金−けい素合金teJ (
2,2wmX 2.2票膳×50μml )をプレフォ
ームとして使用し、 450℃でスクライブさせながら
銀メンキスタンドを接着させた0次いで銀メツキスタッ
ドを引張速度16■l/分の一定速度で、今田製作所製
ブツシュ・プル・テスターにより垂直方向の引きながし
強度を測定した。
第2表の結果から明らかなように、本発明による銀と銅
との複合微粉末を使用した導電ペーストは、焼成後の表
面がきわめて滑らかであり、シリコンチップとメタライ
ズ焼成膜との接着力が強固であり、しかも熱履歴を受け
ても接1着力が劣化しないというきわめてすぐれた効果
を発揮している。
との複合微粉末を使用した導電ペーストは、焼成後の表
面がきわめて滑らかであり、シリコンチップとメタライ
ズ焼成膜との接着力が強固であり、しかも熱履歴を受け
ても接1着力が劣化しないというきわめてすぐれた効果
を発揮している。
白金粉末または銀白全複合粉末を使用した導電ペースト
は皮膜の焼き上がり状態が良く、接着強度が一段と向上
し熱履歴によっても接着強度が劣化しないことが判明し
た。
は皮膜の焼き上がり状態が良く、接着強度が一段と向上
し熱履歴によっても接着強度が劣化しないことが判明し
た。
本発明品のポンディング抵抗値は非常に低く、かつ経時
的に安定しており、かつポンディング特性も良いので、
アルミニウムワイヤーの使用が可能となることも、本発
明の大きな利点である。
的に安定しており、かつポンディング特性も良いので、
アルミニウムワイヤーの使用が可能となることも、本発
明の大きな利点である。
パラジウム粉末を単純混合した調整ペーストはパラジウ
ムの粒度を細かくしないと焼成後の皮膜状態が悪く、ダ
イアタッチ性も劣るが本発明による銀とパラジウムの混
合粉末を使用した場合は、これらの欠点が解消され、接
着強度が一段とすぐれたものとなる。
ムの粒度を細かくしないと焼成後の皮膜状態が悪く、ダ
イアタッチ性も劣るが本発明による銀とパラジウムの混
合粉末を使用した場合は、これらの欠点が解消され、接
着強度が一段とすぐれたものとなる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末を含みこれら金
属微粉末の合計が60〜90%(重量%、以下同じ)で
あり、かつ金属微粉末中の銅の含有量が0.1〜10%
であり、さらに酸化イットリウムを固形成分中に0.0
2〜2%含み残部がビヒクル成分よりなることを特徴と
する導電ペースト。 2)銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末と、銀と白金と
の複合微粉末または白金微粉末とを含み、これら金属微
粉末の合計が60〜90%であり、かつ金属微粉末中の
銅の含有量が0.1〜10%で白金の含有量が0.2〜
10%であり、さらに酸化イットリウムを固形成分中に
0.02〜2%含み、残部がビヒクル成分よりなること
を特徴とする導電ペースト。 3)銀微粉末と、銀と銅との複合微粉末と、銀とパラジ
ウムとの複合微粉末またはパラジウム微粉末を含み、こ
れら金属微粉末の合計が60〜90%であり、かつ金属
微粉末中の銅の含有量が0.1〜10%で、パラジウム
の含有量が0.2〜30%であり、さらに酸化イットリ
ウムを固形成分中に0.02〜2%含み、残部がビヒク
ル成分よりなることを特徴とする導電ペースト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20704284A JPS6185705A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 導電ペ−スト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20704284A JPS6185705A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 導電ペ−スト |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6185705A true JPS6185705A (ja) | 1986-05-01 |
| JPH0367281B2 JPH0367281B2 (ja) | 1991-10-22 |
Family
ID=16533242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20704284A Granted JPS6185705A (ja) | 1984-10-04 | 1984-10-04 | 導電ペ−スト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6185705A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381894A (ja) * | 1986-09-25 | 1988-04-12 | 田中貴金属工業株式会社 | セラミツクス回路基板の製造方法 |
| JPS63102103A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-07 | 昭和電工株式会社 | 導電ペ−スト |
-
1984
- 1984-10-04 JP JP20704284A patent/JPS6185705A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381894A (ja) * | 1986-09-25 | 1988-04-12 | 田中貴金属工業株式会社 | セラミツクス回路基板の製造方法 |
| JPS63102103A (ja) * | 1986-10-17 | 1988-05-07 | 昭和電工株式会社 | 導電ペ−スト |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0367281B2 (ja) | 1991-10-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6254206B2 (ja) | ||
| JP2602372B2 (ja) | メタライズされた構成要素をセラミツク基板にろう付けする方法 | |
| US5165986A (en) | Copper conductive composition for use on aluminum nitride substrate | |
| CN114334216B (zh) | 一种厚膜导体浆料 | |
| EP0009245A1 (en) | Gold conductor compositions, process for preparing the same, gold conductor metallization and process for preparing the same | |
| US4004057A (en) | Gold conductor compositions | |
| US4235944A (en) | Process for producing gold conductors | |
| US5766305A (en) | Metal powder composition for metallization and a metallized substrate | |
| JPS61248302A (ja) | 炭化ケイ素焼結体用メタライズペ−スト | |
| US3970590A (en) | Gold conductor compositions | |
| JP2822518B2 (ja) | 窒化アルミニウム焼結体への金属化層形成方法 | |
| US4963187A (en) | Metallizing paste for circuit board having low thermal expansion coefficient | |
| JPH0955118A (ja) | 導体ペーストおよびセラミック積層コンデンサ | |
| JPS6185705A (ja) | 導電ペ−スト | |
| GB2103250A (en) | Silver-filled glass | |
| TW202015073A (zh) | 用於氮化矽和其他基板的導電厚膜漿料 | |
| JPH05156303A (ja) | メタライズ用金属粉末組成物,それを用いたメタライズ基板及びメタライズ基板の製造方法 | |
| JPS6280907A (ja) | 導電ペ−スト | |
| JPS61245406A (ja) | 導電ペ−スト | |
| JPS6271110A (ja) | 導電ペ−スト | |
| JPH10233119A (ja) | 銅導体ペースト及び該銅導体ペーストを印刷した基板 | |
| CN115036056B (zh) | 一种高可焊性厚膜导体浆料 | |
| JPH0367283B2 (ja) | ||
| JPH0368487B2 (ja) | ||
| JPH0471107A (ja) | 導電ペースト |