JPS6186815A - 微小圧力制御装置 - Google Patents
微小圧力制御装置Info
- Publication number
- JPS6186815A JPS6186815A JP20815884A JP20815884A JPS6186815A JP S6186815 A JPS6186815 A JP S6186815A JP 20815884 A JP20815884 A JP 20815884A JP 20815884 A JP20815884 A JP 20815884A JP S6186815 A JPS6186815 A JP S6186815A
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- Japan
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- pressure
- pressure control
- control device
- micro
- gas
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D16/00—Control of fluid pressure
- G05D16/20—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
- G05D16/2006—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means
- G05D16/2013—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means
- G05D16/2026—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means with a plurality of throttling means
- G05D16/2033—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means with a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged in series
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
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- Automation & Control Theory (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Control Of Fluid Pressure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はウェハの温産制御する方法及装置に係り、導入
ガスの微小圧力制御装置に関するものである。
ガスの微小圧力制御装置に関するものである。
従来、ガス伝導によるウェハ温度側！ｉ！１７ ￥ｐ
貯では、ガスを可変弁へ導きガス留めへ送給し、圧力制
御装置をガス留め中の圧力を監視するためにガス留め上
の圧力変換器に接続し、かつ圧カフ制御するための可変
弁に接続してガス圧力の制御を行なっている（特開昭５
８−３２４１０号公報）。
貯では、ガスを可変弁へ導きガス留めへ送給し、圧力制
御装置をガス留め中の圧力を監視するためにガス留め上
の圧力変換器に接続し、かつ圧カフ制御するための可変
弁に接続してガス圧力の制御を行なっている（特開昭５
８−３２４１０号公報）。
しかし、導入ガス社がＩ ＳＣＣＭ程度のわずかな微小
流量の場合、従来の方法では、ガス圧力を一定に制御す
ることがむずかしく、流値を精度よく制御できないとい
う問題があった。
流量の場合、従来の方法では、ガス圧力を一定に制御す
ることがむずかしく、流値を精度よく制御できないとい
う問題があった。
本発明の目的は、ウェハ電極間に４入するガスの圧力を
一定化する微小圧力制御装置を提供することにある。
一定化する微小圧力制御装置を提供することにある。
基析ト基板支持台間のガスによる熱の伝達のために導入
するガスがわずかな場合、このような微小流量において
はガス圧力を一定に制御することが必要である。最終ガ
ス圧力ヲ１．５〜５Ｔｏｒｒに設定す７．Ｉには１段の
減圧ではむずかしいため。
するガスがわずかな場合、このような微小流量において
はガス圧力を一定に制御することが必要である。最終ガ
ス圧力ヲ１．５〜５Ｔｏｒｒに設定す７．Ｉには１段の
減圧ではむずかしいため。
絞り弁にまり流社ン制御しバッファ室を２個設け２段階
の減圧によって圧力を制御するものである。これにより
圧力の制御性を高めることができ微小圧力が設定できる
。
の減圧によって圧力を制御するものである。これにより
圧力の制御性を高めることができ微小圧力が設定できる
。
〔発明の実施例〕
本発明の一実施例を第１図の本発明による微小圧力制御
装置の模式図、第２図の第１図のタイミング千ヤードに
ついて説明する。
装置の模式図、第２図の第１図のタイミング千ヤードに
ついて説明する。
下記の構成の微小圧力制御装置により圧力制御されたガ
スは真空容器１内の下部電極２ウェハ４間に導入される
。ガス洪給源であるガスボンベ５．圧力調整弁６から送
り州されたガス（矢印）＆ｉ、絞り弁７ （Ｃ，）、空
気式開閉ノクルプ８ （ＡＨ） 、 ハｙ ７７？
、 ９ （Ｖｌ）、 ｕ’ｉスイ７＋１０（Ｖｓ）か
ら匝ろ第１の圧力制御機構部を経て直列に接続された絞
り弁１１（ＣｔＬ空気式開閉ハルフ１２ （Ａｚ）、
ハフ ７ ｙ室１３ （Ｖ２） 、 タイアフラム箕空
計１４（ＤＧ）から成る第２の圧力制御機構部Ｗ導かれ
る。
スは真空容器１内の下部電極２ウェハ４間に導入される
。ガス洪給源であるガスボンベ５．圧力調整弁６から送
り州されたガス（矢印）＆ｉ、絞り弁７ （Ｃ，）、空
気式開閉ノクルプ８ （ＡＨ） 、 ハｙ ７７？
、 ９ （Ｖｌ）、 ｕ’ｉスイ７＋１０（Ｖｓ）か
ら匝ろ第１の圧力制御機構部を経て直列に接続された絞
り弁１１（ＣｔＬ空気式開閉ハルフ１２ （Ａｚ）、
ハフ ７ ｙ室１３ （Ｖ２） 、 タイアフラム箕空
計１４（ＤＧ）から成る第２の圧力制御機構部Ｗ導かれ
る。
これら２つの圧力制御機構部で減圧されたガス圧力は、
真空スインチ１０．ダイアフラム真空計１４．で検出さ
れる。
真空スインチ１０．ダイアフラム真空計１４．で検出さ
れる。
ＩＩＪｍｆＨ７は、真空スイッチ１０及びダイアフラム
真室計１４に接続されているメータリレー１６からの出
力信号により、空気式開閉ノくルプＡ、及びＡＩをコン
トロールする。
真室計１４に接続されているメータリレー１６からの出
力信号により、空気式開閉ノくルプＡ、及びＡＩをコン
トロールする。
下部電極２と微小圧力制御装置の間には空気式開閉バル
ブ１Ｂ（Ａ４）が設ｒされ、ガスの送給、停止を行なう
。
ブ１Ｂ（Ａ４）が設ｒされ、ガスの送給、停止を行なう
。
以上の構成により本装置においての圧力設定は０〜９．
９９ Ｔｏｒｒ の範囲ンもつメータリレーの２接点を
可変させることで最終ガス圧力を年、意の圧力箭囲に設
定することができる。ここでは０５〜５ Ｔｏｒｒの圧
力を設定する場合を例に説明する。
９９ Ｔｏｒｒ の範囲ンもつメータリレーの２接点を
可変させることで最終ガス圧力を年、意の圧力箭囲に設
定することができる。ここでは０５〜５ Ｔｏｒｒの圧
力を設定する場合を例に説明する。
本微小圧力制御装置では、元圧（０，２ｋｇ／ｍ２）を
２段ＦＪＫ減圧する上でバクファ’Ｚ９（Ｖ＋）内ガス
圧力を５０Ｔｏｒｒ、バク７７室１３ｒ Ｖ、 ）内ガ
ス圧力をｏ、 ５〜３ Ｔｏｒｒ Ｖｒ前制御る。各Ｃ
，、Ｃ，は流」係％ Ｃｖ ＝ ０．００５ トフンダ
クタンスの小さな絞り弁である。
２段ＦＪＫ減圧する上でバクファ’Ｚ９（Ｖ＋）内ガス
圧力を５０Ｔｏｒｒ、バク７７室１３ｒ Ｖ、 ）内ガ
ス圧力をｏ、 ５〜３ Ｔｏｒｒ Ｖｒ前制御る。各Ｃ
，、Ｃ，は流」係％ Ｃｖ ＝ ０．００５ トフンダ
クタンスの小さな絞り弁である。
この時のガス圧力制御における各バルブ、真空スイッチ
、メータリレーのタイミングを第２図に示ス。バッファ
室９（Ｖ、）内のガス圧力真空スイッチ１０により検知
し、この圧力が降下すルト頁空スイ７チ１０がＯＮＬ、
これン受は制御部１７は圧力を上昇させるため空気式開
閉バルブ６乞開く。
、メータリレーのタイミングを第２図に示ス。バッファ
室９（Ｖ、）内のガス圧力真空スイッチ１０により検知
し、この圧力が降下すルト頁空スイ７チ１０がＯＮＬ、
これン受は制御部１７は圧力を上昇させるため空気式開
閉バルブ６乞開く。
バッファ室１３内のガス圧力を検出するダイアフラム喜
空計１４と接続しているガス圧力範凹設定用としてＬｏ
ｗ −Ｈｉ ｇｈ ｔの２接点出力を有する供給ガス圧
力が不足してくると空気式開閉ノ・シブ１２ｉ開きガス
を供給しバッファ室１３の圧力？高める。除々に圧力が
上昇しＨ−ＯＮになるとスの圧力変動ン抑えパンツＴ室
９．１３内の圧力を常に一定圧力にすることで較終段の
圧力を一定化することができる。
空計１４と接続しているガス圧力範凹設定用としてＬｏ
ｗ −Ｈｉ ｇｈ ｔの２接点出力を有する供給ガス圧
力が不足してくると空気式開閉ノ・シブ１２ｉ開きガス
を供給しバッファ室１３の圧力？高める。除々に圧力が
上昇しＨ−ＯＮになるとスの圧力変動ン抑えパンツＴ室
９．１３内の圧力を常に一定圧力にすることで較終段の
圧力を一定化することができる。
バフ７ア室９とバッファ室１３の開のＦＥ圧力は５ｏＴ
ｏｒｒ 程であるため元圧との圧力差約１０００’ｆｏ
ｒｒ Ｋ比べ１／２０ となっている。
ｏｒｒ 程であるため元圧との圧力差約１０００’ｆｏ
ｒｒ Ｋ比べ１／２０ となっている。
そのため流Ｍの１ｔｉＩＪａｌ性は２０倍向上しバッフ
ァ室１３の圧力Ｙ高精度して設定でき、ｌＳＣＣｍ以下
の微少流ｔの場合でも安定した圧力を得ることができる
。
ァ室１３の圧力Ｙ高精度して設定でき、ｌＳＣＣｍ以下
の微少流ｔの場合でも安定した圧力を得ることができる
。
Ｃ発明の効果〕
本発明を適用すると、ウェハ電極間に導入するガスの圧
力を安定に供給することができるので、ウェハの温度が
安定化でプロセス処理の再現性がよくなる。
力を安定に供給することができるので、ウェハの温度が
安定化でプロセス処理の再現性がよくなる。
これによりデバイス製品歩留りを向上できる。
第１図は本発明による微小圧力制？ｊｊＪ装置の模式図
、第２図は第１図のタイミングチャート。 ７．１１・・絞り手段、 ８．１２．１８・・・空気式開閉パルプ。 ９．１３・・・ハンフ７ Ｎ％ １０・・・真空スイ
ッチ、１４・・・ダイヤフラム真空計、 １６・・メータリレー、 １７・・・制御部。
、第２図は第１図のタイミングチャート。 ７．１１・・絞り手段、 ８．１２．１８・・・空気式開閉パルプ。 ９．１３・・・ハンフ７ Ｎ％ １０・・・真空スイ
ッチ、１４・・・ダイヤフラム真空計、 １６・・メータリレー、 １７・・・制御部。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空室とガス供給源とを管路によって接続すると共
に、前記管路中に第１段の減圧のためのバッファ室を備
えた第１の圧力制御機構部と、第２段の減圧のためのバ
ッファ室を備えた第２の圧力制御機構部とを直列に設け
たことを特徴とする微小圧力制御装置。 ２、前記第１、第２の圧力制御機構部は、絞り手段開閉
バルブ、バッファ室、被圧力制御流体の圧力を検出する
圧力検出部より構成されることを特徴とする特許請求範
囲第１項の微小圧力制御装置。 ３、被圧力制御流体の圧力設定は、前記第２の圧力制御
機構部の圧力検出部からの出力信号によって所望の２つ
の接点信号を出力する出力手段をもって、第２、第１の
圧力制御機構部の開閉バルブを逐次開閉駆動する制御部
によってなされることを特徴とする特許請求範囲第１項
の微小圧力制御装置。 ４、所望の設定圧力に制御された被圧力制御流体は、前
記制御部からの信号によって微小圧力制御装置の系外に
設けられた管路上の開閉バルブを通し、真空室に供給さ
れることを特徴とする特許請求範囲第１項の微小圧力制
御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20815884A JPS6186815A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 微小圧力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20815884A JPS6186815A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 微小圧力制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6186815A true JPS6186815A (ja) | 1986-05-02 |
Family
ID=16551610
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20815884A Pending JPS6186815A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 微小圧力制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6186815A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006237532A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| JP2010537796A (ja) * | 2007-05-11 | 2010-12-09 | エスディーシー マテリアルズ インコーポレイテッド | ガス供給システム及びガス供給方法 |
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-
1984
- 1984-10-05 JP JP20815884A patent/JPS6186815A/ja active Pending
Cited By (44)
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