JPS6186929A - 煙道ガスの脱硫方法 - Google Patents
煙道ガスの脱硫方法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/46—Removing components of defined structure
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は湿った活性炭上４５乃至７０℃の温度で、二酸
化硫黄を接触酸化して６乃至２０％の希硫酸を生成させ
ることによるＳ０２ （およびハロゲン化水素）−含有
煙道ガスの脱硫方法に関するものである。
化硫黄を接触酸化して６乃至２０％の希硫酸を生成させ
ることによるＳ０２ （およびハロゲン化水素）−含有
煙道ガスの脱硫方法に関するものである。
煙道ガス、特に発電所の石炭および重質燃料油の流れで
製造される大量の煙道ガスの脱硫は緊急の必要事でろ°
る。従来知られている方法は装置にかなシの経費を必要
とする。大多数の方法はＣα−化合物、特に磨砕石灰石
と反応させて石膏を製造することを基礎としている。こ
の最終生成物は、かなシの水分を含有しているので、貯
蔵、脱水および投棄場所、または使用者への輸送にかな
りの経費を必要とするので、最小限の量にしても全経費
を目立って減らすことにはならない（西ドイツ公開明細
書簡２，４３０，９０９号、第２，８１１，６４６号）
。
製造される大量の煙道ガスの脱硫は緊急の必要事でろ°
る。従来知られている方法は装置にかなシの経費を必要
とする。大多数の方法はＣα−化合物、特に磨砕石灰石
と反応させて石膏を製造することを基礎としている。こ
の最終生成物は、かなシの水分を含有しているので、貯
蔵、脱水および投棄場所、または使用者への輸送にかな
りの経費を必要とするので、最小限の量にしても全経費
を目立って減らすことにはならない（西ドイツ公開明細
書簡２，４３０，９０９号、第２，８１１，６４６号）
。
特に高活性の炭素触媒上で水の存在下に二酸化硫黄を酸
化して硫酸を製造することにより工程ガスを脱硫するこ
とも公知である。１サルフアシト法（５ｕｌｐｈａｃｔ
ｄ ｐｒｏｃｅｓｓ ）”として知られる。この方法
は一般に５乃至２０％の硫酸を製造する。このような希
硫酸は可能な用途がなく、固定床反応器に導入する５Ｏ
２−含有ガスはダス、ト含量が２０１Ｎ！／ゴ以下であ
ることが必要であるので、従来、この方法は上記の煙道
ガス脱硫方法に置き換わり得るものとは考えられていな
かった。
化して硫酸を製造することにより工程ガスを脱硫するこ
とも公知である。１サルフアシト法（５ｕｌｐｈａｃｔ
ｄ ｐｒｏｃｅｓｓ ）”として知られる。この方法
は一般に５乃至２０％の硫酸を製造する。このような希
硫酸は可能な用途がなく、固定床反応器に導入する５Ｏ
２−含有ガスはダス、ト含量が２０１Ｎ！／ゴ以下であ
ることが必要であるので、従来、この方法は上記の煙道
ガス脱硫方法に置き換わり得るものとは考えられていな
かった。
しかし、比較的大蓋のＨＣＩおよびＨＦを含有する煙道
ガスを脱硫する公知の方法はない。
ガスを脱硫する公知の方法はない。
本発明の１つの目標は簡単な装置を用いる経済的な操作
信頼性のめる煙道ガス脱硫法で公知の方法の欠点を持た
ないものを提供することにある。
信頼性のめる煙道ガス脱硫法で公知の方法の欠点を持た
ないものを提供することにある。
この目標は、発電所から排出された５Ｏ１−含有煙道ガ
スを活性炭と接触しての酸化に先立って５０乃至８５％
の硫酸を用いる第１洗浄（Ｉ）と５乃至２５％の硫酸を
用いる第２洗浄（１）とにを接触的に酸化して３乃至２
０％の希硫酸を生成させるｓＯ＊ （およびハロダン
化水素）−含有煙道ガスの脱硫方法において、上記希硫
酸を脱硫すべき熱煙道ガスとの接触により蒸発させて６
０乃至８５％の濃度の硫酸とし、希硫酸に溶解している
塩化水素およびフッ化水素を蒸発により除去することを
特徴とするものを提供するものである。
スを活性炭と接触しての酸化に先立って５０乃至８５％
の硫酸を用いる第１洗浄（Ｉ）と５乃至２５％の硫酸を
用いる第２洗浄（１）とにを接触的に酸化して３乃至２
０％の希硫酸を生成させるｓＯ＊ （およびハロダン
化水素）−含有煙道ガスの脱硫方法において、上記希硫
酸を脱硫すべき熱煙道ガスとの接触により蒸発させて６
０乃至８５％の濃度の硫酸とし、希硫酸に溶解している
塩化水素およびフッ化水素を蒸発により除去することを
特徴とするものを提供するものである。
本発明記載の方法の具体例の中では、脱硫すべき煙道ガ
スが少なくとも１２０℃の温度を有するものが特に有利
である。硫黄濃度が６０乃至８５・％に上昇すると、同
時に煙道ガスが９０乃至１１０℃に冷却される。
スが少なくとも１２０℃の温度を有するものが特に有利
である。硫黄濃度が６０乃至８５・％に上昇すると、同
時に煙道ガスが９０乃至１１０℃に冷却される。
５乃至２５％の硫酸を用いる第２洗浄（ｎ）は、これに
続いて行なわれ、この際ＨＣＩおよびＨＦは酸に吸収さ
れる。これにより、活性炭上でのＳＯ，の接触反応に対
する消極的な影響を防止する。４５乃至７０℃の温度で
実質上ダストを含まない煙道ガスは、３乃至２０％の硫
酸が流出するのに十分な量の水が連続的にまたは断続的
にスプレィされている活性炭層を通過させる。ガスの流
れは下から上向きでも逆向きでも炭素層を通過させるこ
とができる。
続いて行なわれ、この際ＨＣＩおよびＨＦは酸に吸収さ
れる。これにより、活性炭上でのＳＯ，の接触反応に対
する消極的な影響を防止する。４５乃至７０℃の温度で
実質上ダストを含まない煙道ガスは、３乃至２０％の硫
酸が流出するのに十分な量の水が連続的にまたは断続的
にスプレィされている活性炭層を通過させる。ガスの流
れは下から上向きでも逆向きでも炭素層を通過させるこ
とができる。
したがって、本発明は、平行流または対向流洗浄話中で
２段階で蒸発を実行する方法に関するものである。
２段階で蒸発を実行する方法に関するものである。
活性炭層を通過する際に煙道ガスは水蒸気で飽和し、４
５乃至５５℃の温度に冷却される。煙道ガスが活性炭層
に入る前に、好ましくは洗浄（１）の後で、水蒸気、た
とえば種々の工程の排出蒸気として作られたものをこの
煙道ガスに導入すれば、この冷却は避けられる。
５乃至５５℃の温度に冷却される。煙道ガスが活性炭層
に入る前に、好ましくは洗浄（１）の後で、水蒸気、た
とえば種々の工程の排出蒸気として作られたものをこの
煙道ガスに導入すれば、この冷却は避けられる。
脱硫中に活性炭反応器で生成する３乃至２０％の硫酸は
実質上無価値である。この酸は、本発明の記載に従かい
洗浄（ｎ）の硫酸回路を紅白して洗浄（１）の硫酸回路
に供給さも易蒸発による冷却で、十分な量の水を煙道ガ
スに運んで、６０乃至８５％硫酸が排出される。この酸
はそのまま、たとえば肥料工業で使用することもでき、
また比較的にわずかな経費で、公知の方法により蒸発さ
せて８０乃至９３％のＨ，ＳＯ，含有量にすることもで
きる。
実質上無価値である。この酸は、本発明の記載に従かい
洗浄（ｎ）の硫酸回路を紅白して洗浄（１）の硫酸回路
に供給さも易蒸発による冷却で、十分な量の水を煙道ガ
スに運んで、６０乃至８５％硫酸が排出される。この酸
はそのまま、たとえば肥料工業で使用することもでき、
また比較的にわずかな経費で、公知の方法により蒸発さ
せて８０乃至９３％のＨ，ＳＯ，含有量にすることもで
きる。
９０乃至１１０℃の温度ではＨＣｌおよびＨＦの５０乃
至８５％の硫酸への溶解度が低いので、煙道ガス中に小
量含有されているこれらの化合物器に入シ、反応器から
出たＨＣｌ−およびＨＦ−含有酸が洗浄＋１）に直接流
通するならば活性炭触媒を汚染する。これは５０乃至７
０℃の温度で、５乃至２５％硫酸を用いる煙道ガスの第
２洗浄よびＨＦが５乃至２５％硫酸に吸収されて煙道ガ
スから実質的に除去され、かつ、煙道ガスの含有する熱
が酸の蒸発に用いられて放出され、煙道ガスが９０乃至
１１０℃から４５乃至７０℃に冷却されることにある。
至８５％の硫酸への溶解度が低いので、煙道ガス中に小
量含有されているこれらの化合物器に入シ、反応器から
出たＨＣｌ−およびＨＦ−含有酸が洗浄＋１）に直接流
通するならば活性炭触媒を汚染する。これは５０乃至７
０℃の温度で、５乃至２５％硫酸を用いる煙道ガスの第
２洗浄よびＨＦが５乃至２５％硫酸に吸収されて煙道ガ
スから実質的に除去され、かつ、煙道ガスの含有する熱
が酸の蒸発に用いられて放出され、煙道ガスが９０乃至
１１０℃から４５乃至７０℃に冷却されることにある。
このＨＣＩとＨＦとは、洗浄（Ｉｔ）から出たＨＣｌ−
およびＨＦ−含有５乃至２５％硫酸を十分の量の、洗浄
（Ｉ）からの６０乃至８５％硫酸と混合して４０乃至７
０％硫酸とする際に洗浄回路（ｎ）の洗浄酸から放出さ
れる。ＨＣｌ、ＨＦおよび若干量の水が空気または煙道
ガスを用いるストリッピングにより、または減圧により
、この硫酸から蒸発する。この蒸気は間接または直接冷
却により凝縮させることができる。
およびＨＦ−含有５乃至２５％硫酸を十分の量の、洗浄
（Ｉ）からの６０乃至８５％硫酸と混合して４０乃至７
０％硫酸とする際に洗浄回路（ｎ）の洗浄酸から放出さ
れる。ＨＣｌ、ＨＦおよび若干量の水が空気または煙道
ガスを用いるストリッピングにより、または減圧により
、この硫酸から蒸発する。この蒸気は間接または直接冷
却により凝縮させることができる。
本発明記載の方法の１つの好ましい具体例において、塩
化水素およびフッ化水素は第２段階洗浄からの希硫酸と
第１段階洗浄からの濃硫酸との混合物で４０乃至７０％
Ｈ２５０，温度を有するものから、真壁蒸発により除去
される。
化水素およびフッ化水素は第２段階洗浄からの希硫酸と
第１段階洗浄からの濃硫酸との混合物で４０乃至７０％
Ｈ２５０，温度を有するものから、真壁蒸発により除去
される。
しかし、第２段階洗浄からの希硫酸と第１段階洗浄から
の濃硫酸との混合物で４０乃至７０％のＨ，５０４５度
を有するものから、空気または煙道ガスを用いるストリ
ッピングにより塩化水素およびフッ化水素を除去し、つ
づいて水を用いてこのハロダン化水素をガスから洗浄除
去する具体例も同様に有利である。
の濃硫酸との混合物で４０乃至７０％のＨ，５０４５度
を有するものから、空気または煙道ガスを用いるストリ
ッピングにより塩化水素およびフッ化水素を除去し、つ
づいて水を用いてこのハロダン化水素をガスから洗浄除
去する具体例も同様に有利である。
蒸気は直接冷即により凝縮させ、冷却水で洗浄すること
ができ、これが有利である。
ができ、これが有利である。
本発明記載の方法はフローシートを表わす図面によって
説明される。この図面は、煙道ガスを同冷却し、この間
に、ＥｌｃｔおよびＨＦを煙道ガスから除去すると同時
に硫酸を濃縮しダストを除去するガス洗浄器（ｎ ）
（３）、二酸化硫黄を酸素および水と接触反応させて硫
酸を製造する活性炭反応器（５）および硫酸からＨＣＬ
およびＨＦを除去する付加的装置（７，８）よシなる、
純粋な気体としてのＳＯ２含有量が４００η／ ｙ？３
以下である煙道ガスの全流通量の脱硫する煙道ガス脱硫
装置を示す。煙道ガス（１０）は送風機（９）によって
洗浄器（１）を通過し、この洗浄器（１１中で煙道ガス
は５０乃至８５％のｔｉＦＩ３１２と接触して９０乃至
１１０℃の温度に冷却される。
説明される。この図面は、煙道ガスを同冷却し、この間
に、ＥｌｃｔおよびＨＦを煙道ガスから除去すると同時
に硫酸を濃縮しダストを除去するガス洗浄器（ｎ ）
（３）、二酸化硫黄を酸素および水と接触反応させて硫
酸を製造する活性炭反応器（５）および硫酸からＨＣＬ
およびＨＦを除去する付加的装置（７，８）よシなる、
純粋な気体としてのＳＯ２含有量が４００η／ ｙ？３
以下である煙道ガスの全流通量の脱硫する煙道ガス脱硫
装置を示す。煙道ガス（１０）は送風機（９）によって
洗浄器（１）を通過し、この洗浄器（１１中で煙道ガス
は５０乃至８５％のｔｉＦＩ３１２と接触して９０乃至
１１０℃の温度に冷却される。
洗浄器（１）から出たガス（１１）は洗浄器（３）中で
５乃至２５％の硫酸と接触する。このガスはここで５０
乃至７０℃に冷却され、大部分のＨＣＩおよびＨＦが硫
酸に吸収される。水蒸気でほとんど飽和した、実質上ダ
ストを含まない煙道ガス（１２）は反応器（５）に入シ
、湿った活性炭層（６）を通過し、ここで、二酸化硫黄
、酸素および水から硫ノが生成する。
５乃至２５％の硫酸と接触する。このガスはここで５０
乃至７０℃に冷却され、大部分のＨＣＩおよびＨＦが硫
酸に吸収される。水蒸気でほとんど飽和した、実質上ダ
ストを含まない煙道ガス（１２）は反応器（５）に入シ
、湿った活性炭層（６）を通過し、ここで、二酸化硫黄
、酸素および水から硫ノが生成する。
反応器（５）から出た純粋なガス（１６）は直接に、ま
たは熱煙道ガスもしくは粗ガスの部分流により加熱した
のち、または熱交換器で間接的に加熱したのち大気中に
放出する。
たは熱煙道ガスもしくは粗ガスの部分流により加熱した
のち、または熱交換器で間接的に加熱したのち大気中に
放出する。
反応器（５）の活性炭層（６）で生成した硫酸は、活性
炭層（６）に連続的に、または断続的に水（２７）をス
プレーすることにより６乃至２０％の硫酸（１４）とし
て洗浄（ｎ）の酸回路（１５）に供給する。５乃至２５
％の硫酸（１５）が洗浄（ＩＩ）中にポンプ（４）によ
り洗浄器（３）の液だまりから引き出され、主要部（１
６）は洗浄器の塔頂に運ばれる。上記硫酸流（１４）か
ら洗浄器（３）で蒸発した水の量を差し引いたものに相
当する部分流（１７）は、６０乃至７５％の硫酸（１８
）と合して、４０乃至６５％の硫酸（１９）として真窒
蒸発器に供給される。ＨＣｔ、ＨＦおよび少量の水はこ
こで蒸発する。この蒸気（２１）は噴出凝縮器（１ｎｊ
ｅｃｔｉｏｎ ｃｏｎｄｅｎｓｅｒ）（８）甲で冷却
水（２２）により凝縮して、わずかに酸性の廃水（２５
）として排出される。・ＨＣｌおよびＨＦを含まない硫
酸（２０）は洗浄（１）の酸回路に供給される。この洗
浄部で組ガスが５０乃至７５％の硫酸（２５）により洗
浄される。この酸から若干量の水が蒸発したのち、５０
乃至７５％の硫酸（２４）が洗浄器ｆｌ）の液だまりか
ら循環ポンプ（２）により引き出される。生成物として
得られた６０乃至７５％の硫酸（２６）は間接冷却によ
り９０乃至１１０℃に冷却することもでき、また、さら
に蒸発操作に移行してもよい。
炭層（６）に連続的に、または断続的に水（２７）をス
プレーすることにより６乃至２０％の硫酸（１４）とし
て洗浄（ｎ）の酸回路（１５）に供給する。５乃至２５
％の硫酸（１５）が洗浄（ＩＩ）中にポンプ（４）によ
り洗浄器（３）の液だまりから引き出され、主要部（１
６）は洗浄器の塔頂に運ばれる。上記硫酸流（１４）か
ら洗浄器（３）で蒸発した水の量を差し引いたものに相
当する部分流（１７）は、６０乃至７５％の硫酸（１８
）と合して、４０乃至６５％の硫酸（１９）として真窒
蒸発器に供給される。ＨＣｔ、ＨＦおよび少量の水はこ
こで蒸発する。この蒸気（２１）は噴出凝縮器（１ｎｊ
ｅｃｔｉｏｎ ｃｏｎｄｅｎｓｅｒ）（８）甲で冷却
水（２２）により凝縮して、わずかに酸性の廃水（２５
）として排出される。・ＨＣｌおよびＨＦを含まない硫
酸（２０）は洗浄（１）の酸回路に供給される。この洗
浄部で組ガスが５０乃至７５％の硫酸（２５）により洗
浄される。この酸から若干量の水が蒸発したのち、５０
乃至７５％の硫酸（２４）が洗浄器ｆｌ）の液だまりか
ら循環ポンプ（２）により引き出される。生成物として
得られた６０乃至７５％の硫酸（２６）は間接冷却によ
り９０乃至１１０℃に冷却することもでき、また、さら
に蒸発操作に移行してもよい。
他の選択として、図面に示したソエット式洗浄器ではな
く、洗浄カラム、ベンチュリー洗浄器、または同様に好
適な装置で、煙道ガスとともに、供給された硫酸とめ平
行流として、または対向流として、ガス洗浄および酸の
蒸発を行なうこともできる。ＨＣｌおよびＨＦは真空蒸
発器（７）のかわりに、酸（１９）を空気または煙道ガ
スによるストリッピングで除去することもできる。
く、洗浄カラム、ベンチュリー洗浄器、または同様に好
適な装置で、煙道ガスとともに、供給された硫酸とめ平
行流として、または対向流として、ガス洗浄および酸の
蒸発を行なうこともできる。ＨＣｌおよびＨＦは真空蒸
発器（７）のかわりに、酸（１９）を空気または煙道ガ
スによるストリッピングで除去することもできる。
ここでＨＣｌおよびＥＦを伴なった空気または煙道ガス
はつづいて、ガス洗浄話中で水を用いて精製しなければ
ならない。排出蒸気（２１）からの酸に可能な用途があ
るならば、これを間接冷却する。
はつづいて、ガス洗浄話中で水を用いて精製しなければ
ならない。排出蒸気（２１）からの酸に可能な用途があ
るならば、これを間接冷却する。
本発明記載の方法は下記実施例中でよシ詳細に説明され
るが、これは本発明の範囲を限定するものではない。
るが、これは本発明の範囲を限定するものではない。
実施例
本実施列は図面に記載された煙道ガス脱硫に関するもの
である。７．１５体積％のＨ，０，＜６体積％の０．．
５．６１１／ｒｒｒ’ｎの５０２．０．２．９／ｉｎの
ＨＣＩおよび６０η／ ｎｌ ｎのダストを含有する２
１ ｃＪ、０００ｒｎ’ｎ／ｈの煙道ガス（１０）を
１６０℃の温度で洗浄器（１）に供給する。６９％の硫
酸（２５）と接触させるとこの酸から３．０６ｔ／ｈの
Ｈ，０が蒸発する。煙道ガス（１１）を１００００の温
度で、洗浄器（１）から洗浄器（３）に流入させ、そこ
で１＆９％の硫酸（１６）で洗浄する。５５℃の温度で
洗浄器（３）から出た煙道ガス（１２）は１１．７５体
積％のＨ，０、６，３１／ｌｒ？ｓの３ 、Ｑ 、、１
０■／ｎ？ｎ以下のダストおよび痕跡量のＨＣＩを含有
する。反応器（５）中の活性炭固定床（６）を流通する
と、煙道ガスのＳＯ２含量は硫酸への接触酸化により３
．５１１／ｒｒ？ｎから純粋ガス（１６）中の値、３５
０乃至４００■／ ｎｌ ｎに減少する。
である。７．１５体積％のＨ，０，＜６体積％の０．．
５．６１１／ｒｒｒ’ｎの５０２．０．２．９／ｉｎの
ＨＣＩおよび６０η／ ｎｌ ｎのダストを含有する２
１ ｃＪ、０００ｒｎ’ｎ／ｈの煙道ガス（１０）を
１６０℃の温度で洗浄器（１）に供給する。６９％の硫
酸（２５）と接触させるとこの酸から３．０６ｔ／ｈの
Ｈ，０が蒸発する。煙道ガス（１１）を１００００の温
度で、洗浄器（１）から洗浄器（３）に流入させ、そこ
で１＆９％の硫酸（１６）で洗浄する。５５℃の温度で
洗浄器（３）から出た煙道ガス（１２）は１１．７５体
積％のＨ，０、６，３１／ｌｒ？ｓの３ 、Ｑ 、、１
０■／ｎ？ｎ以下のダストおよび痕跡量のＨＣＩを含有
する。反応器（５）中の活性炭固定床（６）を流通する
と、煙道ガスのＳＯ２含量は硫酸への接触酸化により３
．５１１／ｒｒ？ｎから純粋ガス（１６）中の値、３５
０乃至４００■／ ｎｌ ｎに減少する。
反応器（５）中で生成した硫酸は活性炭層に９７５ｎ？
／ｈの水（２７）を周期的にスプレィすることによりａ
４享％硫酸（１４）として洗い出される。
／ｈの水（２７）を周期的にスプレィすることによりａ
４享％硫酸（１４）として洗い出される。
この硫酸は洗浄器（３）の酸回路に供給される。金傘洗
浄器（３）中でこの硫酸 から５．７５ｔ／ｈのＨ，０が蒸発する。酸回路（１７
）中の０．８４％のＨＣＩをも含有する４、６３ｔ／Ｍ
Ｌ（ｉり１ａ９％＋７）酸を７．１５ｔ／ｈ（７：）洗
浄器（１）からの７０％硫酸（１８）と混合し、８００
Ｃの５０％硫酸（１９）として真空蒸発器（７）に供給
する。６９ゆ／ｈのＨＣＩと２８６に９／ｈのＨ２Ｏ（
２１）を、この酸を５５℃に冷却して、５０ミリバール
の減圧下で蒸発させ、この蒸気を凝縮気（８）甲で１８
ｎ？／ｈの冷却水（２２）と直接接触させて凝縮させる
。非凝縮性気体は真壁ポングにより凝縮器（８）から排
出される。
浄器（３）中でこの硫酸 から５．７５ｔ／ｈのＨ，０が蒸発する。酸回路（１７
）中の０．８４％のＨＣＩをも含有する４、６３ｔ／Ｍ
Ｌ（ｉり１ａ９％＋７）酸を７．１５ｔ／ｈ（７：）洗
浄器（１）からの７０％硫酸（１８）と混合し、８００
Ｃの５０％硫酸（１９）として真空蒸発器（７）に供給
する。６９ゆ／ｈのＨＣＩと２８６に９／ｈのＨ２Ｏ（
２１）を、この酸を５５℃に冷却して、５０ミリバール
の減圧下で蒸発させ、この蒸気を凝縮気（８）甲で１８
ｎ？／ｈの冷却水（２２）と直接接触させて凝縮させる
。非凝縮性気体は真壁ポングにより凝縮器（８）から排
出される。
真空蒸発器（７）からのＭＣＩを含まない５１％硫酸（
２０）は洗浄（１）の酸回路に供給される。
２０）は洗浄（１）の酸回路に供給される。
１００℃の温度で洗浄（Ｉ）から’１．２４ｔ／ｈの７
０％硫１１（２６）が生成物として得られる。
０％硫１１（２６）が生成物として得られる。
明細書および実ゲＩ８例を示したが、本発明を限定する
ものではなく、また、本発明の精゛４申および右回の内
で他の具体例が当業者に自ずから示唆されるものである
と理解すべきである。
ものではなく、また、本発明の精゛４申および右回の内
で他の具体例が当業者に自ずから示唆されるものである
と理解すべきである。
第１図は本発明記載の方法のフローシートを示すもので
ある。
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、二酸化硫黄を湿った活性炭上で、４５乃至７０℃の
温度で接触的に酸化して、３乃至２０％の希硫酸とする
ことによりＳＯ＿２およびハロゲン化水素含有煙道ガス
を脱流する方法において、その希硫酸を脱硫すべき熱煙
道ガスと接触させて水を蒸発させ、６０乃至８５％の濃
度の硫酸を生成させ、かつ、希硫酸に溶解していた塩化
水素およびフッ化水素を蒸発により除去することを特徴
とするＳＯ＿２およびハロゲン化水素−含有煙道ガスの
脱硫方法。 ２、脱硫すべき煙道ガスが１２０℃の最低温度を有する
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、蒸発を２段の洗浄段階で行なう特許請求の範囲第１
項記載の方法。 ４、第２洗浄段階からの希硫酸と第１洗浄段階からの濃
硫酸との混合物から真空蒸発により塩化水素とフッ化水
素とを除去し、この際、上記混合物が４０乃至７０％の
Ｈ＿２ＳＯ＿４濃度を有する特許請求の範囲第３項記載
の方法。 ５、第２洗浄段階からの希硫酸と第１洗浄段階からの濃
硫酸との混合物であって４０乃至７０％のＨ＿２ＳＯ＿
４濃度を有するものから空気または煙道ガスによるスト
リッピングにより塩化水素およびフッ化水素を除去し、
つづいて、これらのハロゲン化水素を含水気体により洗
浄除去する特許請求の範囲第３項記載の方法。 ６、第１洗浄段階の後に、煙道ガス中に水蒸気を導入す
る特許請求の範囲第３項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19843435931 DE3435931A1 (de) | 1984-09-29 | 1984-09-29 | Verfahren zur entschwefelung von rauchgasen |
| DE3435931.1 | 1984-09-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6186929A true JPS6186929A (ja) | 1986-05-02 |
| JPS6254531B2 JPS6254531B2 (ja) | 1987-11-16 |
Family
ID=6246778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60213635A Granted JPS6186929A (ja) | 1984-09-29 | 1985-09-27 | 煙道ガスの脱硫方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4670235A (ja) |
| EP (1) | EP0177806B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6186929A (ja) |
| AT (1) | ATE40051T1 (ja) |
| CA (1) | CA1245831A (ja) |
| DE (2) | DE3435931A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6369522A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-29 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 排気ガスの精製方法 |
| US6337030B1 (en) | 1997-02-04 | 2002-01-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer processing apparatus, wafer processing method, and SOI wafer fabrication method |
| US6391067B2 (en) | 1997-02-04 | 2002-05-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer processing apparatus and method, wafer convey robot, semiconductor substrate fabrication method, and semiconductor fabrication apparatus |
| US6814948B1 (en) | 1995-06-28 | 2004-11-09 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust gas treating systems |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3629766A1 (de) * | 1986-09-02 | 1988-03-17 | Bayer Ag | Verfahren zur reinigung und wiederaufheizung von abgasen |
| DE3819417A1 (de) * | 1988-06-07 | 1989-12-14 | Utab Ges Fuer Umwelttechnische | Verfahren und vorrichtung zur reinigung von schwefeldioxidhaltigen rauchgasen |
| DE3835934A1 (de) * | 1988-10-21 | 1990-04-26 | Bayer Ag | Verfahren zur entfernung von schwefeldioxid und chlorwasserstoff aus heissen gasen |
| DE3930991A1 (de) * | 1989-09-16 | 1991-03-28 | Bayer Ag | Verfahren zum herstellen von titandioxid |
| CN1086305C (zh) * | 1997-10-28 | 2002-06-19 | 四川联合大学 | 脱除与回收废气中二氧化硫的方法 |
| JP4967829B2 (ja) † | 2007-06-04 | 2012-07-04 | 株式会社ジェイテクト | 電動パワーステアリング装置 |
| WO2014075718A1 (de) * | 2012-11-14 | 2014-05-22 | Mecs, Inc. | Zweistufige umsetzung von schwefeldioxid zu schwefelsäure in feuchten gasen |
| CN104607034A (zh) * | 2014-12-18 | 2015-05-13 | 北京矿冶研究总院 | 一种用于活性炭烟气脱硫并生产稀硫酸的装置及其方法 |
| CN113731101B (zh) * | 2020-05-28 | 2023-06-23 | 中冶长天国际工程有限责任公司 | 一种基于活性炭分离解析的垃圾焚烧烟气处理系统及烟气处理方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US940595A (en) * | 1906-02-10 | 1909-11-16 | Gen Chemical Corp | Purification of burner-gases. |
| US1764593A (en) * | 1927-02-05 | 1930-06-17 | Gen Chemical Corp | Method of generating hydrochloric-acid gas |
| NL135676C (ja) * | 1960-10-17 | |||
| JPS5023383B1 (ja) * | 1970-07-29 | 1975-08-07 | ||
| BE794918A (fr) * | 1972-02-04 | 1973-08-02 | Oxysynthese | Procede d'epuration de fumees industrielles, de produit de combustion et d'efflents gazeux avant rejet a l'atmosphere |
| US3862295A (en) * | 1972-06-30 | 1975-01-21 | Westvaco Corp | Method for sorptive removal of sulfur gases |
| DE2235123A1 (de) * | 1972-07-18 | 1974-02-07 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zum entfernen von so tief 2 aus gasen |
| US3919394A (en) * | 1973-05-14 | 1975-11-11 | Dravo Corp | Process for the removal of oxides of sulfur from a gaseous stream |
| FI53296C (ja) * | 1976-02-23 | 1978-05-22 | ||
| DE2738501A1 (de) * | 1977-08-26 | 1979-03-08 | Saarberg Hoelter | Vorrichtungsanordnung zur entschwefelung von kraftwerksabgasen |
| US4495162A (en) * | 1981-09-04 | 1985-01-22 | A/S Niro Atomizer | Preparation of a calcium sulfate anhydrite material of low chloride content |
| JPS59783A (ja) * | 1982-06-28 | 1984-01-05 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 入力画像中の行数算出処理方式 |
-
1984
- 1984-09-29 DE DE19843435931 patent/DE3435931A1/de not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-09-12 US US06/775,201 patent/US4670235A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-09-16 AT AT85111668T patent/ATE40051T1/de not_active IP Right Cessation
- 1985-09-16 DE DE8585111668T patent/DE3567577D1/de not_active Expired
- 1985-09-16 EP EP85111668A patent/EP0177806B1/de not_active Expired
- 1985-09-27 JP JP60213635A patent/JPS6186929A/ja active Granted
- 1985-09-27 CA CA000491703A patent/CA1245831A/en not_active Expired
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6369522A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-29 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | 排気ガスの精製方法 |
| US6814948B1 (en) | 1995-06-28 | 2004-11-09 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Exhaust gas treating systems |
| US6337030B1 (en) | 1997-02-04 | 2002-01-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer processing apparatus, wafer processing method, and SOI wafer fabrication method |
| US6391067B2 (en) | 1997-02-04 | 2002-05-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Wafer processing apparatus and method, wafer convey robot, semiconductor substrate fabrication method, and semiconductor fabrication apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0177806A2 (de) | 1986-04-16 |
| CA1245831A (en) | 1988-12-06 |
| DE3567577D1 (en) | 1989-02-23 |
| US4670235A (en) | 1987-06-02 |
| EP0177806B1 (de) | 1989-01-18 |
| JPS6254531B2 (ja) | 1987-11-16 |
| DE3435931A1 (de) | 1986-04-03 |
| EP0177806A3 (en) | 1987-10-07 |
| ATE40051T1 (de) | 1989-02-15 |
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