JPS6187212A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダなどの記録再生ヘッド
として好適な薄膜磁気ヘッドに関する。

〔発明の背景〕

近年、ビデオテープレコーダの高密度記録化、高性能化
を達成するために、従来の酸化物チー。

プに代わってメタルテープが注目されている。

このメタルテープは高磁束密度と高保磁力とを有してお
り、これに対応できる磁気ヘッドとして、従来のフェラ
イトヘッドに代えて、高飽和磁束密度の金属磁性材料の
薄膜もしくは薄板をコア材とするヘッドが有望とされて
いる。すでに報告されている薄膜磁気へ・ラドについて
説明すると、まず、Ｆｇ　−ｋｌ−８ｉ合金のいわゆる
センダストあるいはＦｇ−Ｎｉ合金のパーマロイを磁性
材料とし、この磁性材料をスパッタリング等の薄膜形成
技術を用いて非磁性基板上にトラック幅相当分の厚さ被
着して、金属磁性薄膜を形成した後、スライスして一対
の′コアブロックを作る。そして、互いのコアブロック
の位置を合わせながら、非磁性膜をギャップスペーサ材
として挾んでボンディングを行い、ヘッドギャグを形成
している。

ビデオテープレコーダの高密度記録化に伴い、上述のへ
ラドギャップに対しても従来以上の精度が要求されてお
り、０．５μｍ以下のギャップ幅を高精度に作成するこ
とが磁気ヘッド製造上の課題となっている。さらに、金
属磁性薄膜ヘッドコア材とする磁気ヘッドは、磁気テー
プ、特に研削性の少ないメタルテープを走行させた場合
に、ギャップ端部が崩れる現象、所謂ギヤツブ崩れを生
じやすく、ヘッド特性の劣化が発生するため、この点も
問題となっている。

そこで、従来より、磁気ヘッドのギャップ形成法として
、コアブロックのギャップ形成面にスパッタリングまた
は蒸着等の方法を用いてＳ　ｔ　Ｏ２等の非磁性物質の
薄膜を形成し、この非磁性薄膜をギャップスペーサ材と
する方法が一般的である。この方法によれば、非磁性薄
膜の厚さを制御することにより高精度なギャップ幅を得
ることができ、また、非磁性物質として高硬度物質を選
ぶことにより、ギヤツブ崩れを防ぐことができる。しか
しながらこの方法では、コアブロックの接着強度が充分
得られないため、コアブロックの一部に切欠を設けて有
機接着材やガラスを充填し、コアブロックの接着を補強
する必要がある。そのため、磁気ヘッド製造工程が煩雑
になり、製造歩留りも低下させるという欠点があった。

また、上記以外の従来方法としては、非磁性物質のギャ
ップスペーサ材としてガラス薄膜を用いたものがある。

これは、ガラス薄膜を挾んだコアブロックを突き合わせ
、このガラスの軟化点以上の温度に加熱してガラス薄膜
を溶融し、コアブロックを接着するとともにギャップを
形成する方法である。この方法を用いれば、鼻ヤヅブ幅
の精度を低下させることなく充分なコアブロックの接着
強度が得られる。しかし、この方法では、ガラスが溶融
した際に金属磁性薄膜と拡散を生じるため、ギャップ直
線性が損なわれるという欠点があった。さらに、金属磁
性薄膜の温度による特性劣化を考慮すると、できるだけ
低い処理温度が望ましく、ガラス材としては低融点ガラ
スを用いる必要があるが、低融点ガラスは機械的強度が
弱いため、ギヤツブ崩れが発生しやすいという欠点があ
った。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き、ギヤｌプ
崩れが少なく、かつ、コアブロックの接着強度が強く、
しかも、量産性が良好な薄膜磁気ヘッドを提供するにあ
る。

〔発明の概要〕

この目的を達成するために、本発明は、ギャップ内のス
ペーサ構造を２層構造とし、磁気テープと最初に接触す
る層として高硬度物質層を設け、もう１つの層として低
融膚のガラス層を設けたことを特徴とする。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面について説明する。

第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図であって、１，２は非磁性基板、５は金層磁性薄
膜、４はＣ形コアブロヴク、５は工形コアブロック、６
はへラドギャップである。

第２図は第１図における金属磁性薄膜面のへラドギャッ
プを示す断面図であって、７は高硬度物質層、８は低融
点ガラス層であり、第１図に対応する部分には同一符号
をつけている。

第１図に示すように、薄膜磁気ヘッドは、非磁性基板１
，２間ＫＦｇ　−ＡＬ−８ｉ合金の金属磁性薄膜５がサ
ンドイッチ状に挾まれた構造になっており、巻線窓加工
を施されたＣ形コアブロック４と、工形コアブロック５
は、ヘッドギャップ６を形成するギャップスペーサ材に
て接着されている。

そして、第２図に示すように、ヘッドギャップ６は２層
構造となっており、磁気テープの走行が図中矢印の方向
である場合、Ｃ形コアブロック４側に非磁性の高硬度物
質層７を設け、工形コアブロック５側に低融点ガラス層
８を設けてあり、この低融点ガラス層８により両コアブ
ロック４，５は接着されている。

いま、磁気テープの走行を行った場合、テープが最初に
接触するギャップ端面は高硬度物質層７にて保護されて
いるため、ギヤツブ崩れの発生は防止されている。次な
る接触面である低融点ガラス層８側のギャップ端面は、
テープの出ていく方向であり、少なくともＩ形コアプロ
ツク５の金属磁性薄膜がギヤツブ方向忙崩れることはな
い。

また、低融点ガラス層８は、ガラス溶融時にガラスと金
属磁性薄膜との拡散を生じるが、種々検討の結果、低融
点ガラス層８の厚さが０．１μｍ以下であれば実用上な
んら問題を生じないことが判明した。具体例としては、
例えば、０．２μｍのギャップ幅を得る場合、高硬度物
質として８ｉ０２を用い、低融点ガラスとしてＰｈＯ−
Ｂ２０．−８ｉ０２系ガラスを用いて、高硬度物質層の
厚さ１１４μｍ、低融点ガラス層の厚さ１０６μｍとす
ればよい。

第５図（α）乃至（−は、本発明による薄膜磁気ヘッド
の製造方法の一具体例を示す工程図であって、９はコア
ブロック、１０は分割したコアブロック、１１は巻線窓
、１２はＣ形コアブロック、１５は工形コアブロック、
１４はボンディングブロック、１５はへラドチップであ
り、第１図と対応する部分には同一の符号をつけている
。

まず、Ｍｎ０−Ｎｉ０非磁性フエライトよりなる非磁性
基板１（第５図（α））ノ表面に、Ｆｅ　−Ａｌ　−８
ｉ合金の金属磁性薄膜５をコア厚、すなわちトラック幅
（２０〜４０μｍ）相当分被着しく同図（ｂ））、これ
を前記非磁性基板１と同一の非磁性基板５にて、ガラス
等を接着材に用いて被覆し、コアブロック９を作成する
（同図（Ｃ））。次いで、コアブロック９を短冊状にス
ライスして分割したコアブロック１０としく同図（ｄ、
））、そのスライス面を研摩し、巻線窓１１を加工して
、Ｃ形コアブロック１２と工形コアブロック１５を作成
する。（同図（ｅ））。なお、ヘッドアジマス角度を得
るには、同図（ｄ）のスライス工程で、そのスライス面
を非磁性基板の垂直面に対してアジマス角度分傾ければ
よい。次に、高周波スパッタリング装置を用いて、Ｃ形
コアブロック１２の研摩面には５１０２を０．１４μｍ
の厚さ被着し、工形コアブロック１５の研摩面にはＰｂ
Ｏを８５チ含有するＰｈＯＢ２ｕｓ−８１０２系ガラス
を１０６μｍの厚さ被着して、こわら一対のＣ形と工形
のコアブロック１２　、１５を、互いの金属磁性薄膜５
の位置を合わせながら突き合わせ、５００°Ｃの温度で
１５分間保持し、ボンディングブロック１４を作成する
（同図（力）。その後、ボンディングブロック１４をチ
ップ寸法に切離してヘッドチップ１５を作成しく同図（
−）各ヘッドチップ１５に薄肉化、内研、巻線を施して
薄膜磁気へヴドを得る。

この具体例に示すように、本発明による薄膜磁気ヘッド
のへラドギャップの形成は、Ｃ形、工形両コアブロック
の研摩面全面に、それぞれ８　Ｌ０２と低融点ガラスを
被着すればよく、量産性を損ねていない。

なお、以上の実施例では、Ｃ形コアプロヴクに高硬度物
質層を形成し、工形コアブロックに低融点ガラス層を形
成した場合について示したが、磁気ヘッドとテープの接
触が工形コア７’　。

ツクから始まる場合は、上記実施例とは逆圧、■形コア
ブロック側に高硬度物質層を形成する。

また、高硬度物質としてＳ　ｉｏ　２を用いたが、この
他にＡ２２０　、等の非磁性酸化物、あるいはＢＮ等の
非磁性窒化物、もしくは非磁性炭化物な用いてもよい。

さらに、低融点ガラスとしてＰｂ０Ｂ　２０ｓ　　Ｓ　
ｉｏ　２系ガラスを用いたが、この他にＰＡＯ−ｐｈｏ
ｓｐルａｔｅ系、ＰｂＯ−ＺｎＯ系等のガラスを用いて
もよく、また、金属磁性薄膜として、ハ＋　−ｒ　ａイ
、アモルファス等の薄膜を用いり磁気ヘッドにおいても
、本発明は有効である。

〔発明の効果〕

、以上説明したように、本発明によれば、ギャップ内の
スペーサ構造が２層構造になっており、磁気テープと最
初に接触する層として高硬度物質層を設けであるのでギ
ヤツブ崩れが少なく、かつ、もう１つの層として低融点
ガラス層を設けであるのでコアブロックの接着強度が強
く、しかも、製造工程が煩雑でないため良好な量産性を
有しており、上記従来技術の欠点を除いて優れた機能の
薄膜磁気ヘッドを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
斜視図、第２図は第１図における金属磁性薄膜面のヘッ
ドギャップを示す断面図、第５図（α）〜（−は本発明
による薄膜磁気ヘッドの製造方法の一具体例を示す工程
図である。 １．２・・・非磁性基板、５・・・金属磁性薄膜、６・
・・ヘッドギャップ、７・・・高硬度物質層、８・・・
低融点ガラス層。 第　１　口 第２呂 第３

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）非磁性基板間に金層磁性薄膜を挾み、該金属磁性
   薄膜の厚み方向に非磁性薄膜よりなるヘッドギャップを
   形成した薄膜磁気ヘッドにおいて、前記非磁性薄膜は、
   高硬度物質層と低融点ガラス層とからなる２層構造をな
   すことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。