JPS6190321A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6190321A JPS6190321A JP20974184A JP20974184A JPS6190321A JP S6190321 A JPS6190321 A JP S6190321A JP 20974184 A JP20974184 A JP 20974184A JP 20974184 A JP20974184 A JP 20974184A JP S6190321 A JPS6190321 A JP S6190321A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic recording
- magnetic
- recording medium
- recording layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録媒体の磁気記録層の改良に関する。
近年、磁気記録分野において、機器の大容量化、小型化
に伴ない、高密度記録の要請が急速に増加している。こ
のため記録媒体面についても記録密度向上のための改良
、開発が盛んに行なわれている。高密度化の実現手段と
して、記録媒体の飽和磁束密度（ＢＳ ）を増やす、保
磁力（Ｈｅ）を上げる。磁性層厚を薄くし反磁界を減少
させることが行なわれている。このような従来の面内磁
化媒体における改良に加え、高密度化の手段として磁化
容易方向を記録磁性層の法線に有する垂直磁化膜を用い
る方法がある。垂直磁気記録用の磁気媒体として、スパ
ッタリング法、真空蒸着法で作製したＣｏ−Ｃｒ合金膜
、塗布型のＢａ−フェライト膜が良く知られている。さ
らにＣｏを酸素雰囲気中で真空蒸着法、あるいはスパッ
タリング法で蒸着したＣｏ−０膜も垂直磁化膜となるこ
とが見い出されている。
に伴ない、高密度記録の要請が急速に増加している。こ
のため記録媒体面についても記録密度向上のための改良
、開発が盛んに行なわれている。高密度化の実現手段と
して、記録媒体の飽和磁束密度（ＢＳ ）を増やす、保
磁力（Ｈｅ）を上げる。磁性層厚を薄くし反磁界を減少
させることが行なわれている。このような従来の面内磁
化媒体における改良に加え、高密度化の手段として磁化
容易方向を記録磁性層の法線に有する垂直磁化膜を用い
る方法がある。垂直磁気記録用の磁気媒体として、スパ
ッタリング法、真空蒸着法で作製したＣｏ−Ｃｒ合金膜
、塗布型のＢａ−フェライト膜が良く知られている。さ
らにＣｏを酸素雰囲気中で真空蒸着法、あるいはスパッ
タリング法で蒸着したＣｏ−０膜も垂直磁化膜となるこ
とが見い出されている。
Ｃｏ−０膜は成膜中の酸素ガス圧により、 ８ｓ、 Ｈ
ｃが変化する。その例として第２図は電子ビーム蒸着法
で作製したＣｏ−０膜のＢＳとＨｃの値を酸素ガス圧に
対して示したものである０図中−〇−はＳＳを、−・−
はＨｃを示す、垂直磁化膜となるのはＢＳが約５０００
ガウス以下のＣｏ−０膜でありそれ以上のＢＳを有する
Ｃｏ−０１ｊＱは面内磁化膜である。
ｃが変化する。その例として第２図は電子ビーム蒸着法
で作製したＣｏ−０膜のＢＳとＨｃの値を酸素ガス圧に
対して示したものである０図中−〇−はＳＳを、−・−
はＨｃを示す、垂直磁化膜となるのはＢＳが約５０００
ガウス以下のＣｏ−０膜でありそれ以上のＢＳを有する
Ｃｏ−０１ｊＱは面内磁化膜である。
第２図からも明らかなように、酸素雰囲気中で、蒸着に
よりＣｏ−〇膜を製膜するための従来の方法では、高密
度記録に有利な垂直磁化膜となる範囲で）ｌｃの大きい
膜が得られないという欠点がある。
よりＣｏ−〇膜を製膜するための従来の方法では、高密
度記録に有利な垂直磁化膜となる範囲で）ｌｃの大きい
膜が得られないという欠点がある。
本発明は、Ｈｃの大きいＣｏ−０の垂直磁化膜を磁気記
録層として有する高密度記録用の磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。
録層として有する高密度記録用の磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。
本発明の上記目的は、以下の磁気記録媒体によって達成
される。
される。
すなわち、非磁性基体上に磁気記録層を具備する磁気記
録媒体において、該磁気記録層が膜面に対し略垂直な磁
化容易軸を有し、かつ、ＷをＣｏに対して１−１０原子
％含むＣｏ−〇膜であることを特徴とする磁気記録媒体
である。
録媒体において、該磁気記録層が膜面に対し略垂直な磁
化容易軸を有し、かつ、ＷをＣｏに対して１−１０原子
％含むＣｏ−〇膜であることを特徴とする磁気記録媒体
である。
本発明者にはＣｏ−０膜にＷを少量添加することにより
垂直磁化膜であり、かつ、 Ｈｃの大きい磁気記録媒体
となることを見い出した。垂直磁化膜となる条件は垂直
異方性磁界ＨにがＦｌ、ｌｌ５Ｊの反磁界４ ｔＭｓ（
＝ Ｂｓ）より大なることである。従来のＣ０−０膜で
はＨｃの大きい範囲においてＢＳが大きいため垂直磁化
膜となり得なかったが、Ｗを少量添加することにより、
Ｈｘおよび）ｌｃを低下させることなく、ＢＳのみを下
げ、Ｈｃの大きな垂直磁化膜が得られる。Ｗの量は製造
時の酸素ガス圧により異なるが原子比でＣｏの１〜ｌＯ
％が好ましい。ｌ原子％未満では８３を下げる効果が少
なく、また１０原子％を越すとＨＣ，ＨＫの減少を招く
上、垂直磁化膜ともならず好ましくない。一般的には酸
素分圧が低い場合には、Ｗの添加量を多めに、酸素分圧
が高い場合には、添加量を少なめに調整すると、良好な
特性の垂直磁化膜を得ることができる。
垂直磁化膜であり、かつ、 Ｈｃの大きい磁気記録媒体
となることを見い出した。垂直磁化膜となる条件は垂直
異方性磁界ＨにがＦｌ、ｌｌ５Ｊの反磁界４ ｔＭｓ（
＝ Ｂｓ）より大なることである。従来のＣ０−０膜で
はＨｃの大きい範囲においてＢＳが大きいため垂直磁化
膜となり得なかったが、Ｗを少量添加することにより、
Ｈｘおよび）ｌｃを低下させることなく、ＢＳのみを下
げ、Ｈｃの大きな垂直磁化膜が得られる。Ｗの量は製造
時の酸素ガス圧により異なるが原子比でＣｏの１〜ｌＯ
％が好ましい。ｌ原子％未満では８３を下げる効果が少
なく、また１０原子％を越すとＨＣ，ＨＫの減少を招く
上、垂直磁化膜ともならず好ましくない。一般的には酸
素分圧が低い場合には、Ｗの添加量を多めに、酸素分圧
が高い場合には、添加量を少なめに調整すると、良好な
特性の垂直磁化膜を得ることができる。
尚、Ｃｏ−０膜は、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンブレーティング法などで成膜される。
オンブレーティング法などで成膜される。
本発明を更に具体的に説明するために以下に実施例を示
す。
す。
実施例１
第１図は本発明磁気記録媒体の一例である磁気テープの
製造装置である。基体である１２μｓ厚のポリ；チレン
テレフタレートフィルム１３は巻出しローラー６からフ
リーローラー８を経て −１膜°Ｃに冷却したキャン９
に送られ、ここで磁気記録層が形成され、フリーローラ
ー８を経て巻取りローラー７に巻き取られる。蒸着元素
のＣｏおよびＨＯはそれぞれ別のルツボ３および４に収
容され、電子Ｓｌｊ ５により加熱へ発される。ＧＯと
Ｗの合金を１つのルツボから蒸発させた場合ＣｏとＷの
蒸気圧が異なるため長さ方向に組成のずれを生ずる。従
って本実施例の様に個々に蒸発させることが好ましい。
製造装置である。基体である１２μｓ厚のポリ；チレン
テレフタレートフィルム１３は巻出しローラー６からフ
リーローラー８を経て −１膜°Ｃに冷却したキャン９
に送られ、ここで磁気記録層が形成され、フリーローラ
ー８を経て巻取りローラー７に巻き取られる。蒸着元素
のＣｏおよびＨＯはそれぞれ別のルツボ３および４に収
容され、電子Ｓｌｊ ５により加熱へ発される。ＧＯと
Ｗの合金を１つのルツボから蒸発させた場合ＣｏとＷの
蒸気圧が異なるため長さ方向に組成のずれを生ずる。従
って本実施例の様に個々に蒸発させることが好ましい。
酸素ガスは蒸着中流量調整器により所定の圧力になる様
調整して、ノズル１１より吹き出される。
調整して、ノズル１１より吹き出される。
上記装置を用い、酸素分圧３．５ｍＴｏｒｒ、４．Ｑｍ
Ｔｏｒｒにおいて、ＷをＣｏに対し、２．７．４．４．
７．５，１０．０゜１２．８原子％含むＣｏ−０膜およ
び、Ｗを含まないＣｏ−０月Ｑを０．３３μｓ厚に成Ｈ
莫した。
Ｔｏｒｒにおいて、ＷをＣｏに対し、２．７．４．４．
７．５，１０．０゜１２．８原子％含むＣｏ−０膜およ
び、Ｗを含まないＣｏ−０月Ｑを０．３３μｓ厚に成Ｈ
莫した。
作製した磁気テープの８３ 、 Ｈｃおよび磁化容易方
向を第１表に示す。
向を第１表に示す。
酸素分圧３．５ｍＴｏｒｒで成膜した場合には、Ｗ含右
埴７．５．１０．０原子％で垂直磁化容易軸を治し、Ｈ
ｃも ６７０〜７５００ｅと大である磁気テープが作製
できた。酸素分圧４．０ｍＴｏｒｒの場合には、Ｗ含有
量４．４〜１Ｏ００原子％で垂直磁化容易軸を有し、Ｈ
ｅも ７４０〜８７００ｅと大である磁気テープができ
た。Ｗを含まないＣｏ−〇膜の場合、垂直磁化膜となる
範囲の）Ｉｃは５０００ｅ以下であり、Ｗの添加により
Ｈｃの大きい垂直磁化膜が得られた。
埴７．５．１０．０原子％で垂直磁化容易軸を治し、Ｈ
ｃも ６７０〜７５００ｅと大である磁気テープが作製
できた。酸素分圧４．０ｍＴｏｒｒの場合には、Ｗ含有
量４．４〜１Ｏ００原子％で垂直磁化容易軸を有し、Ｈ
ｅも ７４０〜８７００ｅと大である磁気テープができ
た。Ｗを含まないＣｏ−〇膜の場合、垂直磁化膜となる
範囲の）Ｉｃは５０００ｅ以下であり、Ｗの添加により
Ｈｃの大きい垂直磁化膜が得られた。
第４図は酸素分圧４ＩＩＩＴｏｒｒで作製したＷを４．
４原子％含む本実施例のヒステリシス曲線である。
４原子％含む本実施例のヒステリシス曲線である。
第３図に示したＷを含まない同条件で作製したテープと
比較すると、垂直方向の残留磁化が面内の残留磁化より
も大きくなっており、本発明磁気記録媒体は優れた垂直
磁化特性を有している。第３図、第４図において、１４
．１８は媒体膜面垂直方向のヒステリシス曲線、１５．
１７は膜面内のヒステリシス曲線である。
比較すると、垂直方向の残留磁化が面内の残留磁化より
も大きくなっており、本発明磁気記録媒体は優れた垂直
磁化特性を有している。第３図、第４図において、１４
．１８は媒体膜面垂直方向のヒステリシス曲線、１５．
１７は膜面内のヒステリシス曲線である。
実施例２
実施例１は真空蒸着法で作製した場合であったが、スパ
ッタリング法においても、Ｗを添加することにより良好
な記録特性を有する垂直磁化膜の得られることが認めら
れた。使用した装置は、ＲＦマグネトロンスパッタ型で
、ターゲットにはＣｏ上にＷのチップを置いた複合ター
ゲフトである。基板はカラスを使用し、基板ホルタ−は
水冷されている。成膜速度は概ね８００人／ｓｅｃ、膜
厚は約０．４３μｓである。酸素はガス流量調整器によ
りスパッタリングガスのＡｒを所定の圧力比になる様に
混合し、全圧力３ｍＴａ ｒ ｒとした。０２圧／Ａｒ
圧が０．１２．０．１４の場合についてＷ添加量をＣｏ
に対し、２．５゜４．３，７．６，９．８，１２．４原
子％としたＣｏ−０膜およびＷを含まないＣ０−０膜を
成膜した。
ッタリング法においても、Ｗを添加することにより良好
な記録特性を有する垂直磁化膜の得られることが認めら
れた。使用した装置は、ＲＦマグネトロンスパッタ型で
、ターゲットにはＣｏ上にＷのチップを置いた複合ター
ゲフトである。基板はカラスを使用し、基板ホルタ−は
水冷されている。成膜速度は概ね８００人／ｓｅｃ、膜
厚は約０．４３μｓである。酸素はガス流量調整器によ
りスパッタリングガスのＡｒを所定の圧力比になる様に
混合し、全圧力３ｍＴａ ｒ ｒとした。０２圧／Ａｒ
圧が０．１２．０．１４の場合についてＷ添加量をＣｏ
に対し、２．５゜４．３，７．６，９．８，１２．４原
子％としたＣｏ−０膜およびＷを含まないＣ０−０膜を
成膜した。
作製した磁気テープの８３．Ｈｃおよび磁化容易方向を
第２表に示す。
第２表に示す。
実施例１の場合と同様、Ｗの添加によりＨｃの大きい良
好な磁気特性を有する垂直磁化媒体が得られた。Ｗの添
加量はスパッタリング法においても真空蒸着法と同様１
〜ｌＯ原子％の範囲が有効である。
好な磁気特性を有する垂直磁化媒体が得られた。Ｗの添
加量はスパッタリング法においても真空蒸着法と同様１
〜ｌＯ原子％の範囲が有効である。
以上説明したように、適度な酸素雰囲気中で作製したＷ
を１−１０原子％含有するＣｏ−０１ＱはＨｃが十分大
きい垂直磁気媒体となり高密度記録用として優れた磁気
特性を有するものである。
を１−１０原子％含有するＣｏ−０１ＱはＨｃが十分大
きい垂直磁気媒体となり高密度記録用として優れた磁気
特性を有するものである。
第１図は真空蒸着法による本発明の磁気テープ製造装置
概略図であり、Ｅ？；２図は真空蒸着法で作製した従来
のＣｏ−０膜の磁気特性の耐素カス圧依存性を示すグラ
フであり、第３図は比較サンプルのヒステリシス曲線で
あり、第４図は本発明サンプルのヒステリシス曲線であ
る。 ■・・・真空槽、 ２・・・真空ポンプ、３・・
・Ｃｏ蒸発源 ４・・・Ｗ蒸発源。 ５・・・電子銃、 ６・・・巻出しローラー。 ７・・・巻取りローラー、８・・・フリーローラー。 ９・・・キャン、 １０・・・しやへい板、１
１・・・酸素吹出しノズル、 １２・・・ガス流量調整器、 １３・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム、１４
．１６・・・媒体面垂直方向のヒステリシス曲線、１５
、１７・・・媒体面内のヒステリシス曲線。 第２図 ＃葉力゛ス圧（ｙｙｔ７σγｒ） 第３図 第４図 Ｉ２や
概略図であり、Ｅ？；２図は真空蒸着法で作製した従来
のＣｏ−０膜の磁気特性の耐素カス圧依存性を示すグラ
フであり、第３図は比較サンプルのヒステリシス曲線で
あり、第４図は本発明サンプルのヒステリシス曲線であ
る。 ■・・・真空槽、 ２・・・真空ポンプ、３・・
・Ｃｏ蒸発源 ４・・・Ｗ蒸発源。 ５・・・電子銃、 ６・・・巻出しローラー。 ７・・・巻取りローラー、８・・・フリーローラー。 ９・・・キャン、 １０・・・しやへい板、１
１・・・酸素吹出しノズル、 １２・・・ガス流量調整器、 １３・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム、１４
．１６・・・媒体面垂直方向のヒステリシス曲線、１５
、１７・・・媒体面内のヒステリシス曲線。 第２図 ＃葉力゛ス圧（ｙｙｔ７σγｒ） 第３図 第４図 Ｉ２や
Claims (1)
- 非磁性基体上に磁気記録層を具備する磁気記録媒体にお
いて、該磁気記録層が膜面に対し略垂直な磁気容易軸を
有し、かつ、ＷをＣｏに対して１〜１０原子％含むＣｏ
−Ｏ膜であることを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20974184A JPS6190321A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20974184A JPS6190321A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6190321A true JPS6190321A (ja) | 1986-05-08 |
Family
ID=16577867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20974184A Pending JPS6190321A (ja) | 1984-10-08 | 1984-10-08 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6190321A (ja) |
-
1984
- 1984-10-08 JP JP20974184A patent/JPS6190321A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0053811B1 (en) | Magnetic recording media | |
| US4731300A (en) | Perpendicular magnetic recording medium and manufacturing method thereof | |
| US4362767A (en) | Magnetic thin film and method of making it | |
| US4539264A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS6194242A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6190321A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US4588636A (en) | Magnetic recording medium | |
| KR960010327B1 (ko) | 자기기록매체 | |
| JPS6190323A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6313115A (ja) | 磁気記録体及びその製造方法 | |
| JP2717611B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPS6190322A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2605803B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2894253B2 (ja) | 高機能性薄膜の製造方法 | |
| JPH01211240A (ja) | 薄膜型磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59157828A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62285220A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2729544B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JP2946748B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS62102414A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH033118A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6148126A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPH04285153A (ja) | 多層磁性体膜およびその形成方法 | |
| JPH04328324A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS58208937A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 |