JPS6191146A - 二塩化グリセリルの調製法 - Google Patents

二塩化グリセリルの調製法

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JPS6191146A
JPS6191146A JP21118184A JP21118184A JPS6191146A JP S6191146 A JPS6191146 A JP S6191146A JP 21118184 A JP21118184 A JP 21118184A JP 21118184 A JP21118184 A JP 21118184A JP S6191146 A JPS6191146 A JP S6191146A
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glyceryl
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ゲオルギー、イワノウイツチ、カナエフ
ラフアエル、ハジエウイツチ、ムフトデイノフ
イゴール、フスヌトウイツチ、ビクブラトフ
ユーリー、ピヨートロウイツチ、フロポトフ
マラト、ワリエウイツチ、ワガポフ
フヤチエスラフ、ピヨートロウイツチ、ワシリエフ
ユーリー、ドミトリエウイツチ、モロゾフ
ユーリー、ミハイロウイツチ、ヤプリンツエフ
レオニード、アンドレーエウイツチ、オシン
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、二塩化グリセリルの調製法に関する。
〔従来の技術〕
二塩化グリセリルには、グリセリルエピクロロヒドリン
、合成グリセリン、耐食化合物の製造のための広範な用
途、およびフェス、セルロース、樹脂の浴剤としての用
途がある。
一般的に、二塩化グリセリル調製の出発試薬は次亜塩素
酸と塩化アリルとである。目的生成物が高い選択性およ
び高純度を有し、且つ出発物が十分に高い転化率を有す
る二塩化グリセリル合成の必須条件の一つは、低濃度の
水溶液を使用することである。しかしながら、そのよう
な水溶液の使用は、工程における技術的かつ経済的なパ
ラメータに関して悪影響を与える。したがって、二塩化
グリセリル合成の理想条件は、そこでの塩化アリルと次
亜塩素酸とが真溶液の形で用いられることである。これ
らの条件の下で、二塩化グリセリルの収率は97憾穆で
あり、反応集塊中の二塩化> IJセリルの濃度はたっ
た5g/lにすぎない。目的生成物1トンあたり200
m3の多量の廃水が発生し、その廃水が塩素有機物で汚
染されて(・るので、経済的観点からこのような条件は
許容できない。
従来法では、反応集塊中の含量43〜50g/l、収率
92〜95チで二塩化グリセリルを製造することができ
る。
二塩化グリセリルを製造する方法がこの技術分野で知ら
れている(ソ連特許第4L13155号参照)。
この方法は水の添加による反応集塊の一部への塩化アリ
ノ/のf8屏からなる。反応集塊の他の部分へ塩素をf
8解させると次亜塩素酸と塩酸とが生じる。
C1□+H20ヰHOOI +HC1 反応集塊は、目的生成物、次亜塩素酸および塩酸を含有
する水6ダ液からなる。両方の溶液は管状反応器内に供
給される。
反応は塩化アリルと次亜塩素酸との完全な転化まで行な
われる。糸の中に導入された水の量に相当する量だけ反
応集塊の一部が系から取り出される。二塩化グリセリル
は取り出された反応集塊から既知の方法で回収される。
系が安定状態の下で操作されているとき、濃度43 g
/ 1  (0,332モル/ユ)の二塩化グリセリル
を含有する循環反応集塊が塩化アリルの溶解装置を介し
てくみ出される。反応集塊の消費は27.。
17時である。塩化アリルは1.02モル/時の量で供
給される。同時に、塩化アリルの溶解装置に水が2.9
41/時の量で導入される。 次の流れに塩素ガスが1
モル/時の量で溶解される。19.71/時の割合で供
給された循環反応集塊に塩素を溶解させて次亜塩素酸溶
液が形成される。上述したように、両溶液は長さ20m
および直径10インチの管状反応器中に搬送される。反
応集塊中の次亜塩素酸溶液を一回で反応器に供給するこ
とができ、また、二、三回に分けて、すなわち、第一部
分の入口点より2m下流から供給し、第三の部分を第二
の点より2m下流から供給することもできろ。反応集塊
は反応器から受器に゛供給される。目的生成−物の回収
のために、塩酸2.5壬をも含む濃度43g/ユの二塩
化グリセリル水溶液が2.941/時で連続的に受器か
ら引き取られる。
この方法の実施において、塩化アリルの濃度は1.57
gz’Lであり、次亜塩素酸のそれはx、z5g/lで
ある。反応集塊への次亜塩素酸の導入様式に応じて、二
塩化グリセリルの収率は次のとお手である。
一段階添加      92% 二段階添加      95% 三段階添加      96% 生成した廃水の飛は二塩化グリセリル1トンあたり23
.5 m3である。
この方法の実施において、二塩化グリセリルの収率を高
めると同時に反応集塊中のその濃度を高めることは不可
能である。さらに、この方法の実施において、反応集塊
を循環させるための電力消費が高藁になることは避けら
れない。これらすべては、二塩化グリセリルの濃度増大
を伴う反応集塊中への塩化アリルの溶解度減少の結果で
ある。
出発試薬の反応は水への必須的な溶解の条件でのみ進行
し、水中の二塩化グリセリルの濃度増大を伴うので、塩
化アリル溶解のために多量の循環溶液が必要である。溶
液11Mり二塩化グリセリル約50gの濃度で、塩化ア
リルの溶解度は、反応混合物から次亜塩素酸、二塩化グ
リセリルおよび塩素有機副生物が抽出されるような程度
に減少する。
これは目標反応の方向を変える典型的な条件であり、副
生物の生成速度が著しく増大する。その結果、二塩化グ
リセリルの収率は急激に低下する。
二塩化グリセリル調製のためのさらに別の方法がこの技
術分野で知られている(エル、ニー、オシン著「合成グ
リセリンの製造」モスクワ、クヒミャ出版社(1974
)参照)。この方法では、ソーダ灰水溶液の塩素処理に
よって調製された次亜塩素酸が用いられる。
Rag(!03 + 2012 + H2O−+ 2 
HOOI +Z N a Cl +002この溶液中の
次亜塩素酸は22〜25g/ユの濃度を有している。こ
の次亜塩素酸溶液と塩化アリルとが容器に装入される。
同時に、同じ容器に、二塩化グリセリル(43g/l)
と、次亜塩素酸(0,2〜0.3 g/l )および共
通塩(23〜26g/l)を含む水溶液からなる循環反
応集塊が装入される。反応集塊中の含水量は95%であ
る。反応に供給される次亜塩素酸溶液の体積に対する反
応集塊の循環出は、各々20〜40:lに等しい。循環
反応集塊による希釈後の次亜塩素酸の濃度は0.7〜1
.s g、/1であり、反応時間は20分である。反応
系から反応集塊の一部が目的生成物の回収のために連続
的に引き取られる。その系から引き出された反応集塊の
体積量は、糸に導入された次亜塩素酸塩水溶液の量に等
しい。この方法における二塩化グリセリルの収率は92
%に等しい。この方法では、二塩化グリセリル1トンあ
たり塩素有機物で汚染された23.5 m3の廃水がま
た生じる。この方法はまた反応集塊の循環のために多量
の電力消費を必要とする。
したがって、従来法は目的生成物の収率を下げることな
く反応集塊中の二塩化グリセリル含量を高めることを可
能にしない。これらの方法はまた余分の設備の使用、す
なわち、反応集塊のくみ取りのための高〜・電力消費を
特徴とする。
これらの方法において、塩素化有機生成物で汚染された
多量の弱鉱化廃水がまた生じる。廃水の無機分は、塩酸
22.5%もしくは2.5〜3チからなる。廃水の脱イ
オンおよび精製は、蒸発装置ならびに塩酸の中和用装置
を建造するための高い資本出費を必要とし、さらに電力
と過熱水蒸気との高率の消費を伴う。
本発明は、単純かつ電力を消費しない方法によって高収
高・高含量で目的生成物を得ることができる二塩化グリ
セリルの調製法を提供することを目的とする。
この目的は、水性媒質中で次亜塩素酸と塩化アリルを反
応させて二塩化グリセリルを製造するにあたって、本発
明に従って前記反応を4.7〜30.0g/lの次亜塩
素酸濃度で行なうことにより達成される。
反応帯域の次亜塩素酸濃度の上記特定範囲4.7〜30
g / lが90〜97チの収率を確保し、他方反応−
集塊中のその高い濃度を維持する。4.7g/1未満の
反応集塊中の次亜塩素酸濃度では、そのような条件で正
反応(所望の反応)と平行反応(副反応)との間の熱力
学的平衡が成立するので、97係を超える二塩化グリセ
リル収率を得ることができない。さらに、循環反応集塊
をくみ取るための電力消費はまた増大する。30g/l
を超える次亜塩素酸の濃度増大は、副生物の生成反応速
度が増すため罠、二塩化グリセリルの収率の急激な減少
となる。
多くの場合、8股な次亜塩素酸濃度は、反応帯域中に、
91係の水、塩素有機不純物を伴う6係の二塩化グリセ
リル、および3係の共通塩からなる循環反応集塊を導入
することにより維持される。
本発明に従う二塩化グリセリルの與造法により、95〜
96チの収率、反応集塊中の90〜60g/lの含量で
目的生成物を得ることができる。水消費率はかなり減少
し、その結果、廃水量が(二塩化グリセリル1トンあた
り16.8 m3に)減少する。プロセス技術が非常に
簡単になり、反応集塊中の塩化アリルの予備溶解を必要
としない。さらに、循環反応集塊をくみ増るための電力
消費も相当に減少する。
本発明に従う二塩化グリセリルの調製法は簡単であり、
次のように実施することができる。
m」述したよ5に、次亜塩素酸はソーダ大の水溶液の塩
素化によって調製される。生じた水−塩溶液中の次亜塩
素酸濃度は25〜30g / lにわたる。
同時に、塩化アリルと次亜塩素酸の水−塩溶液とが反応
器に供給される。塩化アリルと次亜塩素酸との間の相互
作用は攪拌下で生じる。目的生成物(55〜60g/ユ
)と共通管(28〜3(Ig/11とを含む生成反応集
塊が反応器から受器に供給される。
反応集塊の一部が目的生成物の回収のために供給される
。系から引き出された反応集塊の量は、系に導入された
次亜塩素酸の水−塩溶液の量に等しい。目的生成物は従
来の方法、例えば抽出によって回収される。反応集塊の
他の部分は、必要なとき、反応帯域に供給される(再循
環)。次亜塩素酸の水−塩溶液に対する再循環反応集塊
の体和比は、5〜l:lに等しい。
本発明の方法を実施する場合、二塩化グリセリル1トン
あたりの廃水量は、16.8 m3である。
本発明のよりよい理解のために具体例を以下に例証のた
めに示す。
例1 濃度28.5 g/lのソーダ灰水溶液をloo rn
3/Fqで充填カラムに頂部から配送する。同じカラム
に向流的に、塩素ガスを3sookg/時の黄で導入す
る。塩−水浴液中で濃度27.7g/lの生成した次亜
塩素酸をpH4,5〜5.0で反応器内に供給する。
3.7(10kg/時の塩化アリルと、系内な循環する
SOUm37時 の反応集塊とを同時に同じ反応器内に
装入する。その反応集塊は60g/lの二塩化グリセリ
ル、30 g/ 1の共通塩および495−5m3の水
を含む。反応帯域中の次亜塩素酸の濃度は4.7g/l
に等しい。
反応器から、600 m” 7時の量で反応集塊を受器
に搬送する。七〇受器からsoo m”7時の量で一つ
の流れを系内に再循環し、100 ” 7時の量で別の
流れを抽出などの従来法によって目的生成物を回収する
ために系から引き出す。
生成した反応集塊には、二塩化グリセリル60g/lが
存在する。
反応集塊の組成(重量係)をクロマトグラフ分析法を用
いて決定する。
二塩化グリセリル      97.0トリクロロプロ
パン      1.5クロロエーテル       
 0.3他の塩素化生成物       1.2二塩化
グリセリルの収率は97チである。
例2 too rn” 7時の量で反応器内に再循環反応集塊
を供給すること以外、前記例1に記載された操作に従っ
て二塩化グリセリルを調製する。反応集塊中の次亜塩素
酸の含量は14g/ユに等しい。かくして得られた反応
集塊中の二塩化グリセリルは、59g/lの瀾で存在す
る。
次の組成(重量%)を有する反応集塊を100m3/時
で糸から引き出す。
二塩化グリセリル      96.0トリクロロプロ
パン      2.2クロロエーテル       
 0.5他の塩素化生成物       1.3二塩化
グリセリルの収率は96チである。
例3 充填カラムの頂部に、濃度28.5 g/ユのソーダ灰
水溶液をlou m”7時で供給する。カラム内に、塩
素ガスを3.sookg/時の量で向流的に導入する。
かくして生成された水−塩溶液中の次亜塩素酸(濃度2
7.7 g/ユ、pH−4,5〜5.0)を反応器に供
給し、その反応器内に、同時に3,7(10kg/lの
塩化アリルな装入する。反応器からlOUm/時の量で
反応集塊を受器に搬送し、その受器から従来方法による
二塩化グリセリルの回収のために供給する。生成した反
応集塊は54 g / lの二塩化グリセリルと6g/
lの有機塩素化副生物を含有し、次の生成(重量係)を
有する。
二堵化グリセリル      90.0トリクロロプロ
パン      6.0クロロエーテル       
 1.5他の塩素化生成物       2.5二塩化
グリセリルの収率は90%に等しい。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 水性媒質中で塩化アリルを次亜塩素酸と反応させて二塩
    化グリセリルを調製するにあたって、この反応を次亜塩
    素酸4.7〜30.0g/lの濃度で行なうことを特徴
    とする二塩化グリセリルの調製法。
JP21118184A 1984-10-08 1984-10-08 二塩化グリセリルの調製法 Pending JPS6191146A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6354488A (ja) * 1986-04-19 1988-03-08 Noritake Dia Kk 切断および研削砥石とその製造法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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