JPS6192010A - 蒸着マスク - Google Patents

蒸着マスク

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Publication number
JPS6192010A
JPS6192010A JP21304384A JP21304384A JPS6192010A JP S6192010 A JPS6192010 A JP S6192010A JP 21304384 A JP21304384 A JP 21304384A JP 21304384 A JP21304384 A JP 21304384A JP S6192010 A JPS6192010 A JP S6192010A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
deposition mask
vapor
vapor deposition
electrode
adjustment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP21304384A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Tamai
誠一 玉井
Yukihiro Okamoto
幸博 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Dempa Kogyo Co Ltd filed Critical Nihon Dempa Kogyo Co Ltd
Priority to JP21304384A priority Critical patent/JPS6192010A/ja
Publication of JPS6192010A publication Critical patent/JPS6192010A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • H03H3/04Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks for obtaining desired frequency or temperature coefficient

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、蒸着マスクに係り、特に、水晶振動子の周波
数を調整するだめの蒸着マスクに関する。
(従来技術) 一般に水晶振動子は′その周波数を所望の値にするため
に水晶片の両面に蒸着により設けた銀、アルミニューム
等の励振電極上にさらに金属あるいは非金属を重ねて卆
蒸着して質量イ1力0効果により調整を行なうようにし
ている。
第2図(a)及び(b)は従来の水晶振動子を示す正面
図である0図において、1は水晶片で。
水晶片の両面に□は銀、アルミニューム等よりなる励振
電極2、端子3.3が真空蒸着により設けである。4は
保持台で、保持台4には2本の外部導出端子5、bが植
設しである。6.6は外部導出端子5.5にス染ット溶
接等により設けたt−n部材である。そして、支持部材
6.6上に前記水晶片lを挾持し、端子3,3を支持部
材6.6に導電性接着剤等により固着すれば水晶片1の
振動は端子3.3、支fe部材6.6、外部導出端子5
.5を介して外部に導出される本のである。
そして、この水晶振動子の周波数を調整するには、第3
図(a)及び(b)に示すように、一部に、例えば、励
振電極2の面積とほぼ同じ大きさの調整用窓8を有す゛
る空洞上の調゛整マスク7を第4図に示すように水晶振
動子の保持台4にかぶせ、その状態の水晶振動子を真空
蒸着炉に入れて、調整窓8より水晶片lの励振電極2の
部分に蒸着物資(金属または非金属)を蒸着することに
より行なっていた。
(従来技術の問題点) 前記したように、水晶振動子の周波数を調整するには調
整用窓を有する調整用マスクを用いて水晶片に蒸着物資
を蒸着するようにしている。この場合に調整窓は励振電
極の面積とほぼ同じ大きさ、あるいはそれよりも大きく
なっている。そのために1周波数を微少変化させようと
しても実際は変化量が大きくなり適切な調整が困難であ
った。特に、周波数を調整する場合、励振電極形状が小
さくなり微調整(ΔF調整対称モードの周波数と斜対称
モード周波数の調整)を行なうと蒸着マスクの片寄りな
どにより励振電極の入力側と出力側周波数のバランスが
くずれ、再びバランス調整をしなければならず、このく
り返しによる調整に工数がかかりすぎ、製造効率の低下
を招来するという問題があった。また、励振電極の形状
も多種多様であり、励振電極の面積が小さいものに対応
した蒸着マスクの調整用窓の形成は容易でないのが現状
であった。
(発明の目的) 本発明は、調整マスクの調整用窓を小孔をたくさん配列
した多孔窓にすることにより、製造工数の低減を図り得
ると共に特性変化の少ない副振動を抑圧した圧電振動子
を得ることができる蒸着マスクを提供することを目的と
する。
(発明の概要) 本発明は、励振電極が形成された圧電板上に多孔形状の
調整用窓を介して調整用電極を蒸着し、共振周波数の調
整を行なうようにする。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら、詳細に
説明する。
第1図は、本発明に係る蒸着マスクを説明する説明図で
ある。図において、11は圧電振動子、例えば、水晶振
動子、12は圧電振動子11の保持部材、13は励振電
極、14は基台、15は蒸着マスクであり、絶縁膜から
なる。16は蒸着マスクに形成される周波数調整用窓、
17は位置決め用ガイドである。
本発明においては、蒸着マスク15に形成される周波数
調整用窓16は多孔形状とする。そこで、基台14上に
植設された保持部材12.12間に励振電極13が形成
された圧電振動子11が設けられて、この圧電振動子1
1の励振電極13に調整用電極を蒸着する場合には、多
孔形状の調整用窓16を有する蒸着マスクを用いて、共
振周波数の調整を行なう。
このように構成すると、蒸着物資は多孔形状の窓によっ
て適宜分散され、励振電極13が形成された電圧振動子
の両面に蒸着される。
また、かかる蒸着マスクを用いると、励振電極の形状が
異なっても、いちいち蒸着マスクを取替えなくてもすみ
、蒸着マスクの種類点数を減らすことができる。
尚、圧電振動子は、主に水晶振動子であるが、これに限
定されることなく、例えば、圧電磁器振動子であっても
よいことは言うまでもない。
また1本発明は、前記した実施例に限定されるものでは
なく、本発明の主旨に従い、種々の変形が可能であり、
これらを本発明の範囲から排除するものではない。
(発明の効果) 本発明によれば、励振電極が形成された圧電板とに多孔
形状の調整用窓を介して調整用電極を蒸着し、共振周波
数の調整を行なうようにしたので、従来のように、周波
数を微少調整させることが困難なこともなく、調整時に
蒸着マスクを交換する必要がなく調整が容易であり、特
に、周波数を調整する場合に、調整用電極のズレによる
特性変化が少なく対称モード周波数と斜対称周波数を調
整する場合にもそれぞれの励振電極の周波数バランスの
ズレが少なく調整を良好に行なうことができる。従って
、製造工数を減少させ得るので圧電板の低コスト製造を
可能にすることができる。
また、従来のように、励振電極の形状に対応した多種類
の調整用窓の形状を有する薄着マスクを用意する必要が
ないので、圧電板製造のための必要五牧 し、−ノ 部品の減少を図り得るという効果を奏することができる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る蒸着マスクを説明する説明図、第
2図〜第4図は従来例を示し、第2図は従来の水晶振動
子を示す正面図、第3図は蒸着マスクの正面図、第4図
は蒸着マスクを取付けた状態を示す正面図である。 11・・・圧電板、12・・・圧電板の保持部材、13
・・・励振電極、14・・・基台、15・・・蒸着マス
ク、16・・・蒸着マスクに形成される調整用窓、17
・・・位置決め用ガイド。 特許出願人  日本電波工業株式会社 代  理  人   弁理士  辻         
實第3図 (α)(b)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)励振電極が形成された圧電板上に多孔形状の調整
    用窓を介して調整用電極を蒸着し、共振周波数の調整を
    行なうことを特徴とする蒸着マスク。
  2. (2)前記圧電板は水晶振動板であることを特徴とする
    特許請求の範囲第(1)項記載の蒸着マスク。
JP21304384A 1984-10-11 1984-10-11 蒸着マスク Pending JPS6192010A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21304384A JPS6192010A (ja) 1984-10-11 1984-10-11 蒸着マスク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21304384A JPS6192010A (ja) 1984-10-11 1984-10-11 蒸着マスク

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6192010A true JPS6192010A (ja) 1986-05-10

Family

ID=16632567

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP21304384A Pending JPS6192010A (ja) 1984-10-11 1984-10-11 蒸着マスク

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JP (1) JPS6192010A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6320907A (ja) * 1986-07-15 1988-01-28 Fujitsu Ltd 圧電振動子の周波数調整方法
US5281935A (en) * 1991-04-22 1994-01-25 Motorola, Inc. Surface mountable piezoelectric device using a metallic support structure with in situ finish plate mask
JP2007535275A (ja) * 2004-04-28 2007-11-29 ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング Mem共振器の周波数を調整するための方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6320907A (ja) * 1986-07-15 1988-01-28 Fujitsu Ltd 圧電振動子の周波数調整方法
US5281935A (en) * 1991-04-22 1994-01-25 Motorola, Inc. Surface mountable piezoelectric device using a metallic support structure with in situ finish plate mask
JP2007535275A (ja) * 2004-04-28 2007-11-29 ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング Mem共振器の周波数を調整するための方法

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