JPS6196085A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はカラー受像管用シャドウマスクの製造方法に係
わり特（＝レジスト膜形成工程に関するものである。

〔発明の技術的背景及び問題点〕

カラー受像管用シャドウマスクは一般にフォトエツチン
グと呼ばれる方法（二て作られる。この方法は大別して
、■帯状金属板画面（二目的とする厚さを有するレジス
ト膜を形成する工程、■レジスト膜にマスクパターン焼
付は用ネガ原版を介して紫外線等の光を照射させパター
ン潜像を選択的１；焼付ける工程、■水などを用いて現
像し、次いでマスク孔穿設部以外を被覆するレジスト膜
の耐エツチング性を増すためバーニングを行う工程、■
エツチング液を用いてマスク孔を穿設する工程の４工根
に分けられる。

シャドウマスクは規則的（二配列された多数の微細な孔
が穿設されたもので、各マスク孔の形状・寸法及び全体
のむら等がマスク品位を決定し、これらに影響を与える
因子は種々存在する。レジスト膜形成工程に限って以下
説明するが、求められる特性としてはレジスト膜Ｃ；泡
やピンホールなどの欠陥がなく、マスク材全面（二渡り
レジスト膜厚が均一なことである。帯状マスク材（；レ
ジスト膜を形成する方法としては、■マスク材を床（二
対して垂直な状態で流しレジスト剤をマスク材上端から
重カシニてフローコートしその後乾燥を行ってレジスト
膜を形成する方法、■マスク材を床に対して水平な状態
から上方に引上げ、この引上げ時にレジスト剤に浸漬又
はスクイズコーターやゴムワイパーなどを用いてレジス
ト剤を塗布し、その後乾燥を行ってレジスト膜を形成す
る方法等がある。

しかし前者の場合、重力によるフローコートの為どうし
てもマスク材上部が下部に比較しレジスト膜厚が薄くな
る。この結果薄いレジスト膜部は、後のエツチング時サ
イドニッチにて生じたレジスト膜ひさし部がエツチング
液の機械的当りシュより破壊され孔欠点を生じ易い。こ
れを避るためマスクパターン焼付は時、レジスト膜の薄
い上部を使用しないことも可能であるが、マスク材の使
用効率が大幅に低下しコストアップにつながる。又、レ
ジスト膜の厚味によってレジスト膜に焼付けられるパタ
ーン寸法が焼付はパターン原版寸法と異なってしｉ＋５
゜言いかえれば、レジスト膜が厚い程、パターン原版を
通った光のレジスト膜中の散乱により必要焼付はパター
ン寸法は小さくなる傾向を示し、それと併せ焼付けられ
たレジスト膜パターンエッヂがぼけるため現像上りの残
存レジスト膜エッヂの切れが悪くなることにより、最終
マスクむら品位が低下する。これらの事からマスク材全
面に渡り最適な膜厚を有するレジスト膜を均一に形成す
る必要がある。後者の場合、引上げながらレジスト剤を
塗布するのでマスク材板幅方向の膜厚差は前者に比較し
極めて少ない。しかしレジスト剤塗布後乾燥までの間、
レジスト剤は下方向へ流れ落ち、この流れ落ちの状態が
マスク材のわずかな平坦度の違いによって変動してレジ
スト膜厚むらが発生し易いことと、レジスト液中ｌ二存
在する微小な泡又はマスク材引上げ時の揺れにて発生。

した泡が塗布された場合、前者と異なりマスク材からレ
ジスト剤が流れ切らないため形成されたレジスト膜中の
何処か（二抱き込まれ、この部分がマスク孔欠点になる
。更にレジスト膜は引上げながら乾燥しなければならぬ
ので乾燥炉は垂直（二車りている。この結果煙突効果“
により熱い空気が乾燥炉上部に吹い上げられ炉内の各部
分における温度コントロールが難しく、乾燥不足による
膜剥れ乾燥しすぎによる熱かぶり、レジスト剤たれ落ち
≦＝よる膜むら、更（−ピンホールなどの欠点を生じ易
い。

〔発明の目的〕

本発明は以上の点（−鑑みてなされたもので、レジスト
膜厚が金属板の長さ及び幅方向で均一で、且つピンホー
ルや泡の存在しないレジスト膜を形成することを目的と
する。

〔発明の概要〕

本発明は、水平床面に対し帯状金属板の幅方向を垂直に
搬送する金属板の上端からレジスト剤をフローコートし
、この後金属板の上部のみ乾燥させた後再度レジスト剤
を金属板上端からフローコートシ、その後金属板全体を
乾燥させて目的とする膜厚を有するレジスト膜を形成す
るものである。

〔発明の実施例〕

第１図（二本発明の実施例の工程図を示す。第１図（−
）は側面図、第１図（ｂ）は平面図をそれぞれ示す。

マスク材として帯状のアルミキルド鋼薄板を使用し、こ
れを水平床面（二対して帯状の幅方向が垂直な状態で水
平方向に連続的に搬送する。アンワインダ−■から巻き
出されたマスク材は圧延油・防錆油を除去するため５〜
６チ濃度で９０〜９５　Ｃの温度のアルカリ脱脂液をス
プレーＬＯ３）、次いで工水及び純水をスプレーし脱脂
液を洗い流す（Ｃ）。清浄になったマスク材６二第ルジ
スト剤塗布を施す（ロ）が、用いるレジスト剤は牛乳カ
ゼインアルカリド重ケロムばアンモニウムとから成る水
溶液である。このレジスト剤の塗布はマスク材上端部か
ら２股になったノズルを使用し重力差にてフローコート
するが、均一な塗布が可能なようノズルを２〜８箇所設
けることが望ましい。この後第１乾燥工程（ト））（二
人る。乾燥炉の構造としては第２図に示すようにマスク
材（１）板幅の中央部より上部のみが乾燥可能なように
ヒーター（２）、例えばシーズヒーター又はインフラス
タインヒータが配置され、マスク材（１）下部が対流や
放射ｆ二よる熱艦二て乾燥されぬよう遮熱板（３）を設
けている。遮熱板（３）の位置はマスク材（１）の板＋
ｌｌｉ　ｌ”−より変える必要があり、上下に移動可能
なものが好ましい。このよう（ニマスク材板幅の中央部
から上部のみ乾燥させるが、第２レジスト剤塗布時の塗
膜むらの発生を避けるため生乾きの状態にコントロール
するのが望ましく、雰囲気温度としては５０〜６０　Ｃ
が良い。更に中央部と上部のレジスト膜乾燥状態に差を
生じせしめぬよう、ヒーター（１）は乾燥炉の長さ方向
及び高さ方向にブロック配置し、各ブロック毎で温調可
能とする。その後第２レジスト剤塗布Ｃ）に入るが、こ
れは第２レジスト剤塗布の）と同じ方法にて行う。

これにてマスク材板幅中央部から上部は乾燥又は生乾き
の状態（＝あるので再度塗布されたレジスト剤は再度付
着し膜厚が増加し、一方下部の方は未乾燥のため再度塗
布されたレジスト剤は重力１：て流れ落ち結果として膜
厚の均一なレジスト膜な有した状態になる。この状態で
第２乾燥（Ｇ）　に入るが、この第２乾燥によりマスク
材全面を乾燥し目的とする膜厚のレジスト膜を形成する
。この全面乾燥においてはレジスト膜温度が８０Ｃを越
すと熱かぶりを生ずるため特に炉内の上下の温度差をな
くすることが重要で、第８図（＝示すようＣ：炉内の各
部分の温度制御ができるようブロック単位でヒーター（
２）が配列され温調可能な構造（ニなっている。第２乾
燥後マスク材はワイング一部（６）で再び巻き戻される
。第１と第２の乾燥炉長及び温度条件はマスク材の流す
速度と使用するレジスト剤組成（二て変動するので、実
験により選択されるべきである。

〔発明の効果〕

以上のよう（二本発明（二よれば、重力差を利用した簡
易なレジスト剤の７０−コート方法Ｃ；て、従来大きな
問題（；なっていたマスク材板幅方向のレジスト膜厚差
及び局部的な膜厚むらや泡やピンホールなどの欠点のな
いレジスト膜を容易に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（、）及び第１図（ｂ）は本発明の実施例の工程
を示す側ｍ１図及び平面図、第２図及び第３図は第１図
の第１及び第２乾燥炉を示す正面図である。 （１）・・・マスク材　　　（２）・・・・ヒーター（
３）・・・遮熱板 代理人弁理士則近憲佑　（ほか１名） 第　　１　図 （Ｑン 第２図　　第３＠

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 帯状金属板の両面にレジスト膜を形成する工程と、所定
   のネガ原版を介して前記レジスト膜を選択露光する工程
   と、前記選択露光されたレジスト膜を現像する工程と、
   前記金属板をエッチングする工程とを少なくとも備えた
   シャドウマスクの製造方法において、前記レジスト膜形
   成工程が、前記帯状金属板の幅方向を水平床面に対して
   実質的に垂直な状態で搬送し、前記帯状金属板の上端か
   らレジスト剤をフローコート後前記金属板に被着したレ
   ジスト膜の前記金属板上部に相当する部分を乾燥させ、
   次いで再び前記帯状金属板の上端からレジスト剤をフロ
   ーコートし、前記金属板に被着したレジスト膜全面を乾
   燥する工程からなることを特徴とするシャドウマスクの
   製造方法。