JPS6197816A - パルス・レ−ザ光の照射方法 - Google Patents
パルス・レ−ザ光の照射方法Info
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- JPS6197816A JPS6197816A JP21736484A JP21736484A JPS6197816A JP S6197816 A JPS6197816 A JP S6197816A JP 21736484 A JP21736484 A JP 21736484A JP 21736484 A JP21736484 A JP 21736484A JP S6197816 A JPS6197816 A JP S6197816A
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- pulsed laser
- laser light
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/48—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating by irradiation, e.g. photolysis, radiolysis, particle radiation
- C23C16/483—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating by irradiation, e.g. photolysis, radiolysis, particle radiation using coherent light, UV to IR, e.g. lasers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は化学反応を起させるため、被反応物質にパルス
・レーザ光を照射するパルス・レーザ光の照射方法に関
する。
・レーザ光を照射するパルス・レーザ光の照射方法に関
する。
〈従来技術およびその問題点〉
従来化学反応は高温・高圧条件にすることにより分子を
活性化し、かつ分子同志の衝突頻度を高めることにより
行われている。しかし近来レーザ光を照射することによ
り物質を励起し、常温・常圧又はそれに近い低温・低圧
でも化学反応を誘起させるいわゆるレーザ誘起化学反応
の研究が各分野でなされており、それぞれの化学反応に
最適なレーザ光波長の解明がなされつつある。
活性化し、かつ分子同志の衝突頻度を高めることにより
行われている。しかし近来レーザ光を照射することによ
り物質を励起し、常温・常圧又はそれに近い低温・低圧
でも化学反応を誘起させるいわゆるレーザ誘起化学反応
の研究が各分野でなされており、それぞれの化学反応に
最適なレーザ光波長の解明がなされつつある。
今ある化学反応に短波長特に紫外域のレーザ光が有効で
あると判明した場合、その様ｄ波長域における高出力の
し゛−ザ光はほとんど総てパルス・レーザのみであり、
連続発撮のものは知られていない。たとえば、波長が２
００〜３００×１０’９Ｉｎ（以下１０’ｌ ｍをｎｍ
という）のエキシマレーザではパルス周波数は０．１〜
２００ Ｈｚであるが使用されるガスの寿命等によりエ
キシマレーザのパルス周波数は実用的には最大２０Ｈｚ
程度であるとされている。かかる短波長のパルス・レー
ザ光を被反応物質に照射しても化学反応を起すが反応率
が非常に低く実用化にはほど遠い場合がある。その理由
を鋭意研究した結果次のようなことが判明した。
あると判明した場合、その様ｄ波長域における高出力の
し゛−ザ光はほとんど総てパルス・レーザのみであり、
連続発撮のものは知られていない。たとえば、波長が２
００〜３００×１０’９Ｉｎ（以下１０’ｌ ｍをｎｍ
という）のエキシマレーザではパルス周波数は０．１〜
２００ Ｈｚであるが使用されるガスの寿命等によりエ
キシマレーザのパルス周波数は実用的には最大２０Ｈｚ
程度であるとされている。かかる短波長のパルス・レー
ザ光を被反応物質に照射しても化学反応を起すが反応率
が非常に低く実用化にはほど遠い場合がある。その理由
を鋭意研究した結果次のようなことが判明した。
即ちある物質がレーザ光を受けて化学反応を起すために
は、レーザ光の強さの他にある程度レーザ光の持続時間
を必要とする場合があり、又分子や原子がレーザ光によ
り励起されても、励起状態は当該分子又は原子の種類に
より特有の寿命があり、その寿命は１×１０°３３（以
下Ｉｍｓという） 〜１ｘ１０’２ ｓ （１０ｍ５
）のオーダの短寿命の場合がある。又先に述べた如く現
実の高出力の短波長域のレーザ発生装置はパルス周波数
が０．１〜２００Ｈｚ （実用的には最大２０セ）とい
ったパルス間隔が比較的長いものしかなく、これらのこ
とに起因して、被反応物質に短波長域のパルス光を照射
してもレーザ光の１パルスによっては励起しないか、た
とえ励起しても次のパルス光の到達前に失活してしまい
反応が進行しないことが分かった。
は、レーザ光の強さの他にある程度レーザ光の持続時間
を必要とする場合があり、又分子や原子がレーザ光によ
り励起されても、励起状態は当該分子又は原子の種類に
より特有の寿命があり、その寿命は１×１０°３３（以
下Ｉｍｓという） 〜１ｘ１０’２ ｓ （１０ｍ５
）のオーダの短寿命の場合がある。又先に述べた如く現
実の高出力の短波長域のレーザ発生装置はパルス周波数
が０．１〜２００Ｈｚ （実用的には最大２０セ）とい
ったパルス間隔が比較的長いものしかなく、これらのこ
とに起因して、被反応物質に短波長域のパルス光を照射
してもレーザ光の１パルスによっては励起しないか、た
とえ励起しても次のパルス光の到達前に失活してしまい
反応が進行しないことが分かった。
〈発明の目的〉
本発明は上述の研究に鑑み案出されたもので実用的に化
学反応を有効に誘起させることができる短波長域のパル
ス・レーザ光の照射方法を提供することを目的とする。
学反応を有効に誘起させることができる短波長域のパル
ス・レーザ光の照射方法を提供することを目的とする。
く問題点を解決するための手段〉
上記目的を達成するため本発明のパルス・レーザ光の照
射方法は、被反応物質にパルス・レーザ光を照射して、
被反応物質を励起させて化学反応を誘起させるパルス・
レーザ光の照射方法において、２以上のパルス・レーザ
光発生装置から順次時間遅れをもってパルス・レーザ光
を発生させ、これらのパルス・レーザ光を被反応物質に
照射することを特徴とするものである。
射方法は、被反応物質にパルス・レーザ光を照射して、
被反応物質を励起させて化学反応を誘起させるパルス・
レーザ光の照射方法において、２以上のパルス・レーザ
光発生装置から順次時間遅れをもってパルス・レーザ光
を発生させ、これらのパルス・レーザ光を被反応物質に
照射することを特徴とするものである。
く実 施 例〉
本発明のパルス・レーザ光の照射方法の実施例を図面を
参照して説明する。第１図は装置全・体の系統図であり
、第２図は起動信号とパルスレーザ光との関係を時系列
的に示す説明図である。１は起動信号発生器であり、２
．３はそれぞれパルス・レーザ発生装置Ａ１パルス・レ
ーザ発生装置Ｂである。起動信号発生器１には信号送出
端子１ａおよび１ｂが設けられており端子１ａから送出
される起動信号ａ１はインパルスであり、パルス・レー
ザ発生装置Ａ２に送られ、端子１ｂから送出される起動
信＠ａ２もインパルスであり、パルス・レーザ発生装置
Ｂ３に送られる。
参照して説明する。第１図は装置全・体の系統図であり
、第２図は起動信号とパルスレーザ光との関係を時系列
的に示す説明図である。１は起動信号発生器であり、２
．３はそれぞれパルス・レーザ発生装置Ａ１パルス・レ
ーザ発生装置Ｂである。起動信号発生器１には信号送出
端子１ａおよび１ｂが設けられており端子１ａから送出
される起動信号ａ１はインパルスであり、パルス・レー
ザ発生装置Ａ２に送られ、端子１ｂから送出される起動
信＠ａ２もインパルスであり、パルス・レーザ発生装置
Ｂ３に送られる。
パルス・レーザ発生装置２．３には起動信号受信端子２
ａ、３ａが設けられており、起動信号発生器１からの起
動信号ａ１、ａ２を受ける毎に１パルス光ｂ１、ｂｌを
発生するようになっている。４は反応器であり、内部に
被反応物質５が充填されている。パルス・レーザ発生装
置２．３からのレーザ光ｂ１、ｂｌは反応器４に設けら
れたガラス窓４ａ、 ４ｂを通して被反応物質５に照射
される。
ａ、３ａが設けられており、起動信号発生器１からの起
動信号ａ１、ａ２を受ける毎に１パルス光ｂ１、ｂｌを
発生するようになっている。４は反応器であり、内部に
被反応物質５が充填されている。パルス・レーザ発生装
置２．３からのレーザ光ｂ１、ｂｌは反応器４に設けら
れたガラス窓４ａ、 ４ｂを通して被反応物質５に照射
される。
次に作用を説明する。
起動信号発生器１からの起動信号ａ１、ａ２によってパ
ルス・レーザ発生装置２．３からパルス光ｂ１、ｂｌが
発生し被反応物質にパルス光の時系ケ１的な和す、 ＋
ｂｌが照射される。
ルス・レーザ発生装置２．３からパルス光ｂ１、ｂｌが
発生し被反応物質にパルス光の時系ケ１的な和す、 ＋
ｂｌが照射される。
すなわち起動信号発生器１からの起動信号ａｌ 、と起
動信号ａ２との間には図に示すように ｔｌなる時間お
くれがある。
動信号ａ２との間には図に示すように ｔｌなる時間お
くれがある。
それに従ってパルス・レーザ発生装置２．３からはパル
ス光ｂ１、ｂｌが発生するがｂｌとｂｌの間には上記と
同じｔｌなる時間おくれがある。
ス光ｂ１、ｂｌが発生するがｂｌとｂｌの間には上記と
同じｔｌなる時間おくれがある。
尚、起動信号発生器１は起動信号ａ１、ａ２の周波数が
パルス・レーザ発生装置２．３の発生可能なパルス周波
数の範囲内で任意に調節可能となってあり、又、遅れ時
間【１も任意に調節可能となっている。
パルス・レーザ発生装置２．３の発生可能なパルス周波
数の範囲内で任意に調節可能となってあり、又、遅れ時
間【１も任意に調節可能となっている。
尚、パルス・レーザ発生装置に通常内臓されている自己
のための起動信号発生器より起動信号を取り出し、時間
遅延装置を経て他のパルスレーザ発生装置に送ることに
より、独立の起動信号発生器は省略しうる。
のための起動信号発生器より起動信号を取り出し、時間
遅延装置を経て他のパルスレーザ発生装置に送ることに
より、独立の起動信号発生器は省略しうる。
以上はパルス・レーザ光発生装置が２台の場合について
の説明であるが、パルス・レーザ光発生装置が３台以上
であっても同様である。この場合には起動信号発生器１
の信号送出端子の数はパルス・レーザ光発生装置の台数
弁ｎだけあり各端子間の遅れ時間ｔ１、ｔ２・・・ｔｏ
−１はそれぞれ任意に調節可能となっている。従って全
体として被反応物質へ照射されるパルス・レーザ光は次
第に連続発掘のレーザ光に近づくことになる。尚、パル
ス・レーザ光発生装置は互いに同一種類同一波長のもの
でもよいし、異なった種類及び波長のもであってもよい
。
の説明であるが、パルス・レーザ光発生装置が３台以上
であっても同様である。この場合には起動信号発生器１
の信号送出端子の数はパルス・レーザ光発生装置の台数
弁ｎだけあり各端子間の遅れ時間ｔ１、ｔ２・・・ｔｏ
−１はそれぞれ任意に調節可能となっている。従って全
体として被反応物質へ照射されるパルス・レーザ光は次
第に連続発掘のレーザ光に近づくことになる。尚、パル
ス・レーザ光発生装置は互いに同一種類同一波長のもの
でもよいし、異なった種類及び波長のもであってもよい
。
〈発明の効果〉
本発明は以上詳細にのべた構成となっているので次のよ
うな効果がある。
うな効果がある。
（１）１パルスのレーザ光では化学反応を誘起するよう
な励起状態とならない被反応物質の場合にも、複数のパ
ルス・レーザ光発生装置から順次続けて被反応物質にパ
ルス・レーザ光を照射できるので、容易に励起状態とな
り、化学反応が誘起される。
な励起状態とならない被反応物質の場合にも、複数のパ
ルス・レーザ光発生装置から順次続けて被反応物質にパ
ルス・レーザ光を照射できるので、容易に励起状態とな
り、化学反応が誘起される。
■ １パルスのレーザ光で励起状態となるが、次反応に
もレーザ光を必要とする場合、励起状態の寿命がレーザ
光パルス間隔に比べて短く、はとんど化学反応を起さな
いうちに失活してしまうような被反応ｖＩＪ質の場合に
も、励起状態が失活しないうちに順次適当な時間おくれ
を持たせてパルス・レーザ光を被反応物質に照射するの
で化学反応が連続して進行する。
もレーザ光を必要とする場合、励起状態の寿命がレーザ
光パルス間隔に比べて短く、はとんど化学反応を起さな
いうちに失活してしまうような被反応ｖＩＪ質の場合に
も、励起状態が失活しないうちに順次適当な時間おくれ
を持たせてパルス・レーザ光を被反応物質に照射するの
で化学反応が連続して進行する。
第１図は本発明を実施するための装置の系統図、第２図
は起動信号パルス・レーザ光の関係を時系列的に示す説
明図である。 １・・・・・・起動信号発生器 ・２・・・・・・パルス・レーザ発生装置Ａ３・・・・
・・パルス・レーザ発生器＠Ｂ４・・・・・・反応器 ５・・・・・・被反応物質
は起動信号パルス・レーザ光の関係を時系列的に示す説
明図である。 １・・・・・・起動信号発生器 ・２・・・・・・パルス・レーザ発生装置Ａ３・・・・
・・パルス・レーザ発生器＠Ｂ４・・・・・・反応器 ５・・・・・・被反応物質
Claims (1)
- 被反応物質にパルス・レーザ光を照射して、被反応物
質を励起させて化学反応を誘起させるパルス・レーザ光
の照射方法において、２以上のパルス・レーザ光発生装
置から順次時間遅れをもってパルス・レーザ光を発生さ
せ、これらパルス・レーザ光を被反応物質に照射するこ
とを特徴とするパルス・レーザ光照射方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21736484A JPS6197816A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | パルス・レ−ザ光の照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21736484A JPS6197816A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | パルス・レ−ザ光の照射方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6197816A true JPS6197816A (ja) | 1986-05-16 |
Family
ID=16703016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21736484A Pending JPS6197816A (ja) | 1984-10-18 | 1984-10-18 | パルス・レ−ザ光の照射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6197816A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0360015A (ja) * | 1989-07-27 | 1991-03-15 | Sanyo Electric Co Ltd | レーザアニール装置 |
-
1984
- 1984-10-18 JP JP21736484A patent/JPS6197816A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0360015A (ja) * | 1989-07-27 | 1991-03-15 | Sanyo Electric Co Ltd | レーザアニール装置 |
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