JPS6199362A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPS6199362A JPS6199362A JP59221525A JP22152584A JPS6199362A JP S6199362 A JPS6199362 A JP S6199362A JP 59221525 A JP59221525 A JP 59221525A JP 22152584 A JP22152584 A JP 22152584A JP S6199362 A JPS6199362 A JP S6199362A
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- chips
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Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は複数個の半導体チップを結合してなる半導体装
置に関する。
置に関する。
大規模集積回路(LSI)の高機能化、高集積化により
、近年各種機能の回路を同−LSI内に構成する場合が
多くなってきた。例えばCMOSとTTL、またはアナ
ログと0MO3のディジタル、さらにインクフェイス回
路を設けて0MO3とECL等の構成を有するLSIの
要求に対し、同一チップ内に構成することは困難である
。無理をして強行しても製造工程上、またその歩留りの
上からも極めて不利である。
、近年各種機能の回路を同−LSI内に構成する場合が
多くなってきた。例えばCMOSとTTL、またはアナ
ログと0MO3のディジタル、さらにインクフェイス回
路を設けて0MO3とECL等の構成を有するLSIの
要求に対し、同一チップ内に構成することは困難である
。無理をして強行しても製造工程上、またその歩留りの
上からも極めて不利である。
従って回路機能別に独立のチップを用いれば、それぞれ
に最適なプロセスが適用でき、各機能毎の特徴が生かせ
ることになり、そのため複数個のチップを結合してなる
LSIが検討されるようになった。
に最適なプロセスが適用でき、各機能毎の特徴が生かせ
ることになり、そのため複数個のチップを結合してなる
LSIが検討されるようになった。
この場合LSIは、有効なチップ間結合手段が必要にな
る。
る。
第2図は従来例による2個のチップよりなるLSIの断
面図である。
面図である。
図において、パッケージ8の上に第1のチップ1を搭載
し、その上に第2のチップ4をフェイスアップに載せ、
パッド(ボンディングするための接続端子)3,5をワ
イヤ6でボンディングして両チップを結線する。つぎに
第1のチップ1の周辺のバッド2と、パフケージ8にメ
タライズして形成された内部リード9とをワイヤ7でボ
ンディングする。内部リード9はパッケージの外部り−
ド10に接続されている。11はパッケージの蓋を示す
。
し、その上に第2のチップ4をフェイスアップに載せ、
パッド(ボンディングするための接続端子)3,5をワ
イヤ6でボンディングして両チップを結線する。つぎに
第1のチップ1の周辺のバッド2と、パフケージ8にメ
タライズして形成された内部リード9とをワイヤ7でボ
ンディングする。内部リード9はパッケージの外部り−
ド10に接続されている。11はパッケージの蓋を示す
。
この例では両チップの結線をパッド間のワイヤボンディ
ングで行ったが、第1のチップ1の上に第2のチップ4
をフェイスダウンに載せ、バンプ(隆起した接続端子)
、ビームリードを用いて行う場合もある。
ングで行ったが、第1のチップ1の上に第2のチップ4
をフェイスダウンに載せ、バンプ(隆起した接続端子)
、ビームリードを用いて行う場合もある。
従来例によるチップ間の結合は、パッドまたはバンプ等
を結線して行うため大きな面積を必要とした。
を結線して行うため大きな面積を必要とした。
チップ間は電気的に接続されるため、各チップの電位を
自由に設定できない。インタフェイスは例えば信号を送
る方のチップのレベルがTTLの場合は、受ける方のチ
ップのレベルもTTLでなければならない。
自由に設定できない。インタフェイスは例えば信号を送
る方のチップのレベルがTTLの場合は、受ける方のチ
ップのレベルもTTLでなければならない。
上記問題点の解決は、複数個の半導体チップを噴
その表面が対向するよう積み重ね、チップ間の信号伝送
を該表面間での光信号で行う手段を有する本発明による
半導体装置により達成される。
を該表面間での光信号で行う手段を有する本発明による
半導体装置により達成される。
各チップに設ける発、受光素子の面積はパッドやバンプ
より小さい面積で形成でき、高集積化が可能となる。
より小さい面積で形成でき、高集積化が可能となる。
またチップ間の信号伝送を光信号で行うため、チップ間
は電位的に分離され、設計の自由度が増す。
は電位的に分離され、設計の自由度が増す。
第1図(a)、 (blはそれぞれ本発明による2個の
チップよりなるLSIの断面図、光伝送部を拡大した断
面図である。
チップよりなるLSIの断面図、光伝送部を拡大した断
面図である。
図において、パフケー、ジ8の上に第1のチップ1を搭
載し、その上に第2のチップ4をフェイスダウンに載せ
1.バンプ3,5を溶着して両チップの電源等電流の流
れる所を結線する。つぎに第1のチップlの周辺のパッ
ド2と、パッケージ8にメタライズして形成された内部
リード9とをワイヤ7でボンディングする。内部リード
9はパッケージの外部リード10に接続されている。1
1はパッケージの苦を示す。
載し、その上に第2のチップ4をフェイスダウンに載せ
1.バンプ3,5を溶着して両チップの電源等電流の流
れる所を結線する。つぎに第1のチップlの周辺のパッ
ド2と、パッケージ8にメタライズして形成された内部
リード9とをワイヤ7でボンディングする。内部リード
9はパッケージの外部リード10に接続されている。1
1はパッケージの苦を示す。
ここでチップ間の信号の伝達、交換は発光素子12と受
光素子13により光で行う。第1図(blに示されるよ
うに発光素子12としてエミッターベース間のブレーク
ダウン発光を用いたトランジスタを、受光素子13とし
てベース開放のフォトトランジスタを用いる。
光素子13により光で行う。第1図(blに示されるよ
うに発光素子12としてエミッターベース間のブレーク
ダウン発光を用いたトランジスタを、受光素子13とし
てベース開放のフォトトランジスタを用いる。
第1のチップ1は、珪素(Si)を用い低速部と電源回
路を形成する。
路を形成する。
第2のチップ4は、ガリウム砒素(GaAs)を用い高
速部を形成し、ここである程度まとまった処理を済ませ
、結果的に遅い信号授受でよいような構成にして、光に
より第1のチップ1と信号授受を行う。
速部を形成し、ここである程度まとまった処理を済ませ
、結果的に遅い信号授受でよいような構成にして、光に
より第1のチップ1と信号授受を行う。
例えば第2のチップ4はプロセッサを構成し、内部は回
路を簡単化するため1ビツトの演算器にする。しかし出
力はパラレルになるようにインクフェイスを考慮すれば
よい。しかし第2のチップ4は高価であるためパラレル
処理の回路をチップに入れるとチップサイズは大きくな
り、歩留りが低下する。
路を簡単化するため1ビツトの演算器にする。しかし出
力はパラレルになるようにインクフェイスを考慮すれば
よい。しかし第2のチップ4は高価であるためパラレル
処理の回路をチップに入れるとチップサイズは大きくな
り、歩留りが低下する。
ここでは1ビツトを直列処理する簡単な回路にしたため
、その高速性を生かしてビットを小さく落とした演算処
理をして、結果だけを光でやりとりをする。
、その高速性を生かしてビットを小さく落とした演算処
理をして、結果だけを光でやりとりをする。
以上のようにシリアルに処理したデータをパラレルに出
すような構成に適している。
すような構成に適している。
以上説明したように本発明によれば、
1、チップ2個を1チップ分の面積で構成できる。
ii、各チップは異なるテクノロジのLSIで構成でき
る。
る。
iii 、チップ間の信号の伝達手段に要する面積はパ
ッドまたはバンプより小さくてすむ。
ッドまたはバンプより小さくてすむ。
iv、チップ間の電位は自由に選択できる。
第1図(a)、 (blはそれぞれ本発明による2個の
チップよりなるLSIの断面図、光伝送部を拡大した断
面図である。 第2図は従来例による2個のチップよりなるLsrの断
面図である。 図において、 1は第1のチップ、 2はパッド、 3.5はバンプ、 4は第2のチップ、6.7はワ
イヤ、 8はパッケージ、9は内部リード、
10は外部リード、11は蓋、 12は発光
素子、13は受光素子 を示す。 第1記 滲2侶
チップよりなるLSIの断面図、光伝送部を拡大した断
面図である。 第2図は従来例による2個のチップよりなるLsrの断
面図である。 図において、 1は第1のチップ、 2はパッド、 3.5はバンプ、 4は第2のチップ、6.7はワ
イヤ、 8はパッケージ、9は内部リード、
10は外部リード、11は蓋、 12は発光
素子、13は受光素子 を示す。 第1記 滲2侶
Claims (1)
- 複数個の半導体チップをその表面が対向するよう積み
重ね、チップ間の信号伝送を該表面間での光信号で行う
手段を有することを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221525A JPS6199362A (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59221525A JPS6199362A (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199362A true JPS6199362A (ja) | 1986-05-17 |
Family
ID=16768076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59221525A Pending JPS6199362A (ja) | 1984-10-22 | 1984-10-22 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6199362A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999044236A1 (fr) * | 1998-02-27 | 1999-09-02 | Seiko Epson Corporation | Procede servant a fabriquer un composant tridimensionnel |
| WO1999045593A1 (fr) * | 1998-03-02 | 1999-09-10 | Seiko Epson Corporation | Dispositif tridimensionnel |
| US6777801B2 (en) | 2000-03-17 | 2004-08-17 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
| US7112468B2 (en) | 1998-09-25 | 2006-09-26 | Stmicroelectronics, Inc. | Stacked multi-component integrated circuit microprocessor |
| US7554169B2 (en) * | 2002-12-17 | 2009-06-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| JP2009260373A (ja) * | 2009-07-27 | 2009-11-05 | Fujitsu Microelectronics Ltd | 半導体装置及びその製造方法及び半導体基板 |
-
1984
- 1984-10-22 JP JP59221525A patent/JPS6199362A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999044236A1 (fr) * | 1998-02-27 | 1999-09-02 | Seiko Epson Corporation | Procede servant a fabriquer un composant tridimensionnel |
| EP0986104A4 (en) * | 1998-02-27 | 2003-07-30 | Seiko Epson Corp | MANUFACTURING METHOD FOR A THREE-DIMENSIONAL COMPONENT |
| US6627518B1 (en) | 1998-02-27 | 2003-09-30 | Seiko Epson Corporation | Method for making three-dimensional device |
| WO1999045593A1 (fr) * | 1998-03-02 | 1999-09-10 | Seiko Epson Corporation | Dispositif tridimensionnel |
| US6846703B2 (en) | 1998-03-02 | 2005-01-25 | Seiko Epson Corporation | Three-dimensional device |
| US7112468B2 (en) | 1998-09-25 | 2006-09-26 | Stmicroelectronics, Inc. | Stacked multi-component integrated circuit microprocessor |
| US6905913B2 (en) | 2000-03-17 | 2005-06-14 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
| US6777801B2 (en) | 2000-03-17 | 2004-08-17 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
| US7414320B2 (en) | 2000-03-17 | 2008-08-19 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing same |
| US7554169B2 (en) * | 2002-12-17 | 2009-06-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| US7939831B2 (en) | 2002-12-17 | 2011-05-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| US8153506B2 (en) | 2002-12-17 | 2012-04-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| JP2009260373A (ja) * | 2009-07-27 | 2009-11-05 | Fujitsu Microelectronics Ltd | 半導体装置及びその製造方法及び半導体基板 |
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