JPS6199924A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6199924A JPS6199924A JP59219526A JP21952684A JPS6199924A JP S6199924 A JPS6199924 A JP S6199924A JP 59219526 A JP59219526 A JP 59219526A JP 21952684 A JP21952684 A JP 21952684A JP S6199924 A JPS6199924 A JP S6199924A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- recording medium
- magnetic
- film
- coo
- Prior art date
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- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に適する磁気記録媒体に関する
。
。
従来例の構成とその問題点
近年磁気記録の高密度化の要求の高まりと共に、従来の
長手記録にない特長を有する垂直記録方式が提案され、
検討されている。
長手記録にない特長を有する垂直記録方式が提案され、
検討されている。
垂直記録方式は、テープ、ディスク等の磁気記録媒体の
走行方向と垂直方向、即ち磁気記録層の厚み方向に磁化
容易軸をもった磁気記録媒体を使用し、磁気記録媒体を
厚さ方向に磁化しかつこの方向に磁化を残留させるよう
構成されたもので、こうすることで自串減磁界が短波長
になる程小さくでき、結果的に高密度化が可能になるも
のとして注目されるものである。
走行方向と垂直方向、即ち磁気記録層の厚み方向に磁化
容易軸をもった磁気記録媒体を使用し、磁気記録媒体を
厚さ方向に磁化しかつこの方向に磁化を残留させるよう
構成されたもので、こうすることで自串減磁界が短波長
になる程小さくでき、結果的に高密度化が可能になるも
のとして注目されるものである。
第1図に構成の一例を示したように、高分子フィルム等
の非磁性基板2上に軟磁性層3とGo −Or等の垂直
磁化膜4を積層したものが磁気ディスク又は磁気テープ
1として用いられる。
の非磁性基板2上に軟磁性層3とGo −Or等の垂直
磁化膜4を積層したものが磁気ディスク又は磁気テープ
1として用いられる。
かかる媒体構成を量産の面から眺めると、Co −Or
垂直磁化膜は、性能上からは極めて膜形成速度の小さ
いスパッタリング法で得られる膜が適しており、量産性
で優れる電子ビーム蒸着法にて得ることのできるものは
、CoとCrの蒸気圧が異なるため、蒸着制御がはん雑
になる点と、性能も十分とは言えず、特に高抗磁力番得
るのに、基板温度を高温にする必要がある点も実用化の
隘路となっている。
垂直磁化膜は、性能上からは極めて膜形成速度の小さ
いスパッタリング法で得られる膜が適しており、量産性
で優れる電子ビーム蒸着法にて得ることのできるものは
、CoとCrの蒸気圧が異なるため、蒸着制御がはん雑
になる点と、性能も十分とは言えず、特に高抗磁力番得
るのに、基板温度を高温にする必要がある点も実用化の
隘路となっている。
最近になって、長手記録で用いられているGO−O,G
o −Ni−0系の斜方蒸着膜と類似の製法で、基板温
度をそれ程高くしなくても高抗磁力が得られるGo −
’O、Co −Ni−0垂直磁化膜がCo −Crに代
シ注目されている。
o −Ni−0系の斜方蒸着膜と類似の製法で、基板温
度をそれ程高くしなくても高抗磁力が得られるGo −
’O、Co −Ni−0垂直磁化膜がCo −Crに代
シ注目されている。
しかし、垂直磁化可能な膜をGo−0,Co−Nニー〇
膜で得ることは、前記したように長手記録用の磁気テー
プの生産技術の裏付けがあるので、比較的容易であるが
、逆に性能面からは、Go −Orスパッタ膜に比較す
ると不十分である。
膜で得ることは、前記したように長手記録用の磁気テー
プの生産技術の裏付けがあるので、比較的容易であるが
、逆に性能面からは、Go −Orスパッタ膜に比較す
ると不十分である。
と9わけ信号対雑音面(S/N )が実用上必要な値に
遠く及ばず、特に高密度記録時の雑音は改良を必要とす
る。
遠く及ばず、特に高密度記録時の雑音は改良を必要とす
る。
発明の目的
本発明は上記事情に鑑みなされたものでGo−0又はQ
□ −Ni −0垂直磁化膜を磁気記録層とする磁気記
録媒体の高密度記録時の雑音を改良し、S/Nの優れた
垂直磁気記録を実現することを目。
□ −Ni −0垂直磁化膜を磁気記録層とする磁気記
録媒体の高密度記録時の雑音を改良し、S/Nの優れた
垂直磁気記録を実現することを目。
的とするものである。
発明の構成
本発明の磁気記録媒体はGo−0,又はGo −Ni−
0系の垂直磁化膜を磁気記録層とし、表層部のCoO含
有率が10%以下であることを特徴とし、高密度記録時
のS/Nが良好なものである。
0系の垂直磁化膜を磁気記録層とし、表層部のCoO含
有率が10%以下であることを特徴とし、高密度記録時
のS/Nが良好なものである。
実施例の説明
以下図面を参照しながら本発明を説明する。
第2図は本発明の磁気記録媒体の要部部分拡大断面図で
ある。
ある。
第2図で、5は垂直磁化膜を構成する微結晶粒子で、薄
膜の厚みをt。とすると、ここでいう表層部とは0.2
toまでの表面側の部分6をさしている。7は基板又
は軟磁性層である。
膜の厚みをt。とすると、ここでいう表層部とは0.2
toまでの表面側の部分6をさしている。7は基板又
は軟磁性層である。
表層部に含まれるCoOの体積比率で10%以下である
ことの臨界的意義は、後述するように雑音レベルの規制
からくるもので、0.2 toが0.01μmから0.
1 μmの範囲に於て確認されるものである。
ことの臨界的意義は、後述するように雑音レベルの規制
からくるもので、0.2 toが0.01μmから0.
1 μmの範囲に於て確認されるものである。
Co Oの体積比率をこの範囲にするには、(lio(
OH)2. Ga2O3で表面保護層を主として構成す
るようにすれば良い。
OH)2. Ga2O3で表面保護層を主として構成す
るようにすれば良い。
特にGa5O4で構成した媒体は耐腐食性の面で改良さ
れる利点がある。
れる利点がある。
雑音の発生源のうちcoとGo Oの強磁性9反強磁性
の相互作用の大小によシ磁気的ムラが生じるために起る
成分が、CoOが10%以下になると殆んど実用上差し
支えなくなるのに対し、10%以上になると、記録波長
が0.4μm以下で、2〜3dB増加するので、10%
以下にCoOを抑制するのが好ましい。
の相互作用の大小によシ磁気的ムラが生じるために起る
成分が、CoOが10%以下になると殆んど実用上差し
支えなくなるのに対し、10%以上になると、記録波長
が0.4μm以下で、2〜3dB増加するので、10%
以下にCoOを抑制するのが好ましい。
本発明の磁気記録媒体を製造するには、例えば高分子基
板を円筒状キャンに沿わせて巻取りながら、はぼ垂直入
射となるような入射角成分のC。
板を円筒状キャンに沿わせて巻取りながら、はぼ垂直入
射となるような入射角成分のC。
又はCo −Ni蒸気を差し向け、その時、酸素又はオ
ゾンを真空系内に導入して得たGo−0、又はGo −
Ni −0垂直磁化膜を、酸素雰囲気で40°C〜80
’Cで長時間、例えば64時間から120時間エージン
グする方法が一例として挙げられる。
ゾンを真空系内に導入して得たGo−0、又はGo −
Ni −0垂直磁化膜を、酸素雰囲気で40°C〜80
’Cで長時間、例えば64時間から120時間エージン
グする方法が一例として挙げられる。
以下さらに具体的に一実施例について説明する。
(実施例)
厚み11μmのポリアミド基板を60”/Cd。
0.3 Torrで酸素グロー放電処理し、高周波スパ
ッタリング法で厚さ0.39μmのパーマロイ薄膜(透
磁率760)を形成し、その上に、各種のCoO含有率
を有する0、15μmのCoO垂直磁化膜を形成し、S
/Nを片側配置の垂直ヘッドで相対比較した。
ッタリング法で厚さ0.39μmのパーマロイ薄膜(透
磁率760)を形成し、その上に、各種のCoO含有率
を有する0、15μmのCoO垂直磁化膜を形成し、S
/Nを片側配置の垂直ヘッドで相対比較した。
垂直磁化膜の形成条件は、基板温度:O’C〜34℃、
酸素分圧: I Xl 0”TOrr〜4×10−’T
orr 、 Go蒸着速度:14o入/ sea 〜1
900人/sea、入射角=6度以内で選び、CoO含
有率を変化させるための後処理は、35°C88%RH
で40時間から120時間のエージング処理と、13.
156M)lzでe W/cd 〜44 W/c4 、
o2o、oe〜o、4Torrの高周波グロー放電処
理の2種類のいずれかを用いた。COO含有率は、X線
電子分光分析によシ調べた。
酸素分圧: I Xl 0”TOrr〜4×10−’T
orr 、 Go蒸着速度:14o入/ sea 〜1
900人/sea、入射角=6度以内で選び、CoO含
有率を変化させるための後処理は、35°C88%RH
で40時間から120時間のエージング処理と、13.
156M)lzでe W/cd 〜44 W/c4 、
o2o、oe〜o、4Torrの高周波グロー放電処
理の2種類のいずれかを用いた。COO含有率は、X線
電子分光分析によシ調べた。
尚記録ビットは0.2μm×12μmである。
以 下 余 白
尚、比較のために、0.15μmのCo Crで垂直磁
化膜を〔垂直抗磁力goo(Oe)、飽和磁束密度40
00(G):]構成して得たテープのS/Nは、−o、
4(dB)であった。
化膜を〔垂直抗磁力goo(Oe)、飽和磁束密度40
00(G):]構成して得たテープのS/Nは、−o、
4(dB)であった。
このデータ及び上表の結果より、本発明の磁気記録媒体
は、高密度記録再生でのS/Nが極めて良好である。
は、高密度記録再生でのS/Nが極めて良好である。
又主としてCO3O4で表層部の保護層が形成された媒
体は、40°C90%RH,60’CB5%RHの環境
に2ケ月保存しても、前後で総磁束の変化は殆んどみら
れない点も有利である。
体は、40°C90%RH,60’CB5%RHの環境
に2ケ月保存しても、前後で総磁束の変化は殆んどみら
れない点も有利である。
尚、本発明は、磁気テープはもとよシ、磁気ディスクに
於ても全く同様の効果を発揮することは勿論であるし、
他の材料でもほぼ同様の効果のあることを確認している
。
於ても全く同様の効果を発揮することは勿論であるし、
他の材料でもほぼ同様の効果のあることを確認している
。
発明の効果
以上のように、本発明の磁気記録媒体は、表層部のCo
O含有率を10%以下にしたGo−0,又はCo −N
i −0系垂直磁化膜を磁気記録層とすることでS/N
を高密度記録再生時に改良できるものでその実用的効果
は大きい。
O含有率を10%以下にしたGo−0,又はCo −N
i −0系垂直磁化膜を磁気記録層とすることでS/N
を高密度記録再生時に改良できるものでその実用的効果
は大きい。
第1図は垂直記録用の磁気記録媒体の断面図、第2図は
本発明の磁気記録媒体の部分拡大断面図である。 5・・・・・・垂直磁化膜を構成する微結晶、6・・・
・・・表層部分。 代理人の氏名 去理士 中 尾 敏 男 はが1名第1
図 θ、?t。
本発明の磁気記録媒体の部分拡大断面図である。 5・・・・・・垂直磁化膜を構成する微結晶、6・・・
・・・表層部分。 代理人の氏名 去理士 中 尾 敏 男 はが1名第1
図 θ、?t。
Claims (1)
- Co−O又はCo−Ni−O系の垂直磁化膜を磁気記録
層とし、表層部のCoO含有率が10%以下であること
を特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219526A JPS6199924A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59219526A JPS6199924A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6199924A true JPS6199924A (ja) | 1986-05-19 |
Family
ID=16736858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59219526A Pending JPS6199924A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6199924A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58189823A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS59162622A (ja) * | 1983-03-08 | 1984-09-13 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体並にその製造法 |
| JPS59163810A (ja) * | 1983-03-08 | 1984-09-14 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体並びにその製造法 |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP59219526A patent/JPS6199924A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58189823A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-05 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPS59162622A (ja) * | 1983-03-08 | 1984-09-13 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体並にその製造法 |
| JPS59163810A (ja) * | 1983-03-08 | 1984-09-14 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体並びにその製造法 |
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