JPS62127614A - レ−ザ光による表面変位計測法 - Google Patents
レ−ザ光による表面変位計測法Info
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- JPS62127614A JPS62127614A JP26859585A JP26859585A JPS62127614A JP S62127614 A JPS62127614 A JP S62127614A JP 26859585 A JP26859585 A JP 26859585A JP 26859585 A JP26859585 A JP 26859585A JP S62127614 A JPS62127614 A JP S62127614A
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- Japan
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- laser
- slit
- light
- laser light
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- Pending
Links
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えばタービン・ブレード争プロファイル
計測等に適用されるレーザ光による表面変位計測法に関
する。
計測等に適用されるレーザ光による表面変位計測法に関
する。
タービン・ブレード・プロファイル計測等の分野では、
レーザ光をタービン表面に照射してその反射光の変化に
よってプロファイルを測定する技術が知られている。
レーザ光をタービン表面に照射してその反射光の変化に
よってプロファイルを測定する技術が知られている。
この技術には、例えば第３図に示すようなレーザ変位計
１が使用される。このレーザ変位計１は、レーザ光源と
しての半導体レーザ２から照射側集束レンズ３を介して
、被測定物体であるワーク４の表面にレーザビームＬを
照射し、その反射光Ｒを受光側集束レンズ５を介してデ
テクタ（ｐｏｓｉｔｉｏｎ ５ｅｎｓ＋ｔ＋ｖ ｔｉｅ
ｔｅｃｔｏｒ） ６上に結像するものである。この構成
によれば、デテクタ６上の受光位置によってワーク４の
表面変位を検出することができる。
１が使用される。このレーザ変位計１は、レーザ光源と
しての半導体レーザ２から照射側集束レンズ３を介して
、被測定物体であるワーク４の表面にレーザビームＬを
照射し、その反射光Ｒを受光側集束レンズ５を介してデ
テクタ（ｐｏｓｉｔｉｏｎ ５ｅｎｓ＋ｔ＋ｖ ｔｉｅ
ｔｅｃｔｏｒ） ６上に結像するものである。この構成
によれば、デテクタ６上の受光位置によってワーク４の
表面変位を検出することができる。
ところが、一般に半導体レーザのビームモードは決して
きれいではなく、色々な波長光による影響や、その構造
的な要因によって、レーザビーム光の形状が第２図（ａ
＞にその斜視図（ｄ）、横断面形状（ｅ）および縦断面
形状（ｆ）を示すように極めて不均一なものであった。
きれいではなく、色々な波長光による影響や、その構造
的な要因によって、レーザビーム光の形状が第２図（ａ
＞にその斜視図（ｄ）、横断面形状（ｅ）および縦断面
形状（ｆ）を示すように極めて不均一なものであった。
したがって、このレーザビームの形状が原因で生ずる外
乱によってレーザ変位計の精度に悪影響を及ぼしていた
。
乱によってレーザ変位計の精度に悪影響を及ぼしていた
。
本発明は、このような問題に基づきなされたもので、レ
ーザ光のビームを整形して精度の良い表面変位測定を可
能にするレーザ光による表面変位計測法を提供すること
を目的とする。
ーザ光のビームを整形して精度の良い表面変位測定を可
能にするレーザ光による表面変位計測法を提供すること
を目的とする。
本発明は、半導体レーザからのレーザ光源を照射側集光
レンズを通してワークの表面に当て、その反射光を受光
側集光レンズで集光のうえデテクタで受光して、この受
光位置の変位を検出することにより前記ワークの表面の
変位を測定する方法において、前記照射側集光レンズで
集光されたレーザ光をさらにスリットで整形した後、集
光レンズで集光して前記ワークに照射するようにしたこ
とを特徴としている。
レンズを通してワークの表面に当て、その反射光を受光
側集光レンズで集光のうえデテクタで受光して、この受
光位置の変位を検出することにより前記ワークの表面の
変位を測定する方法において、前記照射側集光レンズで
集光されたレーザ光をさらにスリットで整形した後、集
光レンズで集光して前記ワークに照射するようにしたこ
とを特徴としている。
〔作用〕
半導体レーザが出射され出射側集光レンズで集光された
レーザ光は、スリットによって整形され、さらに集光レ
ンズによって集光される。したがって、ワークにはきれ
いなビームスポットが照射される。ワークからの反射光
は受光側集光レンズによって集光されデテクタにより検
出される。
レーザ光は、スリットによって整形され、さらに集光レ
ンズによって集光される。したがって、ワークにはきれ
いなビームスポットが照射される。ワークからの反射光
は受光側集光レンズによって集光されデテクタにより検
出される。
ｒ実施例〕
以下、図面に基づきながら本発明の一実施例について説
明する。
明する。
第１図は、本発明を実施するためのレーザ変位計１１の
構成を示す図である。半導体レーザ１２は、図示しない
レーザ駆動回路によってその出力を制御される。半導体
レーザ１２からのレーザ光りは、照射側集束レンズ１４
で集束され、さらにスリット１５で整形された後、集光
レンズ１６で集光され、被検出物体であるワーク４に所
定のビームスポット径で照射される。ワーク４からの、
入射光に対してα°の角度をなす反射光Ｒは、受光側集
束レンズ１６で集束され、デテクタ１７で検出される。
構成を示す図である。半導体レーザ１２は、図示しない
レーザ駆動回路によってその出力を制御される。半導体
レーザ１２からのレーザ光りは、照射側集束レンズ１４
で集束され、さらにスリット１５で整形された後、集光
レンズ１６で集光され、被検出物体であるワーク４に所
定のビームスポット径で照射される。ワーク４からの、
入射光に対してα°の角度をなす反射光Ｒは、受光側集
束レンズ１６で集束され、デテクタ１７で検出される。
デテクタ１７は、例えば、その受光位置によって出力が
変化するものであり、この出力によってワーク４の表面
変位を求めることができる。
変化するものであり、この出力によってワーク４の表面
変位を求めることができる。
ところで、いま、スリット１４に結像されるレーザビー
ムの径がａであるとすれば、スリット１４の穴径すがｂ
＜ａの条件を満たせば、レーザビームは整形される。し
たがって、第２図（ａ）に示すようなレーザビームうち
、図示の範囲で整形を行なえば、同図（ｂ）に斜視図（
０）、横断面図（ｈ）および縦断面図（ｉ＞を示すよう
に、きれいな真円のビームを得ることができる。
ムの径がａであるとすれば、スリット１４の穴径すがｂ
＜ａの条件を満たせば、レーザビームは整形される。し
たがって、第２図（ａ）に示すようなレーザビームうち
、図示の範囲で整形を行なえば、同図（ｂ）に斜視図（
０）、横断面図（ｈ）および縦断面図（ｉ＞を示すよう
に、きれいな真円のビームを得ることができる。
このように本発明によれば、レーザビームの形状が原因
の外乱が取り除かれ、計測精度の向上化を図ることがで
きる。
の外乱が取り除かれ、計測精度の向上化を図ることがで
きる。
第１図は本発明の一実施例に係るレーザ変位計のブロッ
ク図、第２図は同変位計で得られるレーザビームの形状
を従来例と比較して示す図、第３図は従来のレーザ変位
計の構成を示すブロック図である。 １．１１・・・レーザ変位計、２．１２川半導体レーザ
、３，１３・・・照射側集束レンズ、４・・・ワーク、
５．１６・・・受光側集束レンズ、６，１７・・・デテ
クタ、１４・・・スリット、１５・・・集束レンズ、Ｌ
・・・レーザ光、Ｒ・・・反射光。 出願人復代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第３図
ク図、第２図は同変位計で得られるレーザビームの形状
を従来例と比較して示す図、第３図は従来のレーザ変位
計の構成を示すブロック図である。 １．１１・・・レーザ変位計、２．１２川半導体レーザ
、３，１３・・・照射側集束レンズ、４・・・ワーク、
５．１６・・・受光側集束レンズ、６，１７・・・デテ
クタ、１４・・・スリット、１５・・・集束レンズ、Ｌ
・・・レーザ光、Ｒ・・・反射光。 出願人復代理人 弁理士 鈴江武彦 第１図 第３図
Claims (1)
- 半導体レーザからのレーザ光源を照射側集光レンズを通
してワークの表面に当て、その反射光を受光側集光レン
ズで集光のうえデテクタで受光して、この受光位置の変
位を検出することにより前記ワークの表面の変位を測定
する方法において、前記照射側集光レンズで集光された
レーザ光をさらにスリットで整形した後、集光レンズで
集光して前記ワークに照射するようにしたことを特徴と
するレーザ光による表面変位計測法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26859585A JPS62127614A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | レ−ザ光による表面変位計測法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26859585A JPS62127614A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | レ−ザ光による表面変位計測法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62127614A true JPS62127614A (ja) | 1987-06-09 |
Family
ID=17460712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26859585A Pending JPS62127614A (ja) | 1985-11-29 | 1985-11-29 | レ−ザ光による表面変位計測法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62127614A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5973777A (en) * | 1996-06-25 | 1999-10-26 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting defects of surface shape |
| WO2005003682A1 (en) * | 2003-07-08 | 2005-01-13 | Heon Jeong | Apparatus for detecting adhered portion or edge of sheet |
| JP2009025125A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Nikon Corp | 形状測定装置 |
-
1985
- 1985-11-29 JP JP26859585A patent/JPS62127614A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5973777A (en) * | 1996-06-25 | 1999-10-26 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for inspecting defects of surface shape |
| WO2005003682A1 (en) * | 2003-07-08 | 2005-01-13 | Heon Jeong | Apparatus for detecting adhered portion or edge of sheet |
| JP2009025125A (ja) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Nikon Corp | 形状測定装置 |
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