JPS6213287B2 - - Google Patents
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- JPS6213287B2 JPS6213287B2 JP54028184A JP2818479A JPS6213287B2 JP S6213287 B2 JPS6213287 B2 JP S6213287B2 JP 54028184 A JP54028184 A JP 54028184A JP 2818479 A JP2818479 A JP 2818479A JP S6213287 B2 JPS6213287 B2 JP S6213287B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G3/00—Compounds of copper
- C01G3/10—Sulfates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属銅を、Cu2+イオン及びSO4 2-イオ
ンを含有する浸出液により溶解し、次いで酸化剤
としての酸素含有ガスで処理することにより硫酸
銅溶液を製造する方法に関し、この方法は密に堆
積された金属銅の浸出及び不溶性物質で著しく汚
染された金属銅の浸出にも適用され得る。
ンを含有する浸出液により溶解し、次いで酸化剤
としての酸素含有ガスで処理することにより硫酸
銅溶液を製造する方法に関し、この方法は密に堆
積された金属銅の浸出及び不溶性物質で著しく汚
染された金属銅の浸出にも適用され得る。
硫酸銅溶液を工業的に製造するには、なかんず
く酸化銅を原料として、これを硫酸液に溶解する
方法(西ドイツ特許第1007307号明細書)、或いは
金属銅を硫酸溶液で酸素の存在下に浸出する方法
〔西ドイツ特許出願公告第1036240号明細書;ウル
マンズ・エンサイクロペデイエ・テクニツシエ
ン・ケミー(ウルマンの工業化学百科辞典)、第
3版、第11巻(1960年)、第249頁)〕がある。
く酸化銅を原料として、これを硫酸液に溶解する
方法(西ドイツ特許第1007307号明細書)、或いは
金属銅を硫酸溶液で酸素の存在下に浸出する方法
〔西ドイツ特許出願公告第1036240号明細書;ウル
マンズ・エンサイクロペデイエ・テクニツシエ
ン・ケミー(ウルマンの工業化学百科辞典)、第
3版、第11巻(1960年)、第249頁)〕がある。
また、金属銅の浸出を、次のように、即ち硫酸
銅及び硫酸を空気と共に、金属銅の堆積層
(Schu¨ttung)に透過させ、透過浸出液の少なく
とも一部を温度調節して再び銅堆積層に還流する
と共に、所要に応じ浸出液の一部を製品として取
出す方法が公知である(米国特許第2533245号明
細書)。
銅及び硫酸を空気と共に、金属銅の堆積層
(Schu¨ttung)に透過させ、透過浸出液の少なく
とも一部を温度調節して再び銅堆積層に還流する
と共に、所要に応じ浸出液の一部を製品として取
出す方法が公知である(米国特許第2533245号明
細書)。
適用材料として酸化銅を原料とする方法の著し
い欠点は、酸化銅を製造するための特別な工程、
例えば金属銅を粉末化すると同時に酸化する工程
が必要なことである。他方、金属銅を硫酸または
硫酸を含有する硫酸銅溶液で浸出する公知の方法
がもつ欠点は、酸化の必要条件として酸素の供給
が金属銅堆積層の全体にわたり均一に行なわれ、
かつ保持されることが困難なことである。この難
点は、金属銅の粒度が細かくなるにつれて一層顕
著になる。原料として益々重要となつている寸断
装置(Schredder−Anlagen)からのワイヤー片
の場合は、ガスをほゞ均一に通すことさえもはや
不可能である。
い欠点は、酸化銅を製造するための特別な工程、
例えば金属銅を粉末化すると同時に酸化する工程
が必要なことである。他方、金属銅を硫酸または
硫酸を含有する硫酸銅溶液で浸出する公知の方法
がもつ欠点は、酸化の必要条件として酸素の供給
が金属銅堆積層の全体にわたり均一に行なわれ、
かつ保持されることが困難なことである。この難
点は、金属銅の粒度が細かくなるにつれて一層顕
著になる。原料として益々重要となつている寸断
装置(Schredder−Anlagen)からのワイヤー片
の場合は、ガスをほゞ均一に通すことさえもはや
不可能である。
本発明の目的は、周知の、特に上述の欠点を有
せず、設備費も運転費も高くない方法を提供する
ことである。
せず、設備費も運転費も高くない方法を提供する
ことである。
以上の目的は本発明によれば、金属銅を、
Cu2+イオン及びSO4 2-イオンを含有する浸出液に
より溶解し、次いで酸化剤としての酸素含有ガス
で処理することにより硫酸銅溶液を製造する方法
において、金属銅の浸出と、このとき得られる浸
出液の酸化処理とを空間的に分離して行ない、か
つ酸化された前記浸出液の少なくとも一部を前記
金属銅の浸出段階に還流するようにしたことを特
徴とする硫酸銅溶液を製造する方法、によつて達
成される。
Cu2+イオン及びSO4 2-イオンを含有する浸出液に
より溶解し、次いで酸化剤としての酸素含有ガス
で処理することにより硫酸銅溶液を製造する方法
において、金属銅の浸出と、このとき得られる浸
出液の酸化処理とを空間的に分離して行ない、か
つ酸化された前記浸出液の少なくとも一部を前記
金属銅の浸出段階に還流するようにしたことを特
徴とする硫酸銅溶液を製造する方法、によつて達
成される。
本方法の第1段階では、次式による金属銅の変
化が行なわれる: Cu2++Cu→2Cu+ 次段階の酸化処理段階では、次式の変化が起
る: Cu+→Cu2++e (eは電子) 式により生成するCu+の安定性は低いにもか
かわらず、驚くべきことに、浸出及び酸化処理を
互いに空間的に分離して行なうことができる。
化が行なわれる: Cu2++Cu→2Cu+ 次段階の酸化処理段階では、次式の変化が起
る: Cu+→Cu2++e (eは電子) 式により生成するCu+の安定性は低いにもか
かわらず、驚くべきことに、浸出及び酸化処理を
互いに空間的に分離して行なうことができる。
本方法においては、銅金属は実際上絶えず
Cu2+イオン及びSO4 2-イオンを化合状態、好まし
くは遊離硫酸の形で通される。浸出液は静止した
銅金属堆積層に下方から上方へ、或いは上方から
下方へ透過させられる。しかしながら、銅金属の
浸出はまた、動的状態でも、例えば浸出液を金属
銅の堆積層が流動状態になるような流速で通すこ
とにより、或いは銅金属を回転ドラムに入れて浸
出を行なうことによつても可能である。
Cu2+イオン及びSO4 2-イオンを化合状態、好まし
くは遊離硫酸の形で通される。浸出液は静止した
銅金属堆積層に下方から上方へ、或いは上方から
下方へ透過させられる。しかしながら、銅金属の
浸出はまた、動的状態でも、例えば浸出液を金属
銅の堆積層が流動状態になるような流速で通すこ
とにより、或いは銅金属を回転ドラムに入れて浸
出を行なうことによつても可能である。
得られた浸出液の酸化処理は、空気、酸素含量
を高めた空気、或いは酸素自体を用いて行ない得
る。酸化処理装置としては、特にガス吹込み式の
撹拌槽、混合槽、或いはノズルブロツクを備えた
タンクが適する。
を高めた空気、或いは酸素自体を用いて行ない得
る。酸化処理装置としては、特にガス吹込み式の
撹拌槽、混合槽、或いはノズルブロツクを備えた
タンクが適する。
本方法の個々の段階は分離して設置された二つ
の反応槽で独立して行なわれ得るが、また両反応
槽を組合した構造のユニツトとすることも可能で
ある。このために、格子を組込んだ任意の横断面
を有する反応槽を用いても良く、この場合格子上
に、銅金属を、例えばかごに入れてもたらし得
る。浸出液は格子の下方に溜り、上昇管を通じて
銅堆積層の上方に導かれる。酸化処理は格子の下
の室及び/または上昇管自体内で行なわれ得る
が、後者の場合、酸素含有ガスは浸出液の輸送を
も行ない得る(マンモスポンプ原理−
Mammutpumpen−Prinzip)。
の反応槽で独立して行なわれ得るが、また両反応
槽を組合した構造のユニツトとすることも可能で
ある。このために、格子を組込んだ任意の横断面
を有する反応槽を用いても良く、この場合格子上
に、銅金属を、例えばかごに入れてもたらし得
る。浸出液は格子の下方に溜り、上昇管を通じて
銅堆積層の上方に導かれる。酸化処理は格子の下
の室及び/または上昇管自体内で行なわれ得る
が、後者の場合、酸素含有ガスは浸出液の輸送を
も行ない得る(マンモスポンプ原理−
Mammutpumpen−Prinzip)。
本発明による方法を適用するに当つては、遊離
硫酸と比較的少量のCu2+イオンとを含有する溶
液から出発して、酸化した浸出液を全量還流する
ことによつて銅濃度を、そのつど、浸出液の利用
目的に応じた所要の銅濃度にまで増大することが
目的に適つている。本方法の全工程を通じて硫酸
が消費されるので、遊離硫酸を必要に応じ時々補
充することによつて十分に供給するよう配慮すべ
きである。
硫酸と比較的少量のCu2+イオンとを含有する溶
液から出発して、酸化した浸出液を全量還流する
ことによつて銅濃度を、そのつど、浸出液の利用
目的に応じた所要の銅濃度にまで増大することが
目的に適つている。本方法の全工程を通じて硫酸
が消費されるので、遊離硫酸を必要に応じ時々補
充することによつて十分に供給するよう配慮すべ
きである。
浸出段階において反応を推進する力は、金属銅
との境界層でのCu+濃度と、Cu+平衡定数−これ
は温度の上昇及びCu2+濃度の上昇と共に増大す
る−との間の差である。従つて、浸出開始時にお
いて既にCu2+濃度を5g/以上の値に調節す
ることが推奨される。
との境界層でのCu+濃度と、Cu+平衡定数−これ
は温度の上昇及びCu2+濃度の上昇と共に増大す
る−との間の差である。従つて、浸出開始時にお
いて既にCu2+濃度を5g/以上の値に調節す
ることが推奨される。
本質的に同様な理由から、本発明の好ましい構
成においては、金属銅の浸出を40℃より高温度で
行ない;単位時間当りに浸出段階に還流する浸出
液の流量を、金属銅との接触時間が5分以下、好
ましくは60秒以下になるように調節し、更に、浸
出段階に還流する時間当りの浸出液流量を調節し
て、浸出段階からの出口におけるCu+濃度が平衡
濃度より著しく低くなるようにする。
成においては、金属銅の浸出を40℃より高温度で
行ない;単位時間当りに浸出段階に還流する浸出
液の流量を、金属銅との接触時間が5分以下、好
ましくは60秒以下になるように調節し、更に、浸
出段階に還流する時間当りの浸出液流量を調節し
て、浸出段階からの出口におけるCu+濃度が平衡
濃度より著しく低くなるようにする。
上述の最後の2つの構成例は本質的に浸出液を
できるだけ高速度で銅金属層に透過させることを
意味する。
できるだけ高速度で銅金属層に透過させることを
意味する。
金属銅堆積層に浸出液を上方から下方へ通過さ
せる場合、その十分に高い通過速度を得るには、
金属銅層上方の液柱を十分に高くするか、或いは
金属銅層の浸出液通過に対する抵抗を層の厚さを
薄くすることによつて低減すべきである。
せる場合、その十分に高い通過速度を得るには、
金属銅層上方の液柱を十分に高くするか、或いは
金属銅層の浸出液通過に対する抵抗を層の厚さを
薄くすることによつて低減すべきである。
またCu2+濃度をできるだけ高い濃度になるよ
うにし、酸化処理は、還元する浸出液が実質的に
Cu+を含まないように行ない、更に、効果がある
限り、単位容積当り高い表面積を有する金属銅を
用いることが好ましい。
うにし、酸化処理は、還元する浸出液が実質的に
Cu+を含まないように行ない、更に、効果がある
限り、単位容積当り高い表面積を有する金属銅を
用いることが好ましい。
浸出液のCu2+濃度が次の加工工程に必要な濃
度に達すれば、浸出液の金属銅の溶解量に相当す
る分を連続的に、または周期的に分流除去し、除
去した分を硫酸で補充する。分流除去した浸出液
から所要に応じ、清澄後、硫酸銅を結晶化して分
離し、母液を浸出工程に還流するが、しかし通常
は硫酸銅溶液を適用する任意の転化が行なわれて
もよい。例えば、硫酸銅溶液を石灰乳に添加して
得られる農薬(植物保護殺菌剤)として用いるボ
ルドー液(銅石灰液−Kupferkalkbru¨he)の製造
があげられる。
度に達すれば、浸出液の金属銅の溶解量に相当す
る分を連続的に、または周期的に分流除去し、除
去した分を硫酸で補充する。分流除去した浸出液
から所要に応じ、清澄後、硫酸銅を結晶化して分
離し、母液を浸出工程に還流するが、しかし通常
は硫酸銅溶液を適用する任意の転化が行なわれて
もよい。例えば、硫酸銅溶液を石灰乳に添加して
得られる農薬(植物保護殺菌剤)として用いるボ
ルドー液(銅石灰液−Kupferkalkbru¨he)の製造
があげられる。
本発明による方法の顕著な特徴は、反応全体を
互いに空間的に独立した2段階に分けたゝめに、
金属銅を酸素と直接々触させることはもはや必要
でないことである。
互いに空間的に独立した2段階に分けたゝめに、
金属銅を酸素と直接々触させることはもはや必要
でないことである。
これがために、本方法は、いかなる特性の金属
銅にも適するけれども特に、密に堆積した銅及
び/または不溶性の材料で著しく汚染されている
銅を原料とする場合に特に大きい価値を有する。
なお、前記不溶性材料は、従来法では、金属銅−
酸素の接触を妨げる働きをする。本発明による方
法は更に、空間−時間収率が高い、即ち単位容積
当りの浸出速度が高いので、浸出反応槽の小型化
が可能で、従つて例えば傾斜することによつて容
易に完全排出が可能である。
銅にも適するけれども特に、密に堆積した銅及
び/または不溶性の材料で著しく汚染されている
銅を原料とする場合に特に大きい価値を有する。
なお、前記不溶性材料は、従来法では、金属銅−
酸素の接触を妨げる働きをする。本発明による方
法は更に、空間−時間収率が高い、即ち単位容積
当りの浸出速度が高いので、浸出反応槽の小型化
が可能で、従つて例えば傾斜することによつて容
易に完全排出が可能である。
次に、本発明の詳細を実施例につき添付図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
図において、浸出反応器1にばら状の金属銅の
堆積層(Schu¨ttung)2が形成されており、そこ
を浸出液3が貫流する。液柱の高さは、浸出液の
供給流量が予め設定されていれば、銅堆積層の通
過抵抗に基いて自動的に調節される。浸出液は導
管4を経て絶えず撹拌槽5に排出され、そこで撹
拌機6による撹拌と、導管7を通つて供給される
空気によつて酸化される。浸出液の一部は9位置
で周期的または連続的に取出されるが、残りは導
管8を経て浸出反応器1に還流される。
堆積層(Schu¨ttung)2が形成されており、そこ
を浸出液3が貫流する。液柱の高さは、浸出液の
供給流量が予め設定されていれば、銅堆積層の通
過抵抗に基いて自動的に調節される。浸出液は導
管4を経て絶えず撹拌槽5に排出され、そこで撹
拌機6による撹拌と、導管7を通つて供給される
空気によつて酸化される。浸出液の一部は9位置
で周期的または連続的に取出されるが、残りは導
管8を経て浸出反応器1に還流される。
実施例
実施例のために、高さ2m、内径0.107mのカ
ラム状の浸出反応器1及び内径0.400mの撹拌槽
5が用いられた。後者には、直径0.150mの円形
撹拌板を有する円板撹拌機6が備えてあつた。
ラム状の浸出反応器1及び内径0.400mの撹拌槽
5が用いられた。後者には、直径0.150mの円形
撹拌板を有する円板撹拌機6が備えてあつた。
工程の開始に当つて、浸出反応器1には、19.5
Kgの微細銅−これは堆積層高1.26mに相当する−
が装入され、他方、撹拌槽5には90℃の高熱溶液
70−これには65g/のCuと196g/の
H2SO4が含まれる−が装入された。
Kgの微細銅−これは堆積層高1.26mに相当する−
が装入され、他方、撹拌槽5には90℃の高熱溶液
70−これには65g/のCuと196g/の
H2SO4が含まれる−が装入された。
撹拌機を720rpmで回転し、同時に空気を2
m3/hの率で円形撹拌板6の下方へ吹込んだ。撹
拌槽5の底から、浸出液を1.35m3/hの流量で取
出し、ポンプで導管8を経てCu堆積層上に送つ
た。堆積層の通過抵抗のために、液柱3の高さは
2mまで上がつた。
m3/hの率で円形撹拌板6の下方へ吹込んだ。撹
拌槽5の底から、浸出液を1.35m3/hの流量で取
出し、ポンプで導管8を経てCu堆積層上に送つ
た。堆積層の通過抵抗のために、液柱3の高さは
2mまで上がつた。
浸出液3は堆積層を接触時間30秒にて通過し撹
拌槽5内に流れた。槽の温度は蒸気を直接吹込む
ことにより90℃に保持した。この蒸気吹込みは同
時に蒸発損出を補償するものであつた。
拌槽5内に流れた。槽の温度は蒸気を直接吹込む
ことにより90℃に保持した。この蒸気吹込みは同
時に蒸発損出を補償するものであつた。
8時間後、浸出液中のCu濃度は180g/に上
昇し、H2SO4濃度は18.5g/に低下した。この
時間内に、7210KgのCuが浸出されたが、これは
Cu堆積物1m3についてCu88Kg/hに相当する。
昇し、H2SO4濃度は18.5g/に低下した。この
時間内に、7210KgのCuが浸出されたが、これは
Cu堆積物1m3についてCu88Kg/hに相当する。
この濃度に達して後、浸出液の一部を10/h
の率で分流取出し、CuSO4・5H2Oの結晶化のた
めに20℃に冷却した。かくして3929Kgの
CuSO4・5H2Oの結晶が分離された。これは溶解
銅1Kg/hに相当する。この時の浸出液はなお80
g/のCuを含有し、1.6KgのH2SO4(96重量
%)を添加し、撹拌槽5に戻した。
の率で分流取出し、CuSO4・5H2Oの結晶化のた
めに20℃に冷却した。かくして3929Kgの
CuSO4・5H2Oの結晶が分離された。これは溶解
銅1Kg/hに相当する。この時の浸出液はなお80
g/のCuを含有し、1.6KgのH2SO4(96重量
%)を添加し、撹拌槽5に戻した。
なお、浸出反応器1には銅を1Kg/hの率で装
入した。
入した。
以上、本発明を説明したが、本発明を要約すれ
ば以下の通りである。
ば以下の通りである。
金属銅を硫酸で酸素の存在下に浸出して硫酸銅
溶液を製造することは、特に銅廃物、例えば銅ワ
イヤー片の利用に関して重要である。公知の方法
では、酸化に必要である金属堆積層全体にわたる
均一な酸素供給を行ない、かつ維持することが困
難である。この難点は、銅粒子の粒度が細かくな
るにつれて一層著しくなる。
溶液を製造することは、特に銅廃物、例えば銅ワ
イヤー片の利用に関して重要である。公知の方法
では、酸化に必要である金属堆積層全体にわたる
均一な酸素供給を行ない、かつ維持することが困
難である。この難点は、銅粒子の粒度が細かくな
るにつれて一層著しくなる。
本出願の要旨は、金属銅の浸出と、この浸出に
より得られる浸出液の酸化とが空間的に分離して
別個に行なわれることにある。換言すれば、酸化
処理が金属銅の存在しない処で行なわれるので、
上述の難点は避け得る。
より得られる浸出液の酸化とが空間的に分離して
別個に行なわれることにある。換言すれば、酸化
処理が金属銅の存在しない処で行なわれるので、
上述の難点は避け得る。
図面は浸出処理と酸化処理とを空間的に分離し
て行なう工程を示す概略正面図である。 なお図において、1……浸出反応器、2……銅
金属堆積層、3……浸出液、5……撹拌槽、7…
…導管。
て行なう工程を示す概略正面図である。 なお図において、1……浸出反応器、2……銅
金属堆積層、3……浸出液、5……撹拌槽、7…
…導管。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 金属銅を、Cu2+イオン及びSO4 2-イオンを含
有する浸出液により溶解し、次いで酸化剤として
の酸素含有ガスで処理することにより硫酸銅溶液
を製造する方法において、金属銅の浸出と、この
とき得られる浸出液の酸化処理とを空間的に分離
して行ない、かつ酸化された前記浸出液の少なく
とも一部を前記金属銅の浸出段階に還流するよう
にしたことを特徴とする硫酸銅溶液を製造する方
法。 2 浸出開始時においてCu2+濃度を少なくとも
5g/に調節する特許請求の範囲第1項に記載
の方法。 3 金属銅の浸出を40℃より高い温度で行なう特
許請求の範囲第1項または第2項に記載の方法。 4 単位時間当りに浸出段階に還流する浸出液の
流量を、金属銅との接触時間が5分以下、好まし
くは60秒以下になるように設定する特許請求の範
囲第1項〜第3項のうちいずれか一項に記載の方
法。 5 浸出段階に還流する時間当りの浸出流量を調
節して、浸出段階出口におけるCu+濃度が平衡濃
度より著しく低くなるようにする特許請求の範囲
第1項〜第4項のうちいずれか一項に記載の方
法。 6 前記金属銅は密に堆積されている特許請求の
範囲第1項〜第5項のうちいずれか一項に記載の
方法。 7 前記金属銅は不溶性の物質で著しく汚染され
ている特許請求の範囲第1項〜第6項のうちいず
れか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19782810226 DE2810226A1 (de) | 1978-03-09 | 1978-03-09 | Verfahren zur herstellung von kupfersulfat-loesungen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54155196A JPS54155196A (en) | 1979-12-06 |
| JPS6213287B2 true JPS6213287B2 (ja) | 1987-03-25 |
Family
ID=6033986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2818479A Granted JPS54155196A (en) | 1978-03-09 | 1979-03-09 | Manufacture of copper sulfate solution |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4251489A (ja) |
| JP (1) | JPS54155196A (ja) |
| CA (1) | CA1101189A (ja) |
| DE (1) | DE2810226A1 (ja) |
| ES (1) | ES478455A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA79768B (ja) |
| ZM (1) | ZM2179A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8315381D0 (en) * | 1983-06-03 | 1983-07-06 | Boc Group Plc | Liquid phase oxidation |
| US6294146B1 (en) * | 1999-08-09 | 2001-09-25 | Gabriel Benet | Continuous chemical reaction under continuous pressure and turbulence |
| JP4779163B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2011-09-28 | Dowaメタルマイン株式会社 | 硫酸銅溶液の製造方法 |
| JP5281514B2 (ja) * | 2009-07-31 | 2013-09-04 | 日揮触媒化成株式会社 | 硫酸銅水溶液の製造方法 |
| CN117046431B (zh) * | 2023-08-24 | 2025-01-03 | 江西铜博科技股份有限公司 | 硫酸铜溶液的制备方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE536650C (de) * | 1928-12-15 | 1931-10-24 | Paul Bebin | Herstellung von Kupfersulfast aus Kupfer und Schwefelsaeure |
| US2533245A (en) * | 1948-02-24 | 1950-12-12 | Tennessee Copper Company | Method of producing copper sulfate |
| DE1007307B (de) * | 1954-12-24 | 1957-05-02 | Metallgesellschaft Ag | Herstellung von Kupfersulfat |
| DE1036240B (de) * | 1956-01-23 | 1958-08-14 | Unterharzer Berg Und Huettenwe | Verfahren und Vorrichtung zur Gewinnung von reiner Kupfersulfat-loesung aus stark verunreinigtem Rohkupfer |
| FR1508382A (fr) * | 1966-11-25 | 1968-01-05 | Procédé de récupération du cuivre |
-
1978
- 1978-03-09 DE DE19782810226 patent/DE2810226A1/de not_active Withdrawn
-
1979
- 1979-02-19 ZA ZA79768A patent/ZA79768B/xx unknown
- 1979-03-08 US US06/018,635 patent/US4251489A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-03-08 CA CA323,008A patent/CA1101189A/en not_active Expired
- 1979-03-08 ES ES478455A patent/ES478455A1/es not_active Expired
- 1979-03-09 JP JP2818479A patent/JPS54155196A/ja active Granted
- 1979-03-09 ZM ZM21/79A patent/ZM2179A1/xx unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4251489A (en) | 1981-02-17 |
| DE2810226A1 (de) | 1979-09-20 |
| ES478455A1 (es) | 1979-05-16 |
| ZM2179A1 (en) | 1980-03-21 |
| CA1101189A (en) | 1981-05-19 |
| JPS54155196A (en) | 1979-12-06 |
| ZA79768B (en) | 1980-02-27 |
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