JPS62149687A - 不飽和エステル基を含有するアルケニルトリアルコキシシランの製造方法 - Google Patents
不飽和エステル基を含有するアルケニルトリアルコキシシランの製造方法Info
- Publication number
- JPS62149687A JPS62149687A JP60290413A JP29041385A JPS62149687A JP S62149687 A JPS62149687 A JP S62149687A JP 60290413 A JP60290413 A JP 60290413A JP 29041385 A JP29041385 A JP 29041385A JP S62149687 A JPS62149687 A JP S62149687A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は不飽和エステル基を置換したアルケニル) I
Jアルコキシ7ランの製造方法に関スるものである。
Jアルコキシ7ランの製造方法に関スるものである。
〈従来の技術〉
不飽和エステル基を含有するアルケニルトリアルコキシ
シランは公知であり、不飽和カルボン酸ノグロパルギル
エステルとトリアルコキ7シランのヒドロシリル化反応
によって得られる7ラン化合物(米国特許第3.555
.051号明細書)や不飽和カルボン酸のプロパルギル
エステルとトリクロロ/ランのヒドロシリル化反応を行
ないさらにその生成物をアルコールと反応させる方法に
よって得られるシラン化合物(米国特許第3,746,
734号明細書)等が具体的に知られている。
シランは公知であり、不飽和カルボン酸ノグロパルギル
エステルとトリアルコキ7シランのヒドロシリル化反応
によって得られる7ラン化合物(米国特許第3.555
.051号明細書)や不飽和カルボン酸のプロパルギル
エステルとトリクロロ/ランのヒドロシリル化反応を行
ないさらにその生成物をアルコールと反応させる方法に
よって得られるシラン化合物(米国特許第3,746,
734号明細書)等が具体的に知られている。
〈発明が解決しようとしている問題点〉しかしながら、
従来の方法で製造した場合、共通出発物質として用いる
不飽和カルボン酸のグロバルギルエステルは重合性が高
く、その合成時、反応時には常に重合禁止剤を添加する
必要があり、またその合成時の収率は低いため出発物質
として適当でない。
従来の方法で製造した場合、共通出発物質として用いる
不飽和カルボン酸のグロバルギルエステルは重合性が高
く、その合成時、反応時には常に重合禁止剤を添加する
必要があり、またその合成時の収率は低いため出発物質
として適当でない。
く間厘点を解決するための手段及び作用〉本発明者らは
、以上のような従来技術の欠点を解消することを目的と
して鋭意研究した結果、反応の最終工程で不飽和エステ
ル基を導入する方法を見い出し本発明に到達したもので
ある。
、以上のような従来技術の欠点を解消することを目的と
して鋭意研究した結果、反応の最終工程で不飽和エステ
ル基を導入する方法を見い出し本発明に到達したもので
ある。
すなわち本発明は、一般式中
R31(OR’ ) 3(1)
(式中Rは〔l−(クロロ)メチル〕ビニル基又は(2
−(クロロ)メチル〕ビニル基、 R1は炭素原子数1
〜5のアルキル基又はアルコキシアルキル基を示す〕で
示されるビニルトリアルコキシシラン誘導体と一般式(
It) Cf(2= CC02M (II)〔式中M
はアルカリ金属、R2はメチル基又は水素原子を示す〕
で表わされる不飽和カルボン酸金属塩を反応させること
を特徴とする一般式■R3S i (OR’ ) s
G[)〔式中R3は(1−(メタクリル酸/
)メチル〕ビニル基又は〔2−(メタクリロキシ)メチ
ル〕ビニル基又は(:1−(アクリロキシ)メチル〕ビ
ニル基又はC2−(アクリロキシ)メチル〕ビニル基、
R1は前述と同様である〕で表わされる不飽和エステル
基を含有するアルケニルトリアルコキシシランの製造方
法である。
−(クロロ)メチル〕ビニル基、 R1は炭素原子数1
〜5のアルキル基又はアルコキシアルキル基を示す〕で
示されるビニルトリアルコキシシラン誘導体と一般式(
It) Cf(2= CC02M (II)〔式中M
はアルカリ金属、R2はメチル基又は水素原子を示す〕
で表わされる不飽和カルボン酸金属塩を反応させること
を特徴とする一般式■R3S i (OR’ ) s
G[)〔式中R3は(1−(メタクリル酸/
)メチル〕ビニル基又は〔2−(メタクリロキシ)メチ
ル〕ビニル基又は(:1−(アクリロキシ)メチル〕ビ
ニル基又はC2−(アクリロキシ)メチル〕ビニル基、
R1は前述と同様である〕で表わされる不飽和エステル
基を含有するアルケニルトリアルコキシシランの製造方
法である。
本発明において用いることのできるビニルトリアルコキ
シシラン誘導体は前記一般式(1)で示されるものであ
り、例えば、 (1−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキシシラン、
(2−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキシシラン、
(1−(クロロメチル)ビニル〕トリエトキシシ2ン、
(2−Cクロロメチル)ビニルシトリエトキシシラン、
(1−(/ロロメチル)ビニルシトリ(n−プロポキシ
)シラン、(2−(クロロメチル)ビニルシトリ(n−
7’ロボキン)シラン、[:l−(クロロメチル)ビニ
ルシトリ (1so−プロポキシ)シラン、〔2−(ク
ロロメチル)ビニルシトリ(is。
シシラン誘導体は前記一般式(1)で示されるものであ
り、例えば、 (1−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキシシラン、
(2−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキシシラン、
(1−(クロロメチル)ビニル〕トリエトキシシ2ン、
(2−Cクロロメチル)ビニルシトリエトキシシラン、
(1−(/ロロメチル)ビニルシトリ(n−プロポキシ
)シラン、(2−(クロロメチル)ビニルシトリ(n−
7’ロボキン)シラン、[:l−(クロロメチル)ビニ
ルシトリ (1so−プロポキシ)シラン、〔2−(ク
ロロメチル)ビニルシトリ(is。
−プロポキシ)シラン、(1−(クロロメチル)ビニル
シトリ (n−ブトキシ)シラ/、〔2−(クロロメチ
ル)ビニルシトリ (n−ブトキシ)シラン、(1−(
クロロメチル)ヒニル〕トリ(1so−ブトキシ)シラ
ン、〔2−(クロロメチル)ビニル〕 トリ (1so
−ブトキシ)−シラン、〔l−(クロロメチル)ビニル
シトリ (tert −ブトキシ)シラン、(2−(ク
ロロメチル)ビニルシトリ (tert−ブトキシ)シ
ラン、(1−(クロロメチル)ビニルシトリ (n−ペ
ントキシ)7ラン、C2−(クロロメチル)ビニル〕ト
1J(n−ペントキシ)シラン、[:I−(り。
シトリ (n−ブトキシ)シラ/、〔2−(クロロメチ
ル)ビニルシトリ (n−ブトキシ)シラン、(1−(
クロロメチル)ヒニル〕トリ(1so−ブトキシ)シラ
ン、〔2−(クロロメチル)ビニル〕 トリ (1so
−ブトキシ)−シラン、〔l−(クロロメチル)ビニル
シトリ (tert −ブトキシ)シラン、(2−(ク
ロロメチル)ビニルシトリ (tert−ブトキシ)シ
ラン、(1−(クロロメチル)ビニルシトリ (n−ペ
ントキシ)7ラン、C2−(クロロメチル)ビニル〕ト
1J(n−ペントキシ)シラン、[:I−(り。
ロメチル)ビニル〕トリス(メトキシエトキシ)シラン
、(2−(クロロメチル)ビニル〕トリス(メトキシエ
トキシ)シラン、(1−(クロロメチル)ビニル〕トリ
ス(エトキシエトキシ)7ラン、(2−(クロロメチル
)ビニル〕トリス(エトキシエトキシ)シラン などを挙げることができる。
、(2−(クロロメチル)ビニル〕トリス(メトキシエ
トキシ)シラン、(1−(クロロメチル)ビニル〕トリ
ス(エトキシエトキシ)7ラン、(2−(クロロメチル
)ビニル〕トリス(エトキシエトキシ)シラン などを挙げることができる。
また本発明で用いられる不飽和カルボン酸金属塩は前記
一般式(1)で表わされるものであり、たとえばメタク
リル酸カリクム、メタクリル酸ナトリウム、アクリル酸
カリウム、アクリル酸ナトリウムなどが好ましく用いら
れる。
一般式(1)で表わされるものであり、たとえばメタク
リル酸カリクム、メタクリル酸ナトリウム、アクリル酸
カリウム、アクリル酸ナトリウムなどが好ましく用いら
れる。
本発明においては、ビニルトリアルコキシシラン誘導体
と不飽和カルボン酸金属塩は任意の比率(モル比)で用
いることができるが、好ましくはl : 0.7〜1:
L4である。
と不飽和カルボン酸金属塩は任意の比率(モル比)で用
いることができるが、好ましくはl : 0.7〜1:
L4である。
反応は反応溶媒を使用することが望ましく、反応溶媒と
しては、ジメチルホルムアミド、アセトニトリ乞ヘンゾ
ニトリル、ジメチルスルフオキシド、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン等の非プロトン性極性溶媒、脂肪族及び芳
香族炭化水素、°ノ・ロゲン化芳香族炭化水素を用いる
ことができ、その量はビニルトリアルコキシシランの1
〜50倍用いるのが望ましい。
しては、ジメチルホルムアミド、アセトニトリ乞ヘンゾ
ニトリル、ジメチルスルフオキシド、シクロヘキサン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン等の非プロトン性極性溶媒、脂肪族及び芳
香族炭化水素、°ノ・ロゲン化芳香族炭化水素を用いる
ことができ、その量はビニルトリアルコキシシランの1
〜50倍用いるのが望ましい。
また反応を促進させるために、塩化テトラメチルアンモ
ニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラ
メチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、
臭化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルア
ンモニウム、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
トリブチルアミン、ジベンゾ−18−クラウン−6、ジ
ベンゾ−24−クラウン−8、ジシクロへキサノー18
−クラウン−6、ジシクロへキサノー24−クラウン−
8,12−クラウン−4,15−クラウン−5,18−
クラウン−6、(2,2゜2〕−クリプタンド等の4級
アンモニウム塩、3級アミン、クラウンエーテル、クリ
プタンドを用いることができ、ビニルトリアルコキシシ
ラン誘導体に対して0.01〜20mo1%使用するの
が好ましい。
ニウム、臭化テトラメチルアンモニウム、ヨウ化テトラ
メチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、
臭化テトラブチルアンモニウム、ヨウ化テトラブチルア
ンモニウム、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、
トリブチルアミン、ジベンゾ−18−クラウン−6、ジ
ベンゾ−24−クラウン−8、ジシクロへキサノー18
−クラウン−6、ジシクロへキサノー24−クラウン−
8,12−クラウン−4,15−クラウン−5,18−
クラウン−6、(2,2゜2〕−クリプタンド等の4級
アンモニウム塩、3級アミン、クラウンエーテル、クリ
プタンドを用いることができ、ビニルトリアルコキシシ
ラン誘導体に対して0.01〜20mo1%使用するの
が好ましい。
また本発明において不飽和カルボン酸金属塩及び反応生
成物の重合を防止するためにフェニル−α−ナフチルア
ミン、N、N’−ジ−β−ナフチル−p−フェニレンジ
アミン、2,5−シーtert−ブチルハイドロキノン
、ハイドロキノン等の重合禁止剤を不飽和カルボン酸金
属塩に対して0.1〜20重1%添加するのが好ましい
。
成物の重合を防止するためにフェニル−α−ナフチルア
ミン、N、N’−ジ−β−ナフチル−p−フェニレンジ
アミン、2,5−シーtert−ブチルハイドロキノン
、ハイドロキノン等の重合禁止剤を不飽和カルボン酸金
属塩に対して0.1〜20重1%添加するのが好ましい
。
反応温度は0〜300℃であり好ましくは50〜180
℃である。
℃である。
反応時間は、反応温度、反応溶媒、モル比により異なり
、通常数分から数時間の内で反応は終了する。反応は常
圧下又は加圧下いずれでも実施することが可能である。
、通常数分から数時間の内で反応は終了する。反応は常
圧下又は加圧下いずれでも実施することが可能である。
かくして得られた反応混合物から生成物を単離する方法
は常法によることができ、例えば減圧蒸留等により目的
物を単離精製することができる。
は常法によることができ、例えば減圧蒸留等により目的
物を単離精製することができる。
に説明するが、以下の実施例は本発明の一部の例につい
て説明するものであり、特許請求の範囲を限定するもの
でない。
て説明するものであり、特許請求の範囲を限定するもの
でない。
実施例1
滴下ろうと、温度計、還流冷却器を装着したガラス製反
応器にメタクリル酸カリウム塩3.471f、塩化テト
ラメチルアンモニウム0.028y。
応器にメタクリル酸カリウム塩3.471f、塩化テト
ラメチルアンモニウム0.028y。
N、 N’ −シーβ−ナフチル−p−フェニレンジア
ミン0.15 f 、 N、 N−ジメチルホルムア
ミド15m/を仕込み激しく攪拌し、130℃に反応温
度を保ちながら30分間で(1−(クロロメチル)ビニ
ル〕トリメトキシシラy、(2−(クロロメチル)ビニ
ルシトリメトキシシラン混合物4.9 F (比率47
153)を滴下し、さらに130℃で2時間攪拌を続け
た。反応終了後、反応混合物をガスクロマトグラフィー
で分析すると、(1−(メタクリロキシメチル)ビニル
〕トリメトキシシラン及び〔2−(メタクリロキシメチ
ル)ビニル〕トリメトキシシランが5.479f(比率
47153)得られた。
ミン0.15 f 、 N、 N−ジメチルホルムア
ミド15m/を仕込み激しく攪拌し、130℃に反応温
度を保ちながら30分間で(1−(クロロメチル)ビニ
ル〕トリメトキシシラy、(2−(クロロメチル)ビニ
ルシトリメトキシシラン混合物4.9 F (比率47
153)を滴下し、さらに130℃で2時間攪拌を続け
た。反応終了後、反応混合物をガスクロマトグラフィー
で分析すると、(1−(メタクリロキシメチル)ビニル
〕トリメトキシシラン及び〔2−(メタクリロキシメチ
ル)ビニル〕トリメトキシシランが5.479f(比率
47153)得られた。
実施例2
実施例1で〔l−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキ
シ7ラン、(2−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキ
シシラン、混合物のかわりに(1−(クロロメチル)ビ
ニルトリアルコキシシラン、(2−(クロロメチル)ビ
ニル〕トリn−ブトキシシラン混合物9.9F(比率5
2/48)を用いて同様に反応を行ない、反応終了後、
反応混合物を氷冷したのち副生成した塩化カリウムをろ
過して、N、N−ジメチルホルムアミドを留去し、残渣
を減圧蒸留によって沸点103−108℃/ 0.07
txtHyの〔l−(メタクリロキシメチル)ビニル
〕トリ(n−ブトキン)7ラン、(2−(メタクリロキ
シメチル)ビニル〕トリ (n−ブトキシ)シランを9
.4531 (比率54/46 )t/4jr、各化
合物をWj層クロマトグラフィーにより単離精製した後
核磁気共鳴スペクトルを測定した結果を表1に示す。
シ7ラン、(2−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキ
シシラン、混合物のかわりに(1−(クロロメチル)ビ
ニルトリアルコキシシラン、(2−(クロロメチル)ビ
ニル〕トリn−ブトキシシラン混合物9.9F(比率5
2/48)を用いて同様に反応を行ない、反応終了後、
反応混合物を氷冷したのち副生成した塩化カリウムをろ
過して、N、N−ジメチルホルムアミドを留去し、残渣
を減圧蒸留によって沸点103−108℃/ 0.07
txtHyの〔l−(メタクリロキシメチル)ビニル
〕トリ(n−ブトキン)7ラン、(2−(メタクリロキ
シメチル)ビニル〕トリ (n−ブトキシ)シランを9
.4531 (比率54/46 )t/4jr、各化
合物をWj層クロマトグラフィーにより単離精製した後
核磁気共鳴スペクトルを測定した結果を表1に示す。
実施例3
実施例1で〔1−(クロロメチル)ビニルシトリメトキ
シシラン、(2−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキ
シシラン混合物のかわりに[:1−(クロロメチル)ビ
ニルシトリス(メトキシエトキ7)シラン、(2−(ク
ロロメチル)ビニルシトリス(メトキシエトキシ)シラ
ン混合物9.4 f (比率48152)を用いて同様
に反応を行ない、反応終了後、実施例2と同様に減圧蒸
留によって沸点125−135℃10,1nHfの〔l
−(メタクリロキシメチル)ビニルシトリス(メトキシ
エトキシ)シラン、(2−(メタクリロキシメチル)ビ
ニルシトリス(メトキシエトキン)7ランを6.95F
(比率55/45)得た。
シシラン、(2−(クロロメチル)ビニル〕トリメトキ
シシラン混合物のかわりに[:1−(クロロメチル)ビ
ニルシトリス(メトキシエトキ7)シラン、(2−(ク
ロロメチル)ビニルシトリス(メトキシエトキシ)シラ
ン混合物9.4 f (比率48152)を用いて同様
に反応を行ない、反応終了後、実施例2と同様に減圧蒸
留によって沸点125−135℃10,1nHfの〔l
−(メタクリロキシメチル)ビニルシトリス(メトキシ
エトキシ)シラン、(2−(メタクリロキシメチル)ビ
ニルシトリス(メトキシエトキン)7ランを6.95F
(比率55/45)得た。
各化合物を実施例2と同様に単離、精製した後核磁気共
鳴スペクトルを測定した結果を表2に示す。
鳴スペクトルを測定した結果を表2に示す。
表1
(δ値、CoC15中で測定)
表2
(δ値、CDC15中で測定)
〈発明の効果〉
従来の重合性の高い不飽和カルボン酸のプロパルギルエ
ステルを共通出発物とする不飽和エステル基を置換した
アルケニ/l/)リアルコキシシランの製造方法と比較
して、本発明の方法は反応最終工程で不飽和エステル基
を導入することを特徴とし、反応工程における原料、生
成物の重合損失を最小限に抑制することが可能である。
ステルを共通出発物とする不飽和エステル基を置換した
アルケニ/l/)リアルコキシシランの製造方法と比較
して、本発明の方法は反応最終工程で不飽和エステル基
を導入することを特徴とし、反応工程における原料、生
成物の重合損失を最小限に抑制することが可能である。
特許出願大東し株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I ) RSi(OR^1)_3( I ) 〔式中Rは〔1−(クロロ)メチル〕ビニル基、又は〔
2−(クロロ)メチル〕ビニル基、R^1は炭素原子数
1〜5のアルキル基、又はアルコキシアルキル基を示す
〕で示されるビニルトリアルコキシシラン誘導体と一般
式(II)▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中Mはアルカリ金属、R^2はメチル基又は水素原
子を示す〕で表わされる不飽和カルボン酸金属塩を反応
させることを特徴とする一般式(III)R^3Si(O
R^1)_3(III) 〔式中、R^3は〔1−(メタクリロキシ)メチル〕ビ
ニル基、〔2−(メタクリロキシ)メチル〕ビニル基、
〔1−(アクリロキシ)メチル〕ビニル基および〔2−
(アクリロキシ)メチルビニル基から選ばれた基を示し
、R^1は前述と同様である〕で表わされる不飽和エス
テル基を含有するアルケニルトリアルコキシシランの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60290413A JPS62149687A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 不飽和エステル基を含有するアルケニルトリアルコキシシランの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60290413A JPS62149687A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 不飽和エステル基を含有するアルケニルトリアルコキシシランの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62149687A true JPS62149687A (ja) | 1987-07-03 |
Family
ID=17755700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60290413A Pending JPS62149687A (ja) | 1985-12-25 | 1985-12-25 | 不飽和エステル基を含有するアルケニルトリアルコキシシランの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62149687A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1249454A1 (de) * | 2001-04-12 | 2002-10-16 | Wacker-Chemie GmbH | Verfahren zur Herstellung ungesättigter Organosiliciumverbindundungen |
| WO2015159569A1 (ja) * | 2014-04-15 | 2015-10-22 | 信越化学工業株式会社 | アルコキシシリル-ビニレン基含有ケイ素化合物 |
-
1985
- 1985-12-25 JP JP60290413A patent/JPS62149687A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1249454A1 (de) * | 2001-04-12 | 2002-10-16 | Wacker-Chemie GmbH | Verfahren zur Herstellung ungesättigter Organosiliciumverbindundungen |
| WO2015159569A1 (ja) * | 2014-04-15 | 2015-10-22 | 信越化学工業株式会社 | アルコキシシリル-ビニレン基含有ケイ素化合物 |
| CN106232609A (zh) * | 2014-04-15 | 2016-12-14 | 信越化学工业株式会社 | 含有烷氧基甲硅烷基‑1,2‑亚乙烯基的硅化合物 |
| JPWO2015159569A1 (ja) * | 2014-04-15 | 2017-04-13 | 信越化学工業株式会社 | アルコキシシリル−ビニレン基含有ケイ素化合物 |
| EP3133076A4 (en) * | 2014-04-15 | 2017-08-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Alkoxysilyl-vinylene group-containing silicon compound |
| US9920080B2 (en) | 2014-04-15 | 2018-03-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Alkoxysilyl-vinylene group-containing silicon compound |
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