JPS621537B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS621537B2 JPS621537B2 JP11210582A JP11210582A JPS621537B2 JP S621537 B2 JPS621537 B2 JP S621537B2 JP 11210582 A JP11210582 A JP 11210582A JP 11210582 A JP11210582 A JP 11210582A JP S621537 B2 JPS621537 B2 JP S621537B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- corona discharge
- discharge treatment
- coating layer
- roll
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01T—SPARK GAPS; OVERVOLTAGE ARRESTERS USING SPARK GAPS; SPARKING PLUGS; CORONA DEVICES; GENERATING IONS TO BE INTRODUCED INTO NON-ENCLOSED GASES
- H01T19/00—Devices providing for corona discharge
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/10—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by electric discharge treatment
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/915—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means using mechanical or physical means therefor, e.g. corona
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はコロナ放電処理装置に関し、特に写真
乳剤層の如き親水層を、疎水性表面を有する支持
体に塗布するに際し、該疎水性表面を親水化する
ために用いられるのに適したコロナ放電処理装置
に関する。
乳剤層の如き親水層を、疎水性表面を有する支持
体に塗布するに際し、該疎水性表面を親水化する
ために用いられるのに適したコロナ放電処理装置
に関する。
写真感光材料は一般に支持体上にハロゲン化銀
乳剤層を少なくとも一層塗布することによつて製
造され、支持体としてポリエチレン被覆紙、ポリ
エチレンテレフタレートフイルム等疎水性表面を
有する種々のものが目的に応じて使用されてい
る。一方これらの支持体表面に塗布される写真層
は通常親水性であるため、疎水性面に直接塗布し
ても接着しないので、塗布するに際し支持体の疎
水性表面を親水化するのが普通である。親水化す
る方法として、疎水性表面に接着し、かつ親水性
層にも接着することのできる組成物を塗布するい
わゆる下引法、コロナ放電処理法、火炎処理法、
紫外線照射法、グロー放電処理法等種々の方法が
あるが、操作性、安全性、コスト等の実用面か
ら、近年コロナ放電処理法が特にポリエチレン被
覆紙では広く使用されている。
乳剤層を少なくとも一層塗布することによつて製
造され、支持体としてポリエチレン被覆紙、ポリ
エチレンテレフタレートフイルム等疎水性表面を
有する種々のものが目的に応じて使用されてい
る。一方これらの支持体表面に塗布される写真層
は通常親水性であるため、疎水性面に直接塗布し
ても接着しないので、塗布するに際し支持体の疎
水性表面を親水化するのが普通である。親水化す
る方法として、疎水性表面に接着し、かつ親水性
層にも接着することのできる組成物を塗布するい
わゆる下引法、コロナ放電処理法、火炎処理法、
紫外線照射法、グロー放電処理法等種々の方法が
あるが、操作性、安全性、コスト等の実用面か
ら、近年コロナ放電処理法が特にポリエチレン被
覆紙では広く使用されている。
しかしながら、コロナ放電処理法にも種々の欠
点がある。写真感光材料の製造に於ける大きな問
題の１つは、放電ムラに起因する不均一帯電によ
つて、塗布された写真層に塗布ムラが発生するこ
とである。写真層は一般に数ミクロンないし数十
ミクロン程度の薄層であるため、塗布ムラは写真
特性に大きな悪影響を与え写真製品の品質を著し
く低下させる。
点がある。写真感光材料の製造に於ける大きな問
題の１つは、放電ムラに起因する不均一帯電によ
つて、塗布された写真層に塗布ムラが発生するこ
とである。写真層は一般に数ミクロンないし数十
ミクロン程度の薄層であるため、塗布ムラは写真
特性に大きな悪影響を与え写真製品の品質を著し
く低下させる。
従来、このような塗布ムラを除去あるいは減少
させる方法として、塗液をコロナ放電による不均
一帯電の影響を受けにくいような塗液に改良する
方法、コロナ放電処理後塗液を塗布するまで一定
期間放置して帯電状況を均一化させる方法、コロ
ナ放電処理後塗液を塗布する迄にコロナ帯電面を
加電装置にて加電しコロナ帯電状態を均一化させ
る方法等があるが、塗液からの改良は他の制約条
件が多いばかりでなく、塗布ムラの除去は困難で
ある。コロナ放電処理後一定期間放置する方法
は、中間製品の増加、工程数の増加となりコスト
を増大させる。又加電方法は帯電の均一化が不十
分であるという欠点がある。
させる方法として、塗液をコロナ放電による不均
一帯電の影響を受けにくいような塗液に改良する
方法、コロナ放電処理後塗液を塗布するまで一定
期間放置して帯電状況を均一化させる方法、コロ
ナ放電処理後塗液を塗布する迄にコロナ帯電面を
加電装置にて加電しコロナ帯電状態を均一化させ
る方法等があるが、塗液からの改良は他の制約条
件が多いばかりでなく、塗布ムラの除去は困難で
ある。コロナ放電処理後一定期間放置する方法
は、中間製品の増加、工程数の増加となりコスト
を増大させる。又加電方法は帯電の均一化が不十
分であるという欠点がある。
本発明者らは先に従来のこれらの方法が有する
欠点がなく、かつ均一なコロナ帯電を得ることの
できる方法として、高誘電率物質を含有する絶縁
性被覆層で金属ロール表面を被覆したアースロー
ルまたはロール電極を用いるコロナ放電処理方法
を見出し特願昭56―101832号として出願した。こ
のコロナ放電処理方法によれば先に述べたよう
な、従来法が有する欠点がなく、均一なコロナ帯
電が得られるが、高誘電率物質を含有する絶縁性
被覆層で表面被覆したアースロールまたはロール
電極を使用した場合、高誘電率物質を含有しない
絶縁性被覆層で表面被覆したものに比べ、放電に
よる表面被覆層の劣化が著しく、耐久性が悪いと
いう欠点を有することが判明した。
欠点がなく、かつ均一なコロナ帯電を得ることの
できる方法として、高誘電率物質を含有する絶縁
性被覆層で金属ロール表面を被覆したアースロー
ルまたはロール電極を用いるコロナ放電処理方法
を見出し特願昭56―101832号として出願した。こ
のコロナ放電処理方法によれば先に述べたよう
な、従来法が有する欠点がなく、均一なコロナ帯
電が得られるが、高誘電率物質を含有する絶縁性
被覆層で表面被覆したアースロールまたはロール
電極を使用した場合、高誘電率物質を含有しない
絶縁性被覆層で表面被覆したものに比べ、放電に
よる表面被覆層の劣化が著しく、耐久性が悪いと
いう欠点を有することが判明した。
本発明の目的は均一な帯電が得られ、かつ放電
による表面被覆層の劣化が少なく、耐久性に優れ
たアースロールまたはロール電極を備えたコロナ
放電処装置を提供するにある。
による表面被覆層の劣化が少なく、耐久性に優れ
たアースロールまたはロール電極を備えたコロナ
放電処装置を提供するにある。
本発明の別の目的は従来法が有する欠点がな
く、均一な帯電が得られ、かつ放電による表面被
覆層の劣化がなく、耐久性に優れたアースロール
またはロール電極を備えたコロナ放電処理装置を
提供するにある。
く、均一な帯電が得られ、かつ放電による表面被
覆層の劣化がなく、耐久性に優れたアースロール
またはロール電極を備えたコロナ放電処理装置を
提供するにある。
本発明の目的は金属ロール表面上に高誘電率物
質を含有する絶縁性被覆層を設け、該層上に、更
に高誘電率物質を含有しない絶縁性被覆層を設け
たアースロールまたはロール電極を備えたコロナ
放電処理装置とすることによつて達成される。
質を含有する絶縁性被覆層を設け、該層上に、更
に高誘電率物質を含有しない絶縁性被覆層を設け
たアースロールまたはロール電極を備えたコロナ
放電処理装置とすることによつて達成される。
本発明はコロナ放電そのものを均一にし、均一
な帯電を得るもので、前述したような不均一帯電
をコロナ放電処理後何らかの手段で不均一性を除
去する従来の方法とは異なり、不均一性を除去す
るために生じる不都合はない。
な帯電を得るもので、前述したような不均一帯電
をコロナ放電処理後何らかの手段で不均一性を除
去する従来の方法とは異なり、不均一性を除去す
るために生じる不都合はない。
本発明のコロナ放電処理装置の一使用態様を第
１図に示した。１はアースロールで金属ロール２
の表面上に高誘電率物質を含有する絶縁性被覆層
３を有し、さらにその表面上に高誘電率物質を含
有しない絶縁性被覆層４を有する構造を有してい
る。５は放電電極で、通常アルミニウム、ステン
レス、鉄等の金属が用いられる。６はコロナ放電
処理されるウエブ（例えば写真用の疎水性表面を
する支持体）で、７は放電状態を模式的に表わし
たものである。本発明の別の態様として第１図の
放電電極５の代りにアースロール１と同形のロー
ル電極を使用する場合は、アースロールは金属表
面を露出した金属ロールを用いてもよい。
１図に示した。１はアースロールで金属ロール２
の表面上に高誘電率物質を含有する絶縁性被覆層
３を有し、さらにその表面上に高誘電率物質を含
有しない絶縁性被覆層４を有する構造を有してい
る。５は放電電極で、通常アルミニウム、ステン
レス、鉄等の金属が用いられる。６はコロナ放電
処理されるウエブ（例えば写真用の疎水性表面を
する支持体）で、７は放電状態を模式的に表わし
たものである。本発明の別の態様として第１図の
放電電極５の代りにアースロール１と同形のロー
ル電極を使用する場合は、アースロールは金属表
面を露出した金属ロールを用いてもよい。
本発明における高誘電率物質を含有しない絶縁
性被覆層（以下単に上層という）を形成する絶縁
性物質としては通常シリコンゴム、エチレンプロ
ピレンゴム、ハイパロン等のゴムが用いられる
が、これに限定されない。これらのゴムの比誘電
率は通常８以下である。
性被覆層（以下単に上層という）を形成する絶縁
性物質としては通常シリコンゴム、エチレンプロ
ピレンゴム、ハイパロン等のゴムが用いられる
が、これに限定されない。これらのゴムの比誘電
率は通常８以下である。
上層の層厚は出来るだけ薄い方が好ましく、通
常0.1〜２mmの範囲で使用されるが、特に0.1〜１
mmの範囲が好ましい。この範囲より層厚が厚くな
るとコロナ帯電の均一性が悪くなり帯電ムラを生
じる。
常0.1〜２mmの範囲で使用されるが、特に0.1〜１
mmの範囲が好ましい。この範囲より層厚が厚くな
るとコロナ帯電の均一性が悪くなり帯電ムラを生
じる。
本発明に用いられる高誘電率物質は比誘電率20
以上の粉体状のものが好ましく、粉体の粒状は直
径約50μ以下、好ましくは約10μ以下のものがよ
い。本発明に用いるに好ましい高誘電率物質とし
てはチタン酸バリウム（比誘電率1150〜3200）チ
タン酸ジルコニウム（同55）等のチタン酸塩級び
酸化チタン（同30〜90）等のセラミツクが挙げら
れるが、これらに限定されない。これらの高誘電
率物質のうちチタン酸バリウムが最も好ましい。
以上の粉体状のものが好ましく、粉体の粒状は直
径約50μ以下、好ましくは約10μ以下のものがよ
い。本発明に用いるに好ましい高誘電率物質とし
てはチタン酸バリウム（比誘電率1150〜3200）チ
タン酸ジルコニウム（同55）等のチタン酸塩級び
酸化チタン（同30〜90）等のセラミツクが挙げら
れるが、これらに限定されない。これらの高誘電
率物質のうちチタン酸バリウムが最も好ましい。
下層の絶縁性被覆層中における高誘電率物質の
含有量は、通常、絶縁性被覆層を形成する絶縁性
被覆層１重量部に対し、約0.3〜約３重量部の範
囲で含有されるのがよい。含有量を多くするに伴
いコロナ帯電の均一性が向上するが、余り多くな
ると絶縁性被覆層の物性が劣化したり、又高誘電
率物質の分散が不均一になるので、実用的にはこ
れらを考慮して決定すればよい。
含有量は、通常、絶縁性被覆層を形成する絶縁性
被覆層１重量部に対し、約0.3〜約３重量部の範
囲で含有されるのがよい。含有量を多くするに伴
いコロナ帯電の均一性が向上するが、余り多くな
ると絶縁性被覆層の物性が劣化したり、又高誘電
率物質の分散が不均一になるので、実用的にはこ
れらを考慮して決定すればよい。
絶縁性被覆層を形成する絶縁性物質としては、
上層と同様通常、シリコンゴム、エチレンプロピ
レンゴム、ハイパロン等のゴムが用いられるが、
これらに限定されない。
上層と同様通常、シリコンゴム、エチレンプロピ
レンゴム、ハイパロン等のゴムが用いられるが、
これらに限定されない。
下層の絶縁性被覆層の層厚は通常約１〜10mm、
好ましくは２〜７mmの範囲で使用されるが、特に
限定されない。
好ましくは２〜７mmの範囲で使用されるが、特に
限定されない。
尚、本発明でいう比誘電率は、周波数100KHz
で測定した値を示す。
で測定した値を示す。
本発明のコロナ放電方法は写真乳剤層の如き厳
密なその均一性を要求される親水性の薄層を疎水
性表面を有する支持体に塗布するための親水化方
法として好適である。
密なその均一性を要求される親水性の薄層を疎水
性表面を有する支持体に塗布するための親水化方
法として好適である。
本発明が適用できる疎水性表面を有する支持体
としてはポリエチレン、ポリプロピレン、エチレ
ン―ブテン共重合体等のポリオレフイン系重合体
を紙、他の合成フイルムあるいは金属箔等の基体
の両面又は片面にラミネートしたものがその代表
的なものであるが、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリスチレン等その他の疎水性フイルムにも
適用することができる。これらの疎水性重合体層
には二酸化チタン、カーボンブラツク等の顔料、
その他染料、増白剤、帯電防止剤等の添加剤が含
有されていてもよい。これらの支持体の疎水性表
面は粗面化されたものであつてもよい。
としてはポリエチレン、ポリプロピレン、エチレ
ン―ブテン共重合体等のポリオレフイン系重合体
を紙、他の合成フイルムあるいは金属箔等の基体
の両面又は片面にラミネートしたものがその代表
的なものであるが、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリスチレン等その他の疎水性フイルムにも
適用することができる。これらの疎水性重合体層
には二酸化チタン、カーボンブラツク等の顔料、
その他染料、増白剤、帯電防止剤等の添加剤が含
有されていてもよい。これらの支持体の疎水性表
面は粗面化されたものであつてもよい。
本発明のコロナ放電処理装置により親水化され
た疎水性表面を有する支持体に塗布される塗層と
しては、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀等
のハロゲン化銀乳剤層およびハレーシヨン防止
層、下引層、パツキング層等種々の親水性コロイ
ド含有層がその代表的なものであり、親水性コロ
イドとしてはゼラチン、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ポリビニルメチルエーテル、メチルビ
ニルエーテル―無水マレイン酸共重合体、スチレ
ン―無水マレイン酸共重合体等種々のものが使用
される。これらの親水性コロイド含有層にはハイ
ドロキノン、１―フニエル―３―ピラゾリドンの
如き現像主薬、カーボンブラツク、二酸化チタ
ン、シリカ、タルク、クレー、硫酸バリウム、酸
化亜鉛、米でんぷん等の顔料やマツト化剤、ホル
マリン、クロム明バン等の硬化剤、湿潤剤、カプ
ラー、銀錯塩拡散転写用銀沈澱核等が必要により
含有される。
た疎水性表面を有する支持体に塗布される塗層と
しては、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀等
のハロゲン化銀乳剤層およびハレーシヨン防止
層、下引層、パツキング層等種々の親水性コロイ
ド含有層がその代表的なものであり、親水性コロ
イドとしてはゼラチン、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセ
ルロース、ポリビニルメチルエーテル、メチルビ
ニルエーテル―無水マレイン酸共重合体、スチレ
ン―無水マレイン酸共重合体等種々のものが使用
される。これらの親水性コロイド含有層にはハイ
ドロキノン、１―フニエル―３―ピラゾリドンの
如き現像主薬、カーボンブラツク、二酸化チタ
ン、シリカ、タルク、クレー、硫酸バリウム、酸
化亜鉛、米でんぷん等の顔料やマツト化剤、ホル
マリン、クロム明バン等の硬化剤、湿潤剤、カプ
ラー、銀錯塩拡散転写用銀沈澱核等が必要により
含有される。
本発明が適用される塗布方式としては、デイツ
プ方式、エアーナイフ方式、キス方式、ビード方
式、カーテン方式等種々の方式があるが、ビード
方式、カーテン方式等の高速塗布方式に有利であ
る。本発明の実施に際して上記親水性有機コロイ
ド溶液は単液層あるいは複数の液層として塗布さ
れる。
プ方式、エアーナイフ方式、キス方式、ビード方
式、カーテン方式等種々の方式があるが、ビード
方式、カーテン方式等の高速塗布方式に有利であ
る。本発明の実施に際して上記親水性有機コロイ
ド溶液は単液層あるいは複数の液層として塗布さ
れる。
次に本発明の実施例を示すが、これに限定され
るものではない。
るものではない。
実施例 １
第１図に示したコロナ放電処理装置において、
鉄製金属ロールの表面を、ハイパロン（絶縁性物
質）１重量部に対し、平均粒径約５μのチタン酸
バリウム（高誘電率物質）２重量部を均一に分散
含有させた厚さ４mmの絶縁性被覆層で被覆し、こ
の上にさらに厚さ0.5mmのシリコンゴムから成る
絶縁性被覆層で被覆したアースロールを使用した
（本発明）。このアースロール上の坪量160g/m2の
紙基体の両面を30μ厚のポリエチレン層で被覆し
た写真用支持体を60m／分の速度で矢印の方向に
走行させながら、コロナ周波数110KHz、放電電
流1.0Aでコロナ放電処理を行つた。放電電極の
先端部と支持体表面との間隔は500μとした。
鉄製金属ロールの表面を、ハイパロン（絶縁性物
質）１重量部に対し、平均粒径約５μのチタン酸
バリウム（高誘電率物質）２重量部を均一に分散
含有させた厚さ４mmの絶縁性被覆層で被覆し、こ
の上にさらに厚さ0.5mmのシリコンゴムから成る
絶縁性被覆層で被覆したアースロールを使用した
（本発明）。このアースロール上の坪量160g/m2の
紙基体の両面を30μ厚のポリエチレン層で被覆し
た写真用支持体を60m／分の速度で矢印の方向に
走行させながら、コロナ周波数110KHz、放電電
流1.0Aでコロナ放電処理を行つた。放電電極の
先端部と支持体表面との間隔は500μとした。
比較用として前記本発明に係るアースロールに
おいて、上層のシリコンゴムから成る絶縁性被覆
層を有しないアースロールを使用し、同様のコロ
ナ放電処理を行つた。
おいて、上層のシリコンゴムから成る絶縁性被覆
層を有しないアースロールを使用し、同様のコロ
ナ放電処理を行つた。
本発明のコロナ放電処理装置は写真用支持体表
面に約8000時間に亘り均一なコロナ帯電を与えた
が、比較用のコロナ放電処理装置は約1000時間で
アースロール表面が部分的に劣化を生じ、コロナ
帯電ムラが発生した。
面に約8000時間に亘り均一なコロナ帯電を与えた
が、比較用のコロナ放電処理装置は約1000時間で
アースロール表面が部分的に劣化を生じ、コロナ
帯電ムラが発生した。
実施例 ２
実施例１で使用した本発明のコロナ放電処理装
置において、上層のシリコンゴムから成る絶縁性
被覆層の代りに、厚さ1.0mmのハイパロンからな
る絶縁性被覆層を有するアースロールを使用し、
同様にコロナ放電処理したところ約5000時間に渡
り均一なコロナ帯電を与えた。
置において、上層のシリコンゴムから成る絶縁性
被覆層の代りに、厚さ1.0mmのハイパロンからな
る絶縁性被覆層を有するアースロールを使用し、
同様にコロナ放電処理したところ約5000時間に渡
り均一なコロナ帯電を与えた。
実施例 ３
実施例２において上層のハイパロンの代りにエ
チレンプロピレンゴムから成る絶縁性被覆層を有
するアースロールを使用し、同様に処理したとこ
ろ約4000時間に渡り均一なコロナ帯電を与えた。
チレンプロピレンゴムから成る絶縁性被覆層を有
するアースロールを使用し、同様に処理したとこ
ろ約4000時間に渡り均一なコロナ帯電を与えた。
第１図は本発明のコロナ放電処理装置を用いた
コロナ放電処理の模様を模式的に説明した断面
図。 １……アースロール、２……金属ロール部、３
……高誘電物質を含有する絶縁性被覆層、４……
高誘電物質を含有しない絶縁性被覆層、５……コ
ロナ放電電極。
コロナ放電処理の模様を模式的に説明した断面
図。 １……アースロール、２……金属ロール部、３
……高誘電物質を含有する絶縁性被覆層、４……
高誘電物質を含有しない絶縁性被覆層、５……コ
ロナ放電電極。
Claims (1)
- １ 金属ロール表面上に高誘電率物質を含有する
絶縁性被覆層を設け、該層上に高誘電率物質を含
有しない絶縁性被覆層を設けたアースロールある
いはロール電極を備えたコロナ放電処理装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11210582A JPS594437A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | コロナ放電処理装置 |
| US06/743,779 US4649097A (en) | 1982-05-31 | 1985-06-12 | Corona discharge apparatus and method for corona discharge treatment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11210582A JPS594437A (ja) | 1982-06-29 | 1982-06-29 | コロナ放電処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS594437A JPS594437A (ja) | 1984-01-11 |
| JPS621537B2 true JPS621537B2 (ja) | 1987-01-14 |
Family
ID=14578265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11210582A Granted JPS594437A (ja) | 1982-05-31 | 1982-06-29 | コロナ放電処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS594437A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5558843A (en) * | 1994-09-01 | 1996-09-24 | Eastman Kodak Company | Near atmospheric pressure treatment of polymers using helium discharges |
-
1982
- 1982-06-29 JP JP11210582A patent/JPS594437A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS594437A (ja) | 1984-01-11 |
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