JPS62165665A - 露光制御方法 - Google Patents

露光制御方法

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Publication number
JPS62165665A
JPS62165665A JP61008619A JP861986A JPS62165665A JP S62165665 A JPS62165665 A JP S62165665A JP 61008619 A JP61008619 A JP 61008619A JP 861986 A JP861986 A JP 861986A JP S62165665 A JPS62165665 A JP S62165665A
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JP
Japan
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light source
time
exposure
output
shutter
Prior art date
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Pending
Application number
JP61008619A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Hirooka
広岡 努
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP61008619A priority Critical patent/JPS62165665A/ja
Publication of JPS62165665A publication Critical patent/JPS62165665A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、プリント配線基板や半導体基板あるいは刷板
等を作成する場合に、感光剤を塗布した基板の表面に所
定のパターンを露光焼けける露光制御方法に関する。
(従来技術) 感光剤を塗布した基板(以下、感光材料という)の表面
に所定のパターンを露光焼付ける露光装置は、少なくと
も一方にガラス等の透明材料を有する上下一対の焼付用
枠の間に、原画パターンを感光材料の片面あるいは両面
に配し、焼付用」二下枠で挟持し、上下枠間を排気する
ことにより、原画パターンと感光材料とを密着させた後
、露光させてパターンを感光材料に焼付けるようになっ
ている。
この場合、露光開始時において、吸引密着が完了してい
ること、及び、光源が定格の明るさで点灯していること
か必要である。
従来、この露光制御をするものとして、例えば、特公昭
55−41417号公報に示されたものや、特開昭Go
−70452号公報に示されたものが知られている。
特公昭55−41417号公報に示されたものでは、光
源が点灯した後定格出力になるまでの立上り時間よりも
、所定時間遅延させてシャッタを開き、シャッタが開い
た時の光源は完全に適正な条件で感光材料を照射し、設
定された露光時間後、シャッタを閉じて露光完了信号を
発するとともに光源を消灯するようにしている。
また、特開昭60−70452号公報に示されたもので
は、シャツタ開の信号が印加されると同時に、光源に定
格電力を供給してシャッタが全開して基板に到達する光
強度を一定とし、その積算露光量が目標値に達した段階
で光源の入力を定格電力のほぼ1/4にダウンさせると
同時にシャッタを閉にする信号を発し、シャッタが閉じ
ている状態では光源の入力を定格電力の半分に保持する
ようにしている。
(解決しようとする問題点) 特公昭55−41417号公報に示されている露光制御
力法を真空吸着露光装置に適用すると、パターン原画と
感光材料とが密着した後、光源を点灯することになるた
め、感光材料及びパターン原画を焼付用上下枠にセット
した後、露光が完了するまでのトータル時間は、第8図
(A)に示すように、真空吸着開始から真空吸着完了ま
での時間をT’s光源点灯から光源強度が安定するまで
の時間をT2、設定した遅延時間をδ、シャッタ開放時
間をTコとすると、全焼付作業時開D=T。
+T2+δ+T、となる。
そして、この種の露光装置においては、光源灯の耐久性
を優れたものにするために、マイクロ波発生式無電極光
源灯を使用することが望ましいが、このマイクロ波発生
式無電極光源灯の場合、点灯開始から適正照度になるま
での安定化時間(T2)に1分以上の時間を要し、焼付
作業時間(D)が長くなるという問題があった。
主た、特開昭60 70452号公報に示されている露
光制御方法を吸着露光装置に適用した場合、シャッタ閉
塞状態では露光強度の約半分の強光強度で点灯しており
、シャッタの開作動と同時に光強度を増加させるように
し、シャッタの閉作動と同時に光強度を露光強度の約1
/4に減じるようにしていることから、感光材料及び原
画パターンを焼付用上下枠にセットした後、露光が完了
するまでの時間は、第8図(B)に示すように、真空吸
着開始から真空吸着完了までの時間をT1、シャッタ開
放時間をT、とすると、全焼付作業時間D=T、+Tコ
となるが、シャッタの開閉作動と同時に光源出力を増加
又は減少させていることか呟露光量の設定が難かしく、
積算光量計を付加しなければならない。このため、装置
全体が高価となるうえ、感光材料に所定の露光量を付与
するための時間が当初から安定光強度で露光するらのに
較べて長くなるという問題がある。
そこで、光源を常時定格出力に維持して、シャッタの開
閉牟動のみで露光制御することら考えられるが、この場
合には、直接露光に寄与しない時間中も光源が定格出力
を保持することになるため、電気エネルギーを無駄に消
費するうえ、発熱量が大きく装置が過熱するという問題
がある。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、従来方法の上述のような問題、(裏を解消す
るものであって、焼付用上下枠での感光材料とパターン
原画の吸引密着が完了した時点では、光源が定格の明る
さに点灯しており、シャッタの開作動と同時に定格光量
で露光できるようにしたもので、そのために、パターン
原画と感光材料とが真空密着を完了する時刻よりも光源
安定化所要時間前に、焼付用光源の出力を定格出力の1
/Nの出力となる減光出力状態から定格出力となる露光
状態に切換え、真空密着完了と同時にシャッタを開くよ
うに構成したことを特徴とするものである。
(作用及び効果) 本発明では、パターン原画の精度等により設定される真
空密着完了時上りら光源安定化所要時間前に、焼付用光
源の出力を減光出力状態から露光出力状態に切換えるよ
うに構成しであるので、真空密着完了時点では光源出力
は露光用出力に安定することになる。このため、真空密
着完了と同時にシャッタを開いても、シャッタの開作動
と同時に安定した定格光量で露光することになり、従来
必要とされていた光源安定化のための時間をりくして、
全作業時間を短縮化することができる。
また、シャッタの開作動と同時に安定した光源の定格出
力で露光することができることか呟露光量の設定が容易
となり、積算光量計等の高価な機器を用いなくてもよく
、装置を安価に構成することがでこる。
さらに、光源出力は、定格出力の1/Nの減光状態と、
定格出力の露光状態との間で切換わるらのであるか呟光
源を常時定格出力とした場合に較べて省エネルギー及び
過熱防止の効果がある。
(実施例) 第1図は本発明の実施例の吸引圧・光源光量・露光量の
タイムチャート、第2図は70−チャート、第3図は露
出装置概要図、第4図は装置の要部断面図を示す。
この露出装置(1)は、二つの焼付用枠(2)を交互に
感光材料取替え位置と露光位置とに入換え可能に構成し
てあり、露光位置における焼付用枠保持個所の上下に、
光照射手段(3)がそれぞれ吊設しである。光照射手段
(3)は、マイクロ波発生式無電極光源(4)、シャッ
タ(5)、反射板(6)及びシャッタ駆動手段(7)と
で構成しである。そして、感光材料取り替え位置の前端
部と露出位置の奥端部とには、それぞれリミットスイッ
チ(8a)(8b)が設けてあり、焼付用枠駆動用モー
タ(9)で水平往復移動する各焼付用枠(2)を感光材
料取り替え位置と露光位置とにセットできるように構成
しである。また、各焼付用枠(2)は真空排気手段(1
0)に連通連結させである。
各焼付用枠(2)は第4図に示すように、下面に透明フ
ィルム(11)を張設した上枠(12)と上面にガラス
板(13)を固着した下枠(14)とで構成しである。
下枠(14)のプラス板(13)の上面にはその端縁部
に沿ってパツキン(15)が配置してあり、上枠(12
)を下枠(14)上に重さね合せることにより、パツキ
ン(15)、ガラス板(13)、透明フィルム(11)
で囲まれる部分でチャンバー(16)を形成するように
なっている。このチャンバー(16)は途中に電磁弁(
17)を配置した通気路(18)を介して真空ポンプ等
の前記真空排気手段(10)に連通している。
上枠(12)を仮想線で示す感光材料投入位置(W)に
保持した状態で、感光材料(19)をその表裏両面にパ
ターン原画(20)を重ね合せて下枠(14)のガラス
板(13)上に載置した後、上枠(12)を実線で示す
感光材料セット位置(S)まで移動させ、チャンバー(
16)内を真空排気手段(10)で真空にすることによ
り、上枠(12)のフィルム(11)をプラス板(13
)上に載置した感光材料(19)等に密着させることに
より、パターン原画(20)を感光材料(19)に密着
させることかできる。
マイクロ波発生式無電極光源(4)では、消灯状態から
点灯に切換えた時、その光源法からの出力がフルパワー
の90%に達するまで40秒以上かかり、フルパワーに
なるにはその倍以上の時間がかかる。
このような無電極光源の定格化に必要な時間は、連続し
て焼付作業を行う場合は無視することができない。
そこで、本実施例では第5図に示すように、−大電源(
21)からの電力をトランス(22)を介してマイクロ
波発生器(23)に供給する回路の一次回路(24)に
スイッチ(25)とコイル抵抗(26)とが並列に配置
しである。従って、この回路では、スイッチ(25)の
回路遮断状態では、抵抗(26)が働いてマイクロ波発
生回路(23)に印加される電力が減少し、無電極光源
(4)より発生する光の強度ら減少して減光出力状態と
なる。一方、スイッチ(25)の回路導通状態では、マ
イクロ波発生回路(23)に印加される電力が減少する
ことがないので、無電極光源より発生する光の強度はフ
ルパワーの露光出力状態となる。
この回路では第6図に示すように、周波数60Hzの電
源で常時50%の電力をマイクロ波発生式無電極光源(
4)に印加した場合、光源法からの出力はフルパワ一時
の光強度の30%となり、印加電力を50%から100
%に切換えた瞬間、光源法からの紫外線出力は30%か
ら50%に切換わり、その後略8秒後に90%まで上昇
し、フルパワーの光を出力するまで約20秒かかる。
次に本発明の作動を第1図及び第7図に基づいて説明す
る。
第7図は本発明のブロック図を示す。符号(27)は第
4図における上枠(12)を下枠(13)に重ね合せた
際に導通状態となるリミットスイッチであり、このリミ
ットスイッチ(27)がONとなると、チャンバー(1
6)と真空排気手段(10)との間の電磁弁(17)が
作動して、チャンバー(16)内からの排気が始まり(
S、)、それと同時にタイマー(2S)が作動を開始す
る。
この段階で焼付用枠移送制御スイッチ(29)をON作
動させると、駆動用モータ(9)が作動して焼付用枠(
2)を移送する(S2)。焼付用枠(2)が露光位置主
ご移動すると、焼付枠移送制御用リミットスイッチ(8
1))がONとなり、焼付用枠(2)が露光位置にセッ
トされる。
タイマー(28)にはチャンバー(16)内が所定の真
空圧になるのに必要な時間(T1)が予め設定してあり
、この真空′e;着所要所要時間1)と、減光出力状態
から露光出力状態に切換わっでから光源が安定化するま
でに必要な時間(T2)との差を演算する回路(30)
により、真空排気手段(10)が作■j開始してからの
経過時間(T)がT≧(T、−T2)となった時(S、
)、第一リレー(31)を導通させてパワーコントロー
ラ(32)を作動させ、第5図におけるスイッチ(25
)を導通させてマイクロ波発生回路(23)にフルパワ
ーを入力する(S4)。
タイマー(28)が真空密着所要時間(T1)になると
(S、)、第二リレー(33)を作動させてシャッタ(
5)を開き(S6)、光源(4)からの紫外線を焼付用
枠(2)の上下から一定時間(T3)照射する。
タイマー(28)が真空密着所要時間(T1)と露光時
間(T、)の和の時間を計113すると(S7)、第三
リレー(34)を開き、通気路(18)中の電磁弁(1
7)を切換え作動させてチャンバー(16)内を大気に
開放するとともに、第二リレー(33)を作動させてシ
ャッタを閉じ(S8)、同時に第一リレー(31)を遮
断して、スイッチ(25)を遮断状態にして、マイクロ
波発生回路(23)への人力を半減させる。以下同様に
して露光は作が繰返される。この場合、真空密着所要時
1Il(T1)や所要露光時間(′「っ)は、パターン
原画や感光材料の精度等により決定されるものであり、
予め設定入力しておく。また、光源安定化所要時(1旧
T2)は光源の特性によって決定される固定値である。
なお、上記実施例では、両面から露光可能な焼付用枠(
2)を二つ用意して又互に露光で・きるものを示したが
、これは一つであってもよく、また、片面からのみ露光
できるものであってもよい。
さらに、露光用の光源としては、マイクロ波発生式無電
極光源に限らず、池の光源であってもよ−1゜
【図面の簡単な説明】
T51図は本発明の実施例の吸引圧・光i原光量・露光
量のタイムチャート、第2図はフローチャート、第3図
は露出装置概要図、第・・1図は装置の要部断面図、第
5図はマイクロ波発生式無電極光源の回路図、fflG
図は光源立上り特性図、第7図はブロック図、第8図(
A)(B)は従来方法の吸引圧・光源光量・露光量のタ
イムチャートである。 、1・・・光源、5・・・シャッタ、7・・・シャ2夕
駆動手段、12・・・上枠、14・・・下枠、19・・
・感光材料、20・・・パターン原画、]゛1・・・真
空密着所要時間、′1゛2・・・光源安定化所要時間。 特許出J、91人  大日本スクリーン製造株式↑社第
2図 嬉6図 第3図 第70

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、少なくとも一方に透明材料を有する上枠と下枠との
    間にパターン原画と感光材料とを挟着保持し、上下枠間
    の内部を排気してパターン原画と感光材料とを密着させ
    、シャッタを駆動機構で開閉することにより、光源から
    の照射光で感光材料にパターンを焼付ける方法において
    、 パターン原画と感光材料との真空密着完了時より前であ
    って光源安定化所要時間前に、焼付用光源の出力を定格
    出力の1/Nの出力となる減光出力状態から定格出力と
    なる露光状態に切換え、真空密着完了と同時にシャッタ
    を開くようにした露光制御方法 2、露光時間完了後、シャッタの閉作動と同時に焼付用
    光源の出力を露光出力状態から減光出力状態に切換える
    ようにした特許請求の範囲第1項に記載の露光制御方法
JP61008619A 1986-01-17 1986-01-17 露光制御方法 Pending JPS62165665A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5230963U (ja) * 1975-08-28 1977-03-04

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5230963U (ja) * 1975-08-28 1977-03-04

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