JPS6217132A - 耐食性に優れかつ高い飽和磁化を有する窒化鉄磁性材料の製造方法 - Google Patents
耐食性に優れかつ高い飽和磁化を有する窒化鉄磁性材料の製造方法Info
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- JPS6217132A JPS6217132A JP60156060A JP15606085A JPS6217132A JP S6217132 A JPS6217132 A JP S6217132A JP 60156060 A JP60156060 A JP 60156060A JP 15606085 A JP15606085 A JP 15606085A JP S6217132 A JPS6217132 A JP S6217132A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1244—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties characterised by the heat treatment
- C21D8/1255—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties characterised by the heat treatment with diffusion of elements, e.g. decarburising, nitriding
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- Soft Magnetic Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、耐食性に優れかつ高い飽和磁化を有する窒
化鉄磁性材料の製造方法に関し、とくに（１００｝＜０
ｋｌ〉方位粒の集積度を高めた薄帯の表層に、Ｆｅ＋ｓ
Ｎ２鉄窒化物を優先形成させることにより、上記緒特性
の効果的な向上を図ろうとするものである。
化鉄磁性材料の製造方法に関し、とくに（１００｝＜０
ｋｌ〉方位粒の集積度を高めた薄帯の表層に、Ｆｅ＋ｓ
Ｎ２鉄窒化物を優先形成させることにより、上記緒特性
の効果的な向上を図ろうとするものである。
（従来の技術）
近年の電子材料の飛躍的な発展は、磁性材料の開発研究
に負うところが極めて大きいが、最近では、鉄心、磁気
録音および電子機器の小型化ならびに情報の高密度化な
どのため、飽和磁化が一層高く、しかも耐食性にも優れ
た磁性材料が要求されている。とくに従来、磁性材料と
して酸化物が使用されていた分野においては、金属と酸
化物との中間的性質をもつたとえばＦｅ、Ｎの如き窒化
物が、飽和磁化および硬度が高く、しかも金属鉄に比べ
て耐食性に富むなど優れた特性をそなえていることから
、磁性材料として見直されてきている。
に負うところが極めて大きいが、最近では、鉄心、磁気
録音および電子機器の小型化ならびに情報の高密度化な
どのため、飽和磁化が一層高く、しかも耐食性にも優れ
た磁性材料が要求されている。とくに従来、磁性材料と
して酸化物が使用されていた分野においては、金属と酸
化物との中間的性質をもつたとえばＦｅ、Ｎの如き窒化
物が、飽和磁化および硬度が高く、しかも金属鉄に比べ
て耐食性に富むなど優れた特性をそなえていることから
、磁性材料として見直されてきている。
この点、発明者らは先に（Ｙ、Ｉｎｏｋｕｔｉ、 Ｎ、
Ｎ１５ｈｉｄａ ａｎｄ Ｎ、０ｈａｓｈｉ： Ｍｅｔ
、 ｔｒａｎｓ、 ６Ａ（１９７５）、Ｐ、７７３）
および（井口征夫二 日本金属学会会ＰＩ、 １５ （
１９７５） 。
Ｎ１５ｈｉｄａ ａｎｄ Ｎ、０ｈａｓｈｉ： Ｍｅｔ
、 ｔｒａｎｓ、 ６Ａ（１９７５）、Ｐ、７７３）
および（井口征夫二 日本金属学会会ＰＩ、 １５ （
１９７５） 。
Ｐ、１０１）において開示したように、種々の結晶方位
を有する純鉄単結晶を４５０℃から５５０℃の温度にお
いて窒化処理した場合、Ｆｅ３Ｎ窒化物が（１１１）ｃ
Ｌ面、 Ｆｅ、Ｎ窒化物が（２１０）＝ｚ 面、モし
てＦｅ１６Ｎ２窒化物が（１００）α 面上にそれぞれ
優先析出することを見出した。
を有する純鉄単結晶を４５０℃から５５０℃の温度にお
いて窒化処理した場合、Ｆｅ３Ｎ窒化物が（１１１）ｃ
Ｌ面、 Ｆｅ、Ｎ窒化物が（２１０）＝ｚ 面、モし
てＦｅ１６Ｎ２窒化物が（１００）α 面上にそれぞれ
優先析出することを見出した。
またこれらの鉄窒化物は鉄マトリックスとの整合が良好
である結晶面に優先析出するだけでなく、とくに表面近
傍に優先析出させた場合には、通常鋼中で観察される窒
化物よりもサイズが３〜１０倍程度程度くなることも併
せて見出した。
である結晶面に優先析出するだけでなく、とくに表面近
傍に優先析出させた場合には、通常鋼中で観察される窒
化物よりもサイズが３〜１０倍程度程度くなることも併
せて見出した。
（発明が解決しようとする問題点）
この発明は、上記の知見に基づき、鉄窒化物の良好な耐
食性を活かしつつ、飽和磁化をより一層向上させること
についての弛まぬ努力の末に開発された研究成果を、開
示するものである。
食性を活かしつつ、飽和磁化をより一層向上させること
についての弛まぬ努力の末に開発された研究成果を、開
示するものである。
（問題点を解決するための手段）
さて発明者らは、素材鋼板としては、溶鋼から直接薄板
を製造するいわゆる直接製板法（たとえば特開昭５５−
６９２２３号、同５６−８７６２７号、特公昭５８−５
３６９４号および同５ｇ−５８４０９号各公報参照）に
よって製造された急冷薄帯に、焼鈍処理を施すことによ
って（１００｝＜０ｋｌ〉方位粒の集積度を高めたもの
が最適との認識に立って、かかる薄帯に対するその後の
窒化処理について根本的な再検討を加えた。
を製造するいわゆる直接製板法（たとえば特開昭５５−
６９２２３号、同５６−８７６２７号、特公昭５８−５
３６９４号および同５ｇ−５８４０９号各公報参照）に
よって製造された急冷薄帯に、焼鈍処理を施すことによ
って（１００｝＜０ｋｌ〉方位粒の集積度を高めたもの
が最適との認識に立って、かかる薄帯に対するその後の
窒化処理について根本的な再検討を加えた。
その結果、上記した如き集合組織制御薄帯については、
内部に均一に鉄窒化物を生成させるよりも、薄帯のごく
表面近傍にのみ窒化層を形成させることが、所期した目
的の達成に、より効果的であることの知見を１等だ。
内部に均一に鉄窒化物を生成させるよりも、薄帯のごく
表面近傍にのみ窒化層を形成させることが、所期した目
的の達成に、より効果的であることの知見を１等だ。
この発明は、上記の知見に立脚するものである。
すなわちこの発明は、Ｆｅを主成分とする溶鋼を、その
噴射ノズルから、冷却面が高速で更新移動する冷却体上
に連続して供給し、急冷凝固させて２０〜５００μｍ厚
の薄帯としたのち、１０００℃以上の温度で焼鈍を施し
て（１００｝＜０ｋｌ〉方位粒の集積度を高め、ついで
表面を研磨してから、イオンプレーディングまたはイオ
ンインプランテーションによる窒化処理により、薄帯表
層にＦｅ１６Ｎ２鉄窒化物を優先形成させることを特徴
とする、耐食性Ｊこ（多れかつ高い飽和磁化を有する窒
化鉄磁性材料の製造方法である。
噴射ノズルから、冷却面が高速で更新移動する冷却体上
に連続して供給し、急冷凝固させて２０〜５００μｍ厚
の薄帯としたのち、１０００℃以上の温度で焼鈍を施し
て（１００｝＜０ｋｌ〉方位粒の集積度を高め、ついで
表面を研磨してから、イオンプレーディングまたはイオ
ンインプランテーションによる窒化処理により、薄帯表
層にＦｅ１６Ｎ２鉄窒化物を優先形成させることを特徴
とする、耐食性Ｊこ（多れかつ高い飽和磁化を有する窒
化鉄磁性材料の製造方法である。
以下この発明を具体的に説明する。
まずこの発明の素材については、Ｆｅを主成分とするも
のであれば良く、添加元素はとくに限定しないが、所期
した目的達成のためには、下記の元素をそれぞれ適正範
囲内で添加することは有利である。
のであれば良く、添加元素はとくに限定しないが、所期
した目的達成のためには、下記の元素をそれぞれ適正範
囲内で添加することは有利である。
Ｃは、鋼中に存在すると磁気特性を劣化させるので０．
０２％以下とするのが好ましい。
０２％以下とするのが好ましい。
Ｓｉは、電気抵抗を高め鉄損を低下させるのに有功に寄
与し、１０％以下であれば直接製板法では問題なく薄帯
とすることができる。
与し、１０％以下であれば直接製板法では問題なく薄帯
とすることができる。
λ１ｎは、加工性を向上させるが、大量に添加すると磁
気特性を劣化させるので２％以下が好ましい。
気特性を劣化させるので２％以下が好ましい。
Ｓは、大量に含有されると粒界割れが多発するとともに
磁気特性を劣化させるので、０．０３％以下が適当であ
る。
磁気特性を劣化させるので、０．０３％以下が適当であ
る。
その地下可避元素であるＴｉ、’ Ｚｒ、 Ｖ、 Ｎｂ
； Ｔａ、 Ｃｒ。
； Ｔａ、 Ｃｒ。
Ｍｏ、 １＋１． Ｃｕ、 Ｎｉ、 Ｃｏ、 Ｐ、 Ｂ
、 ＡＩ、 Ｓｎ、 Ｐｂ、 Ｓｂ、 ＢｉおよびＳｅ
などの混入は、少予てあればこの発明を妨げるものでは
ない。
、 ＡＩ、 Ｓｎ、 Ｐｂ、 Ｓｂ、 ＢｉおよびＳｅ
などの混入は、少予てあればこの発明を妨げるものでは
ない。
溶鋼から直接薄帯を製造する方法としては、前掲した如
き従来の公知のいずれの方法をも使用でき、かかる急冷
法によって２０〜５００μｍ厚の薄帯とする。ここに薄
帯の厚みを２０〜５００ μｍの範囲に限定したのは、
２０μｍに満たない厚みの薄帯は安定して製造するのが
難しく、一方５００μｍを超えると冷却速度が遅くなっ
て均質な薄帯を得るのが困難となるからである。
き従来の公知のいずれの方法をも使用でき、かかる急冷
法によって２０〜５００μｍ厚の薄帯とする。ここに薄
帯の厚みを２０〜５００ μｍの範囲に限定したのは、
２０μｍに満たない厚みの薄帯は安定して製造するのが
難しく、一方５００μｍを超えると冷却速度が遅くなっ
て均質な薄帯を得るのが困難となるからである。
ついで得られた急冷薄帯を、そのまま又は場合によって
は２０％程度までの冷間圧延を施したのち、１０００℃
以上の温度で焼鈍を施す。ここに焼鈍温度が１０００℃
に満たないと、満足いく程度の（１００｝＜０ｋｌ＞方
位粒の集積度が得られないので、焼鈍温度は１０００℃
以上（好ましくは１２００℃以下）とすることが肝要で
ある。
は２０％程度までの冷間圧延を施したのち、１０００℃
以上の温度で焼鈍を施す。ここに焼鈍温度が１０００℃
に満たないと、満足いく程度の（１００｝＜０ｋｌ＞方
位粒の集積度が得られないので、焼鈍温度は１０００℃
以上（好ましくは１２００℃以下）とすることが肝要で
ある。
次に焼鈍薄帯は、酸洗後、機械的研削・研磨および／ま
たは化学研摩により、鏡面状態に仕上げる。かかる研磨
処理により、表面の酸化層を含む凹凸；ま全て除去され
ること（こなる。。
たは化学研摩により、鏡面状態に仕上げる。かかる研磨
処理により、表面の酸化層を含む凹凸；ま全て除去され
ること（こなる。。
しかるのちかくして得られた薄帯に対してイオンプレー
ティングまたはイオンインプランテーションによる窒化
処理を施すわけである。
ティングまたはイオンインプランテーションによる窒化
処理を施すわけである。
第１図に、イオンインプランテーションの実施に用いて
好適な装置を模式で示す。同図に示したところにおいて
、窒素ガスを冷陰極イオン；原１に導き、このイオン源
１で発生したイオンを３０〜４０ｋｅＶ ｉ：加速しつ
つ、このイオンビームを質量分析系２によって質量分析
を行い、所定量の窒素分子イオン（Ｎ２”）を取り出し
て、試料に照射することにより、試料表面に鉄窒化物を
形成させるわけである。
好適な装置を模式で示す。同図に示したところにおいて
、窒素ガスを冷陰極イオン；原１に導き、このイオン源
１で発生したイオンを３０〜４０ｋｅＶ ｉ：加速しつ
つ、このイオンビームを質量分析系２によって質量分析
を行い、所定量の窒素分子イオン（Ｎ２”）を取り出し
て、試料に照射することにより、試料表面に鉄窒化物を
形成させるわけである。
なお場合によっては、電子ビーム蒸着装置５を用いてＦ
ｅ、 ＡＩ、 ＳｉおよびＴ１などを蒸着する方法を併
用してもよい。
ｅ、 ＡＩ、 ＳｉおよびＴ１などを蒸着する方法を併
用してもよい。
ここに薄帯は、（１００）面の集積度が高い集合組織を
形成しているので、上記した如き窒化処理を施した場合
、薄帯表層にはＦｅ１６Ｎ２鉄窒化物が優先的に形成さ
れることになる。
形成しているので、上記した如き窒化処理を施した場合
、薄帯表層にはＦｅ１６Ｎ２鉄窒化物が優先的に形成さ
れることになる。
（作 用）
この発明に従い、（ｔｏｏ）＜Ｏｋ！〉方位粒の集積度
を高めた薄帯の表層にＦｅ＋ｅＮ２鉄窒化物を優先形成
させることによって薄帯の飽和磁化が向上する理由は、
鋼板全体にわたって鉄窒化物を形成させるよりも、鉄表
面近傍でＦｅ、ｓＮ２と地鉄との整合が（多光する結晶
面に（多光生成させた窒化物を利用する方が磁気特性に
効果的であるからと考えられる。
を高めた薄帯の表層にＦｅ＋ｅＮ２鉄窒化物を優先形成
させることによって薄帯の飽和磁化が向上する理由は、
鋼板全体にわたって鉄窒化物を形成させるよりも、鉄表
面近傍でＦｅ、ｓＮ２と地鉄との整合が（多光する結晶
面に（多光生成させた窒化物を利用する方が磁気特性に
効果的であるからと考えられる。
（実施例）
実施例Ｉ
Ｃ：０．００３％、 Ｓｉ：０．００６％、 Ｍｎ：
０．００９％およびＳ：０゜００３％を含み、残部実質
的にＦｅの組成になる溶鋼から、双ロールを用いた直接
製板法によって、３０μｍ厚の薄帯を作製した。
０．００９％およびＳ：０゜００３％を含み、残部実質
的にＦｅの組成になる溶鋼から、双ロールを用いた直接
製板法によって、３０μｍ厚の薄帯を作製した。
ついでこの薄帯表面に、Ａｌ２Ｏ３ニア０％、 ＭｇＯ
＋２５％。
＋２５％。
ＴｌＯ２’５％からなる焼鈍分離剤を塗布してからコイ
ルに巻取り、乾水素中で１１５０℃、５時間の箱焼鈍を
施した。
ルに巻取り、乾水素中で１１５０℃、５時間の箱焼鈍を
施した。
その後、薄帯表面をエメリー研磨（＃１２００まで）つ
゛、）で３％ＨＦとＨ２Ｏ２との混合液中で化学研磨し
たのち、前掲第１図に示したイオンインプランテーショ
ン装置により、薄帯表層に窒化処理を施した。
゛、）で３％ＨＦとＨ２Ｏ２との混合液中で化学研磨し
たのち、前掲第１図に示したイオンインプランテーショ
ン装置により、薄帯表層に窒化処理を施した。
このときの窒素分子イオンのエネルギーは４ＱｋｅＶ
。
。
イオン電流は５〜７×１０１５１ＯｎＳ／ｃｍ２であっ
た。
た。
かくして得られた製品薄帯の表面にはＦｅ＋ｓＮ２鉄窒
化物が優先的に形成されていて、その飽和磁化は２７５
００ガウスであり、また塩水噴霧試験（５０℃の５％Ｎ
ａＣ１水を５時間噴霧）によって調べた耐食性は、極め
て良好であった。
化物が優先的に形成されていて、その飽和磁化は２７５
００ガウスであり、また塩水噴霧試験（５０℃の５％Ｎ
ａＣ１水を５時間噴霧）によって調べた耐食性は、極め
て良好であった。
実施例２
Ｃ：０．００４％、 Ｓｉ：０．０（１８％、 Ｍｎ：
０．００８％およびＳ二０゜００９％を含み、残部実質
的にＦｅの組成になる溶鋼から、双ロール法によって、
４０μｍ厚の薄帯を作製した。
０．００８％およびＳ二０゜００９％を含み、残部実質
的にＦｅの組成になる溶鋼から、双ロール法によって、
４０μｍ厚の薄帯を作製した。
ついでこの薄帯に、圧下率：約２０％の冷間圧延を施し
て約３０μｍ厚に仕上げたのち、連続炉で８５０℃、５
分間の焼鈍を施した。
て約３０μｍ厚に仕上げたのち、連続炉で８５０℃、５
分間の焼鈍を施した。
その後、薄帯表面をエメリー研磨（＃１２００まで）つ
いで３％ＨＦとＨ２Ｏ２との混合液中で化学研磨したの
ぢ、イオンプレーティング法１ごより、薄帯表層に窒化
処理を施し、ついで１００℃、１５時間の焼鈍を施した
。
いで３％ＨＦとＨ２Ｏ２との混合液中で化学研磨したの
ぢ、イオンプレーティング法１ごより、薄帯表層に窒化
処理を施し、ついで１００℃、１５時間の焼鈍を施した
。
かくして得られた製品薄帯の飽和磁化は１７５００ガウ
スであり、また塩水噴霧試験によっても酸化はなく、耐
食性は極めて良好であった。
スであり、また塩水噴霧試験によっても酸化はなく、耐
食性は極めて良好であった。
実施例３
Ｃ：０．００６％、 Ｓ＋：３．９％、 ！、（ｎ ：
Ｑ、 ０８％およびＳ：０．旧％を含み、残部実質的に
Ｆｅの組成になる溶鋼から、双ロール法により６０μｍ
厚の薄帯を作製した。
Ｑ、 ０８％およびＳ：０．旧％を含み、残部実質的に
Ｆｅの組成になる溶鋼から、双ロール法により６０μｍ
厚の薄帯を作製した。
ついでコイルに巻取ってから、乾水素中で９００ｔ、
１時間の箱焼鈍を施した。
１時間の箱焼鈍を施した。
その後、薄帯表面をエメリー研磨（＃１２００まで）つ
いで３％ＨＦと８２０２との混合液中で化学研磨したの
ち、イオンインプランテーションによって薄帯表層に窒
化処理を施した。このときの窒素分子イオンのエネルギ
ーは４ＱｋｅＶ 、イオン電流は３Ｘ１０”’１ｏｎｓ
／ｃｍ２であった。
いで３％ＨＦと８２０２との混合液中で化学研磨したの
ち、イオンインプランテーションによって薄帯表層に窒
化処理を施した。このときの窒素分子イオンのエネルギ
ーは４ＱｋｅＶ 、イオン電流は３Ｘ１０”’１ｏｎｓ
／ｃｍ２であった。
かくして得られた製品薄帯の飽和磁化および耐食性につ
いて調べた結果を表１に示す。
いて調べた結果を表１に示す。
なお比較のため、窒化処理を施さない純鉄の薄帯および
純鉄粉末（５０〜３００ μｍ）試料についても同様の
調査を行い、得られた結果を表１に示した。
純鉄粉末（５０〜３００ μｍ）試料についても同様の
調査を行い、得られた結果を表１に示した。
表 １
０：酸化全くなし
×：幾分酸化あり
表１に示した成績から明らかなように、この発明に従い
得られた薄帯（Ｎｏ、１）は、純鉄の薄帯（Ｎｏ、 ２
）や純鉄粉末（Ｎｏ、３）よりもはるかに高い飽和磁
化を呈し、又耐食性も極めて良好であった。
得られた薄帯（Ｎｏ、１）は、純鉄の薄帯（Ｎｏ、 ２
）や純鉄粉末（Ｎｏ、３）よりもはるかに高い飽和磁
化を呈し、又耐食性も極めて良好であった。
（発明の効果）
かくしてこの発明によれば、純鉄よりもはるかｊこ高ヒ
）飽和磁化を有し、しがち耐食性ｊこも優れた磁性材料
を得ることができ、有利である。
）飽和磁化を有し、しがち耐食性ｊこも優れた磁性材料
を得ることができ、有利である。
第１図は、この発明の実施に用いて好適なイオンインプ
ランテーション装置の模式図である。
ランテーション装置の模式図である。
Claims (1)
- １、Ｆｅを主成分とする溶鋼を、その噴射ノズルから、
冷却面が高速で更新移動する冷却体上に連続して供給し
、急冷凝固させて２０〜５００μｍ厚の薄帯としたのち
、１０００℃以上の温度で焼鈍を施して｛１００｝＜０
ｋｌ＞方位粒の集積度を高め、ついで表面を研磨してか
ら、イオンプレーティングまたはイオンインプランテー
ションによる窒化処理により、薄帯表層にＦｅ＿１＿６
Ｎ＿２鉄窒化物を優先形成させることを特徴とする、耐
食性に優れかつ高い飽和磁化を有する窒化鉄磁性材料の
製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60156060A JPS6217132A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 耐食性に優れかつ高い飽和磁化を有する窒化鉄磁性材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60156060A JPS6217132A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 耐食性に優れかつ高い飽和磁化を有する窒化鉄磁性材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6217132A true JPS6217132A (ja) | 1987-01-26 |
| JPH0582451B2 JPH0582451B2 (ja) | 1993-11-19 |
Family
ID=15619428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60156060A Granted JPS6217132A (ja) | 1985-07-17 | 1985-07-17 | 耐食性に優れかつ高い飽和磁化を有する窒化鉄磁性材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6217132A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110257759A (zh) * | 2019-06-02 | 2019-09-20 | 邢晓英 | 一种生物相容性优异的不锈钢加工方法 |
| WO2022195928A1 (ja) * | 2021-03-15 | 2022-09-22 | 株式会社日立製作所 | 軟磁性鉄合金板およびその製造方法 |
-
1985
- 1985-07-17 JP JP60156060A patent/JPS6217132A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110257759A (zh) * | 2019-06-02 | 2019-09-20 | 邢晓英 | 一种生物相容性优异的不锈钢加工方法 |
| WO2022195928A1 (ja) * | 2021-03-15 | 2022-09-22 | 株式会社日立製作所 | 軟磁性鉄合金板およびその製造方法 |
| JP2022141180A (ja) * | 2021-03-15 | 2022-09-29 | 株式会社日立製作所 | 軟磁性鉄合金板およびその製造方法 |
| CN116888291A (zh) * | 2021-03-15 | 2023-10-13 | 株式会社日立制作所 | 软磁性铁合金板及其制造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0582451B2 (ja) | 1993-11-19 |
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