JPS62176995A - ベリル単結晶の再結晶方法 - Google Patents

ベリル単結晶の再結晶方法

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JPS62176995A
JPS62176995A JP1960086A JP1960086A JPS62176995A JP S62176995 A JPS62176995 A JP S62176995A JP 1960086 A JP1960086 A JP 1960086A JP 1960086 A JP1960086 A JP 1960086A JP S62176995 A JPS62176995 A JP S62176995A
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JP
Japan
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single crystal
beryl
beryl single
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chloride
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Pending
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JP1960086A
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Shinichi Hirano
眞一 平野
Akira Toyokuni
豊国 亮
Hiroshi Kuroda
浩 黒田
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Seiko Instruments Inc
Original Assignee
Seiko Instruments Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、現在は装飾用の合成宝石として広く用いられ
、また将来レーザー光学分野の重要な結晶として期待さ
れるベリル単結晶(CrイAンをドープした結晶はエメ
ラルド)の品質の改良方法に関わるものである。
(発明の概要) 本発明は、欠陥あるいは不純物が多く光学グレードとし
ては使用できないベリル単結晶を原料として用い、オー
トクレーブ中において、Na(u。
にαまたはc i Gelといった塩化物水溶液ぐ所定
の温度・圧力を与え、原料を再結晶させることにより、
欠陥あるいは不純物の混入を低減し光学グレードで均一
なベリル単結晶を提供することが可能となるらのである
(従来の技術) 従来、ベリル単結晶を人間の手で合成しようという試み
は様々な手法により、主に合成宝石としての応用も1指
したCrイAンをドープしたエメラルドの分野にJ3い
て、行なわれできた。
主たる方法はフラックス法、おJ:び水熱合成法である
フラックス法においてはLi2O,8003などの混合
物をフラックスとして用い、原料としてのAl120s
Beo 、 3102を1000℃付近の高温にて溶融
したフラックスに溶かしこみ、m度差をつけるあるいは
徐冷するといった操作によりベリル単結晶Be3Aj!
2(3j03)eを合成シテイル。
一方、水熱合成法においては1lce 、 llr、 
NHJといった酸性水溶液が主に用いられ、原料として
Aj!(Oll)3. Be(叶)2 、3i02を5
00℃、ioo。
Kg/cd付近の雰囲気で水溶液に溶かしこみ、温度差
をつりるといった操作によりベリル単結晶Be3 M2
(SiO3)sを合成シテイル。
この従来技術については以Fの文献に詳しく述べられて
いる。
クルト ナラソウ ジエムス メイド バインン (1
980チルトン ブック カンパニイラドプ−ペンシル
バニア)  125−158  (にurtNassa
u、  Ph、  0.  G[14S  MADE 
 BY  MAN  (1980Chilton  B
ook  Company  Radnor、 Pcn
n5ylvania)(発明が解決しようとする問題点
) 上記に述べたような従来技術においては次のような問題
点がある。
1)単結晶内部に欠陥が多い。
これはフラックス法の場合特にWA著であり、1000
℃付近の高温の溶融したフラックスより単結晶が合成さ
れるためフラックスをまきこみ、インクルージ3ンとし
ての内部欠陥となる。またフラックス法においては10
00℃付近の高温から起される内部歪も大きい欠陥とな
る。いずれにしてもフラックス法にて合成された結晶は
内部の欠陥により光学的損傷あるいは散乱を起す可能性
がありレーザーを使用する光学グレードの材料としては
使用できない。一方、水熱合成法においてはフラックス
法と比較して溶媒は低粘瓜の水溶液であり、また合成温
度も500℃前後と低くインクルージヨンあるいは熱に
よる内部歪が発生する程度も低く、より欠陥の少い単結
晶を合成できる方法である。しかしこの水熱合成法にお
いてもベリル単結晶の場合、実際上塩酸といった極めて
腐食性の強い溶液を使用するのが言過でありオートクレ
ーブよりの不純物の取りこみ(普′a肖金属ライナーで
シールしであるが不純物の取りこみは皆無にはできない
)が問題となる。またフラックス法、水熱合成法いずれ
の方法でも問題となる欠陥としてはマイクロラックの存
在がある。これはベリル結晶にcrイイオ、 Ndイオ
ンなどをドープさせる時により明確化されるが、天然の
エメラルドの場合クラックのない原石はないと言われる
位ベリル単結晶はクラックを発生し易く、このンイク【
]ククララおにびその原因となる歪、インクルージヨン
、不純物および転位の除去がレーザー光学用材料として
は大きな課題である。
2)単結晶の物性が場所により不均一である。
レーザー光学用の材料としての他の問題として材料の不
均一・性の問題がある。これは現在のノラックス法、水
熱合成法いずれにおいても同様であり、比巾、屈折率な
どの物性が単結晶の部分により異るという問題となる。
(合成されたエメラルドの場合、比重は2.65〜2.
69.屈折率は1.560〜1.576の間のいずれか
の値をとる。) これはベリル単結晶のようなM、 Be、 !3iの五
成分系の酸化物の場合、各酸化物のフラックスあるいは
水溶液への溶解度が異るため、ベリル単結晶とし−(の
安定領域が狭い。この狭いfIAtlllでベリル単結
晶を、合成宝石としての用途のように欠陥の存在よりむ
しろ大きな結晶を得ようという目的を主として、合成し
ようとした場合各酸化物原料を分離し単独に混合して原
料とした方が効率的であり大きい単結晶を得ることが1
きる。しかしこの場合、フラックス法においてAl12
0s 、 800 、3jO2、水熱合成法におイT/
V!(Ollh 、 Be(011)2 、8102で
ある原料の前記各成分の濃度が結晶の合成が進み大きな
結晶に育成されるにつれて変化し、それに応じ合成され
た単結晶の物性にも不均一を生ずる原因となる。Crイ
オンなどの遷移金属元素イオン。
Ndイオンなどの希土類金属元素イオンをドープlノよ
うとした場合、この問題はより大きな問題となる1、こ
の問題の除去のためには結晶の合成につれて原料の濃度
のバランスが変化しないような方法が必要となる。
(問題点を解決するための手段) 上記ベリル単結晶の合成に伴う1)欠陥2)不均一性と
いった2つの問題点を解決するために水熱合成法の従来
技術をより発展させた手段を得た。
要約すると次のようである。
1)結晶合成法としてはより内部欠陥の極小化の可能性
が大きい水熱合成法。
2)単結晶内部の不均一性を除去するために原料として
ベリル単結晶BO3Al!2(S103)らの組成をも
つ原料を使用。
3)ベリル単結晶が安定に再結晶化づる溶媒として塩化
物水溶液を使用。
(作用) 問題点のひとつである内部欠陥の除去のためには前述の
ように水熱合成法の採用が有効である。
しかし従来の水熱合成法では%、 Be、 31の酸化
物あるいは水酸化物をそれぞれ分離し単独に混合物の形
で原料とする。従って合成が進むにつれてそれぞれ成分
の濃度の比に初期の頃と比較して変化が生じてくる。こ
の水溶液中の各成分のtan Iffの比の変化は合成
された結晶の不均一性の原因となるものである。これを
除去するためには反応の初めから終りまで各成分の濃度
の比が一定の原料を使用すれば良い、すなわち目的のベ
リル単結晶と同様のベリル単結晶を原料として用いるの
が理想的である。ベリル単結晶の組成となるように各成
分を混合焼成しセラミックス化することもできるが、単
結晶を原料として用いる方がより効果的である。
次に、このベリル単結晶を分解させず、三成分系の酸化
物の形で溶解しかつ再結晶化できる溶媒が必要であるが
理想的溶媒のひとつとして塩化物水溶液を見い出した。
以下、実施例にもとづいて詳しく説明する。
(実施例) 原料調整 まず原料としてベリル単結晶を用意する。これはフラッ
クス法により市販の高純度試薬Li2r。
H2O2をフラックスとして用い、原料として同様に市
販の高純度試薬AR203,Be0 、3102を11
00℃にて白金ルツボ中でフラックスに溶解させ徐冷す
るといった公知の方法により容易にベリル単結晶を得る
ことができる。2時間の溶解後、30時間で900℃ま
で徐冷しその後室温まで急冷することにより長さ0.5
1MR程度の六角柱状のベリル単結晶が無数に合成でき
る。また緑色のエメラルドとは異り無色のベリル原石は
容易に入手できるのでこれも原料として使用できる。い
ずれにしても乳バチで粉末状に粉砕りる。
装置および工程 使用する実験用オートクレーブ、テストチューブの構造
を第1図に示す。J−トクレー1本体1はプランジャー
2により、カバー3を介し1圧カシールがされている。
プランジャー2は圧力測定穴4が設けられており圧力測
定穴4を通じ1圧力計に連結されオートクレーブ内部の
圧力測定が可能となっているのと同時に外部のポンプと
も連結され蒸留水を媒体としてオートクレーブ内部の圧
力調節が可能となっている。一方、オートクレーブの内
部には金カプセル5が設WIされており金カプセル5の
内部には前記のように調整された原料6と溶媒となる塩
化物水溶液7が適当な充填率で封入されている。。封入
は完全に密封するために電気溶接で行う。
以上の構造をもつテストチューブを電気炉内に設置する
。このテストチューブを加熱すると金カプセル5も加熱
され塩化物水溶液の充填率と加熱された温度に応じた圧
力が金カプセル内部に発生するが、外部のポンプにより
オートクレーブの内部かつ金カプセル外部に蒸留水を注
入し圧力を発生せしめることによりバランスをとり、金
カプセルが破裂あるいはつぶれることを防止する。
水熱処理結果 第1表に水熱処理の結果を示す。まず使用ず、る塩化物
水溶液としてはHa(73モル溶液、にCe3モル溶液
、[103モル溶液をそれぞれ単独に用意する。以下、
実施例、処理Nαに従い詳しく説明する。
処理11klAはHa(j!溶液で前記フラックス法に
より合成したベリル単結晶を粉末化したもの(以下フラ
ックス合成結晶と称する)を原料どして使用し、金カプ
セル中にて630℃、80ON9/1−1Iiにて7日
間処理後オートクレーブごと水中に投入し急冷したもの
である1、処理後の金カプセルを聞くと金カプセルの上
部に六角柱状の微結晶が認められた。
この微結晶は原料の粉末とは明らかに異る形状のもので
ありX線回折で同定したととろベリル単結晶であること
が確認された。すなわち、金カプセル内部の温度差によ
り溶液に溶番プこんだ803M 2(3103)6が過
飽和となりより低温の金カプセル上部内壁に再結晶した
ものである。再結晶したベリル単結晶はその光学的特性
を評価できる十分の大きさを持ち光学顕微鏡等でその光
学的特性を評価したが、多少のクラックの発生が認めら
れたが、原料としたフラックス法によるベリル結晶と比
較すると内部のインクルーシコンなどの欠陥がまったく
認められず再結晶化により特性が大幅に向上している。
以下同様な処理、評価方法である。
処理NQ Bはにα溶液で原料とり、てフラックス合成
結晶を用い600℃、750に9/cdにて同様に7日
間処理したものである。この場合もベリル単結晶が再結
晶化できた。その光学的特性としては処理NαΔよりさ
らにクラックが少く十分光学的レベルといえるものであ
る。
処理hcはLic1!溶液で原料としてフラックス合成
結晶を用い500℃、750Ky/aiにで処理1ノだ
が、再結晶したベリル単結晶は認めることができなかっ
た。1.1CJeは溶媒としてHaCI、  にceJ
、り活性であり、そのため再結晶温度を引ぎ下げること
ができると予測されるが500℃では原料の溶解度がま
だ不十分である。
以下、これからの実施例はずぺて1ice溶液によるも
のである。
処理NQ Dはフラックス合成結晶を原料とし−(用い
520℃、800に9/cdにて処理したしのぐあり、
再結晶化したベリル単結晶が認められた。まったく同様
に処[kEは540℃、 800に9/r:i。
処理NciFは560℃、700に!i/cd、処理N
CIGは580℃、75ONI/cdにてそれぞれ処理
し再結晶化したベリル単結晶が認められた。処理Nα1
1は600℃、800IC!g/a!で処理したが、ベ
リル単結晶の再結晶化は認められず、他の結晶が認めら
れた。X線回折で同定した所1.i/v!!3LzOa
結晶の存在が確認された。すなわち、ベリル単結晶Be
3Aj! 2 (F310s )sが再結晶化せずt+
、 M、 31などの酸化物に分解したものである。以
上フラックス合成結晶を原料としたLiQlj溶液の結
果をまどめると再結晶化可能な処理温度範囲は500℃
から600℃の間にあり、560℃以上になるとより大
きいベリル単結晶を得やすくなる、またその光学的特性
については、クラックは少くいずれ光学レベルにあるが
特に520℃から560℃の間ではクラックが極少化し
ている。ずなわち総合すると560’CI後の処理温度
が最も大きくかつ光学的特性の優秀なベリル単結晶が得
られる。(経験的にこの場合の大ぎな要因は温度′r″
あり圧力が70(iff/dから800Kfi/alへ
の変化の影響はほとんどないものと考えられる) さいごに、処理Ha Iは原料をフラックス合成結晶よ
り天然ベリル単結晶の粉末にかえたものであり同様に再
結晶化したベリル単結晶を得ることができる。特性とし
てはフラックス合成結晶より落ちるが、工業的に十分使
用できるものである。
第2図に1.1(773モル溶液におけるベリル単結晶
の温度と溶解度の関係を表ず図を示す。500℃付近で
はほとんど溶解していないが、520℃を越えると溶解
が始まり580℃付近まで溶解が進むが、580℃を越
えるとベリル単結晶が分解し始め、みか【プ上、溶解度
が急激に上昇する。
○・・・ベリル単結晶が育成されている。
×・・・ベリル単結晶が育成されていない。
(発明の効果) 以上、詳述したように本発明では塩化物水溶液中の水熱
処理でベリル単結晶を極めて安定な状態のまま再結晶化
することが可能となり、その結果、内部の欠陥および不
均一性を除去することができその効果は極めて大きい。
特に塩化物水溶液のなかで1.i(J水溶液においで光
学的品質の優れたベリル単結晶を得ることができる。な
お本発明の実施例においては添加元素を加えなかったが
、crイイオなどの遷移金属元素イオンをドープ、また
はNdイオンなどの希土類金属元素イオンをドープさせ
たベリル単結晶にも本発明が適用できるのは勿論である
本発明は将来の光学グレードのベリル単結晶の工業化の
ための基礎的製造方法を提供するものであり、本発明を
基礎に、現在人工水晶を量産している種結晶を使用し温
度差を設は長期に合成し大型単結晶を得る方法まで梵展
させることは極めて容易なことであり、その効果は著し
く大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図はテストチューブの構造を表J′断面図、第2図
はLiCe3モル溶液におけるベリル単結晶の溶解度を
表す特性図である。 1・・・オートクレーブ本体 2・・・プランジ1シー 3・・・カバー 4・・・圧力測定穴 5・・・金カプセル 6・・・原料 7・・・塩化物水溶液 出願人   平  野   眞  − (他1名>  ″” テストチューブの構造とhうhTM面図第1図 LicL3tル溶友【Cおけるベリル東結晶の溶解鷹(
77θ〜Boo x@/cmt、 7 e Fl/! 
)第2図

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)塩化物を主成分とする水溶液を充填したオートク
    レーブ中に原料を設置し、所定の温度・圧力を与え、ベ
    リル単結晶を再結晶させたことを特徴とする、ベリル単
    結晶の再結晶方法。
  2. (2)塩化物水溶液としてNaClである特許請求の範
    囲第1項記載の再結晶方法。
  3. (3)塩化物としてKClである特許請求の範囲第2項
    記載の再結晶方法。
  4. (4)塩化物としてLiClである特許請求の範囲第3
    項記載の再結晶方法。
  5. (5)原料として天然のベリル単結晶である特許請求の
    範囲第1項記載の再結晶方法。
  6. (6)原料としてフラックス法により合成されたベリル
    単結晶である特許請求の範囲第1項記載の再結晶方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH055483U (ja) * 1991-07-09 1993-01-26 ダイヤモンドアンテナ株式会社 光デイスク用音質改善剤とその改善剤を使用した光デイスク及び光デイスク用機器

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6111393A (ja) * 1984-06-20 1986-01-18 トキコ株式会社 給油装置

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