JPS62177436A - 透光度検査装置 - Google Patents
透光度検査装置Info
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- JPS62177436A JPS62177436A JP61019615A JP1961586A JPS62177436A JP S62177436 A JPS62177436 A JP S62177436A JP 61019615 A JP61019615 A JP 61019615A JP 1961586 A JP1961586 A JP 1961586A JP S62177436 A JPS62177436 A JP S62177436A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B07C—POSTAL SORTING; SORTING INDIVIDUAL ARTICLES, OR BULK MATERIAL FIT TO BE SORTED PIECE-MEAL, e.g. BY PICKING
- B07C5/00—Sorting according to a characteristic or feature of the articles or material being sorted, e.g. by control effected by devices which detect or measure such characteristic or feature; Sorting by manually actuated devices, e.g. switches
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- B07C5/342—Sorting according to other particular properties according to optical properties, e.g. colour
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- B07C5/36—Sorting apparatus characterised by the means used for distribution
- B07C5/363—Sorting apparatus characterised by the means used for distribution by means of air
- B07C5/365—Sorting apparatus characterised by the means used for distribution by means of air using a single separation means
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、例えばガラス成形技術において、コヒーレン
トな光に対して透光な物質、例えばガラス破片中に混在
するコヒーレントな光に対して不透光な物質、例えば石
、@磁器等の異物を検出し除去づるのに利用される透光
度検査装置に関する。
トな光に対して透光な物質、例えばガラス破片中に混在
するコヒーレントな光に対して不透光な物質、例えば石
、@磁器等の異物を検出し除去づるのに利用される透光
度検査装置に関する。
〔発明の技術的背景およびその問題点〕一般に、ガラス
を成形する場合、原料としての透光なガラス破片を炉に
入れて溶融する工程があるが、この工程時において、ガ
ラス破片中にガラス以外の不透光な石、陶磁器等の異物
が存在していると、欠陥製品を成形してしまうばかりか
、炉そのものを損うおそれがあった。したがって、ガラ
ス成形工程においては、回収されたガラス破片の中から
異物を除去することは重要な作業であった。
を成形する場合、原料としての透光なガラス破片を炉に
入れて溶融する工程があるが、この工程時において、ガ
ラス破片中にガラス以外の不透光な石、陶磁器等の異物
が存在していると、欠陥製品を成形してしまうばかりか
、炉そのものを損うおそれがあった。したがって、ガラ
ス成形工程においては、回収されたガラス破片の中から
異物を除去することは重要な作業であった。
しかるに、従来は自動的にガラス破片中から異物を検出
する装置が存在していなかったので、異物除去作業は検
査員の目視に頼らざるをえなかった。このため、目の疲
れや注意不足によって異物を見落としてしまうおそれが
あり、高信頼度をもって異物を除去するのは困難であっ
た。また、人手が介入するので、ライン稼働率の低下に
つながっている上、自動化、省人化といった観点からも
問題であった。
する装置が存在していなかったので、異物除去作業は検
査員の目視に頼らざるをえなかった。このため、目の疲
れや注意不足によって異物を見落としてしまうおそれが
あり、高信頼度をもって異物を除去するのは困難であっ
た。また、人手が介入するので、ライン稼働率の低下に
つながっている上、自動化、省人化といった観点からも
問題であった。
本発明はこのような事情に基いてなされたものであり、
その目的とするところは、透光な物質中に混入する不透
光な物質を自動的にかつ高信頼度をもって検出できる透
光度検査装置を提供することにある。
その目的とするところは、透光な物質中に混入する不透
光な物質を自動的にかつ高信頼度をもって検出できる透
光度検査装置を提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するために、コヒーレントな
性質を有する光を被検査体に照射し、このとき被検査体
に生じる上記光の乱反射光成分を検出し、この検出され
た乱反射成分に基いて被検査体の前記光に対する透光度
を検査するようにしたものである。
性質を有する光を被検査体に照射し、このとき被検査体
に生じる上記光の乱反射光成分を検出し、この検出され
た乱反射成分に基いて被検査体の前記光に対する透光度
を検査するようにしたものである。
先ず、本発明の原理について説明する。第2図に示すよ
うに、被検査体21として透明なガラスなどのコヒーレ
ントな光に対して透光な物質(以下透光体と称する)に
光源22からレーザ光23を照射すると、このレーザ光
23は透光体の表面21aにて反射、吸収、透過等によ
り分散される。
うに、被検査体21として透明なガラスなどのコヒーレ
ントな光に対して透光な物質(以下透光体と称する)に
光源22からレーザ光23を照射すると、このレーザ光
23は透光体の表面21aにて反射、吸収、透過等によ
り分散される。
また、透過光23′は透過中に吸収されて光量を弱めな
がらも境界面21bに到達し、ここでも反射、吸収、透
過等により分散される。以下、表面21aまたは境界面
21bにて同様な現象が繰返される。また、反射光24
a、24bの出射方向は透光体の表面状態に依存する。
がらも境界面21bに到達し、ここでも反射、吸収、透
過等により分散される。以下、表面21aまたは境界面
21bにて同様な現象が繰返される。また、反射光24
a、24bの出射方向は透光体の表面状態に依存する。
すなわち、表面が滑らかな平面に近い場合には乱反射成
分(図中実線矢印)が少なくなり、正反射成分(図中破
線矢印)が多くなる。
分(図中実線矢印)が少なくなり、正反射成分(図中破
線矢印)が多くなる。
一方、被検査体21が石、陶磁器等の不透光体の場合は
、被検査体表面にて反射および吸収のみの干渉現象が生
じ、透過光は存在しない。
、被検査体表面にて反射および吸収のみの干渉現象が生
じ、透過光は存在しない。
そこで、被検査体21として各々透光度の異なるガラス
と、石または陶磁器等の不透光体とを選択し、第3図に
示す如くこれらにレーザ光23を照射してカメラ25に
より乱反射成分を検出してみる。
と、石または陶磁器等の不透光体とを選択し、第3図に
示す如くこれらにレーザ光23を照射してカメラ25に
より乱反射成分を検出してみる。
第4図は上記カメラ25によりとらえられた反射パター
ン(黒塗り部分)を示す図である。ここで、Aは光源の
照射パターン(照射位置はP)であり、Bは透光度小な
るガラスの反射パターン、Cは透光度中なるガラスの反
射パターン、Dは透光度大なるガラスの反射パターン、
Eは不透光体の反射パターンである。第4図に示すよう
に、ガラス(透光体)と石、陶磁器等の不透光体とでは
乱反射パターンが大きく異なる。すなわち、ガラス(B
−D参照)の場合は第1反射のパターンが光源の照射パ
ターン(A参照)とほぼ同一となり、かつ第2反射、第
3反射が生じるのに対し、不透光体の場合(E参照)は
光源よりも大ぎくなる上、第2反射、第3反射は生じな
い。
ン(黒塗り部分)を示す図である。ここで、Aは光源の
照射パターン(照射位置はP)であり、Bは透光度小な
るガラスの反射パターン、Cは透光度中なるガラスの反
射パターン、Dは透光度大なるガラスの反射パターン、
Eは不透光体の反射パターンである。第4図に示すよう
に、ガラス(透光体)と石、陶磁器等の不透光体とでは
乱反射パターンが大きく異なる。すなわち、ガラス(B
−D参照)の場合は第1反射のパターンが光源の照射パ
ターン(A参照)とほぼ同一となり、かつ第2反射、第
3反射が生じるのに対し、不透光体の場合(E参照)は
光源よりも大ぎくなる上、第2反射、第3反射は生じな
い。
また、前記第3図においてカメラ25の代わりに光電変
換器を設置し、これにより反射光を検出してみる。そう
すると、光電変換器から出力される電気信号は、被検査
体21がガラスの場合は第5図(a)で示すようになり
、被検査体21が不透光体の場合は第5図(1))で示
すようになる。
換器を設置し、これにより反射光を検出してみる。そう
すると、光電変換器から出力される電気信号は、被検査
体21がガラスの場合は第5図(a)で示すようになり
、被検査体21が不透光体の場合は第5図(1))で示
すようになる。
同fffi(a> (b>から明らかなように、ガラ
スと不透光体とでは出力信号の振幅にも大きな違いを生
じることがわかる。
スと不透光体とでは出力信号の振幅にも大きな違いを生
じることがわかる。
一方、第6図に示すように、回転ミラー26を用いて被
検査体21に対しレーザ光23を幅方向に走査させて照
射させ、このときの反射パターンをカメラ25により検
出してみる。そうすると、被検査体21がガラスの場合
は第7図(a)で示すように両端と中央部とでは端部で
の反射が大きいため異なった幅のパターンを有し、不透
光体の場合は第7図(b)で示すようにほぼ一定幅のパ
ターンとなる。したがって、反射パターンの急激な変化
、あるいは幅広いパターンの続く長さを検出することに
より、ガラスと不透光体とを区別することができる。つ
まり、反射パターンが急激に変化した場合、または幅広
いパターンの続く長さが短い場合はガラスと判定するこ
とができ、反則パターンが急激に変化しない場合、また
は幅広いパターンの続く長さが長い場合は不透光体と判
定することができる。
検査体21に対しレーザ光23を幅方向に走査させて照
射させ、このときの反射パターンをカメラ25により検
出してみる。そうすると、被検査体21がガラスの場合
は第7図(a)で示すように両端と中央部とでは端部で
の反射が大きいため異なった幅のパターンを有し、不透
光体の場合は第7図(b)で示すようにほぼ一定幅のパ
ターンとなる。したがって、反射パターンの急激な変化
、あるいは幅広いパターンの続く長さを検出することに
より、ガラスと不透光体とを区別することができる。つ
まり、反射パターンが急激に変化した場合、または幅広
いパターンの続く長さが短い場合はガラスと判定するこ
とができ、反則パターンが急激に変化しない場合、また
は幅広いパターンの続く長さが長い場合は不透光体と判
定することができる。
本発明は、上述した原理に基いてなされたものであり、
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例のシステム構成を示す模
式図である。図中1はベルトコンベアライン(以下コン
ベアラインと称する)であって、モータ2により回転駆
動されるローラ3に伴って回動し、被検査体4を1個ず
つ次工程(図中矢印方向)へ搬送するものである。ここ
で、被検査体4は主にガラス成形工程に利用されるガラ
ス破片4aであって、石、陶磁器等の異物4bが混入さ
れているものとする。
式図である。図中1はベルトコンベアライン(以下コン
ベアラインと称する)であって、モータ2により回転駆
動されるローラ3に伴って回動し、被検査体4を1個ず
つ次工程(図中矢印方向)へ搬送するものである。ここ
で、被検査体4は主にガラス成形工程に利用されるガラ
ス破片4aであって、石、陶磁器等の異物4bが混入さ
れているものとする。
5はコヒーレントな性質を有する光例えばレーザ光を発
する光源であって、この光源5から発せられるレーザ光
6は被検査体4に対し順次スポット状に照射される。7
は複数の光電変換素子からなる反射光検出器であって、
前記被検査体4からのレーザ光6に対する反射光8のう
ち乱反射成分を検出するものとなっている。すなわち、
レーザ光入射角θ1とは異なる反射角θ2を有する反射
光8を検出しうる位置に光電変換器が配置されている。
する光源であって、この光源5から発せられるレーザ光
6は被検査体4に対し順次スポット状に照射される。7
は複数の光電変換素子からなる反射光検出器であって、
前記被検査体4からのレーザ光6に対する反射光8のう
ち乱反射成分を検出するものとなっている。すなわち、
レーザ光入射角θ1とは異なる反射角θ2を有する反射
光8を検出しうる位置に光電変換器が配置されている。
データ収集部9は、前記反射光検出器7の各光電変換素
子からの電気信号$1を収集するものであって、この収
集された電気信号$1は前処理部10にてフィルタリン
グ処理等の所定の前処理が施された後、2値化部11に
て2値信号S2に変換されるものとなっている。判定部
12は上記2値化部11からの2値信号S2に基いて前
記被検査体4がガラス破片4aであるか、異物4bであ
るかを判定するものであり、異物4bと判定された場合
には異物除去指令S3が除去機構制御部13に出力され
る。除去機構制御部13は、吸引ポンプ14とこれに対
向配置されたエアジェツト15との駆動を制御するもの
であって、これらの駆動により前記被検査体4のうち異
物4bのみがコンベアライン1上から除去されるものと
なっている。主制御部16は、前記モータ2の起動タイ
ミングおよび回転速度を制御し、これに応じてデータ収
集部9のデータ収集タイミングおよび除去機構制御部1
3の起動タイミングを制御するものである。
子からの電気信号$1を収集するものであって、この収
集された電気信号$1は前処理部10にてフィルタリン
グ処理等の所定の前処理が施された後、2値化部11に
て2値信号S2に変換されるものとなっている。判定部
12は上記2値化部11からの2値信号S2に基いて前
記被検査体4がガラス破片4aであるか、異物4bであ
るかを判定するものであり、異物4bと判定された場合
には異物除去指令S3が除去機構制御部13に出力され
る。除去機構制御部13は、吸引ポンプ14とこれに対
向配置されたエアジェツト15との駆動を制御するもの
であって、これらの駆動により前記被検査体4のうち異
物4bのみがコンベアライン1上から除去されるものと
なっている。主制御部16は、前記モータ2の起動タイ
ミングおよび回転速度を制御し、これに応じてデータ収
集部9のデータ収集タイミングおよび除去機構制御部1
3の起動タイミングを制御するものである。
次に、本実施例の動作について説明する。今、主制御部
16の制御によりモータ2が駆動し、コンベアライン1
が回動してこのライン上を被検査体4が1個ずつ搬送さ
れているものとする。この状態で、光源5から所定の被
検査体4にレーザ光6がスポット状に照射されると、上
記被検査体4の表面における反射光8のうち乱反射成分
が反射光検出器7に検出され、電気信号S1に変換され
てデータ収集部9に収集される。ここで、データ収集部
9に収集される電気信号S1は、上記被検査体4がガラ
ス破片4aの場合は第5図(a)で示す如く低レベルの
信号81aとなり、異物の場合は第5図(b)で示す如
く高レベルの信号S1bとなる。この電気信号S1は前
処理部10にて所定の前処理が施された後、2値化部1
1にて被検査体4がガラス破片4aのときの電気信号S
1aよりも高レベルでかつ異物4bのときの電気信号S
1bよりも低レベルのしきい値で2値化される。そうす
ると、電気信号S1aの場合は全てrOJとなるが、電
気信号Slbの場合は「1」が含まれる。したがって、
判定部12では上記2値化部11より出力される2値信
号S2を入力し、その中に「1」が含まれている場合は
被検査体4が異物4bであると判定し、除去機構制御部
13に異物除去指令S3を出力する。除去機構制御部1
3は、レーザ光6の照射位置とポンプ14およびエアジ
ェツト15の設置位置との距離と、コンベアライン1の
回動速度との関係に基いて主制御部16により制御され
ており、上記判定部12から異物除去指令S3が与えら
れると、主制御部16の制御に応じてポンプ14および
エアジェツト15を起動する。そうすると、エアジェツ
ト15により異物4bが飛ばされ、この飛ばされた異物
4bは吸引ポンプ14に吸込まれる。かくして、コンベ
アライン1上から異物4bが除去される。
16の制御によりモータ2が駆動し、コンベアライン1
が回動してこのライン上を被検査体4が1個ずつ搬送さ
れているものとする。この状態で、光源5から所定の被
検査体4にレーザ光6がスポット状に照射されると、上
記被検査体4の表面における反射光8のうち乱反射成分
が反射光検出器7に検出され、電気信号S1に変換され
てデータ収集部9に収集される。ここで、データ収集部
9に収集される電気信号S1は、上記被検査体4がガラ
ス破片4aの場合は第5図(a)で示す如く低レベルの
信号81aとなり、異物の場合は第5図(b)で示す如
く高レベルの信号S1bとなる。この電気信号S1は前
処理部10にて所定の前処理が施された後、2値化部1
1にて被検査体4がガラス破片4aのときの電気信号S
1aよりも高レベルでかつ異物4bのときの電気信号S
1bよりも低レベルのしきい値で2値化される。そうす
ると、電気信号S1aの場合は全てrOJとなるが、電
気信号Slbの場合は「1」が含まれる。したがって、
判定部12では上記2値化部11より出力される2値信
号S2を入力し、その中に「1」が含まれている場合は
被検査体4が異物4bであると判定し、除去機構制御部
13に異物除去指令S3を出力する。除去機構制御部1
3は、レーザ光6の照射位置とポンプ14およびエアジ
ェツト15の設置位置との距離と、コンベアライン1の
回動速度との関係に基いて主制御部16により制御され
ており、上記判定部12から異物除去指令S3が与えら
れると、主制御部16の制御に応じてポンプ14および
エアジェツト15を起動する。そうすると、エアジェツ
ト15により異物4bが飛ばされ、この飛ばされた異物
4bは吸引ポンプ14に吸込まれる。かくして、コンベ
アライン1上から異物4bが除去される。
このように本実施例によれば、レーザコンベアライン1
上を搬送される被検査体4にレーザ光6をスポット状に
照射し、このときの反射光8のうち乱反射成分を検出し
て電気信号S1に変換する。
上を搬送される被検査体4にレーザ光6をスポット状に
照射し、このときの反射光8のうち乱反射成分を検出し
て電気信号S1に変換する。
そして、この電気信号S1の出力レベルに基いて被検査
体4がガラス破片4aであるか異物4bであるかを判定
し、異物4bであると判定された場合にはポンプ14お
よびエアジェツト15によりこの異物4bを除去づるも
のとなっている。第5図(a)(b)に示すように、ガ
ラス破片4aと異物4bとでは信号レベルが大きく異な
る。したがって、電気信号S1を所定のしきい値で2値
化することによりガラス破片4aと異物4bとを高信頼
度で区別することができる。よって、本装置をガラス製
造工程における異物除去装置として適用することにより
、自動的にかつ高信頼度で異物4bの除去を行なうこと
ができ、ライン稼働率の向上、省人化をはかり得る。
体4がガラス破片4aであるか異物4bであるかを判定
し、異物4bであると判定された場合にはポンプ14お
よびエアジェツト15によりこの異物4bを除去づるも
のとなっている。第5図(a)(b)に示すように、ガ
ラス破片4aと異物4bとでは信号レベルが大きく異な
る。したがって、電気信号S1を所定のしきい値で2値
化することによりガラス破片4aと異物4bとを高信頼
度で区別することができる。よって、本装置をガラス製
造工程における異物除去装置として適用することにより
、自動的にかつ高信頼度で異物4bの除去を行なうこと
ができ、ライン稼働率の向上、省人化をはかり得る。
以下、本発明の他の実施例について説明する。
第8図は本発明の第2の実施例における主要部構成を示
す模式図である。なお、第1図と同一部分には同一符号
を付しである。本実施例においては、光源5から発せら
れるレーザ光6を、主制御部16により回転制御される
回転ミラー30によりコンベアライン1の幅方向のライ
ン状に走査させて被検査体4に照射し、被検査体4から
の反射パターンを反射光検出器31により検出する。こ
の検出器31により検出される反射パターンは、被検査
体4がガラス破片4aの場合は第7図(a)のように両
端が乱反射し中央は線状パターンとなり、異物4bの場
合は第7図(b)で示すように全体に乱反射の大きなパ
ターンとなる。そこで、この反射パターンを前処理部3
2にて所定の前処理を施した後、微分回路33にて微分
することにより変化率を求める。上記微分回路33から
の出力信号S4は、ガラス破片4aの場合は第9図中A
で示すようになり、異物4bの場合は第9図中8で示す
ようになる。この出力信@S4を信号検出回路34にて
所定の正負レベルを有するしきい値でパルス化すると、
ガラス破片4aの場合は第10図中Aで示すパルス信号
S5が検出され、異物の場合は第10図中Bで示すパル
ス信号S5が検出される。したがって、異物判定回路3
5においては、パルス信号S5に第10図Aに示すパル
ス■、■が存在するか否かを判断することによりガラス
破片4aと異物4bとを区別することができる。よって
、第1の実施例と同様の除去機構を用いることにより、
異物4bを除去することができる。
す模式図である。なお、第1図と同一部分には同一符号
を付しである。本実施例においては、光源5から発せら
れるレーザ光6を、主制御部16により回転制御される
回転ミラー30によりコンベアライン1の幅方向のライ
ン状に走査させて被検査体4に照射し、被検査体4から
の反射パターンを反射光検出器31により検出する。こ
の検出器31により検出される反射パターンは、被検査
体4がガラス破片4aの場合は第7図(a)のように両
端が乱反射し中央は線状パターンとなり、異物4bの場
合は第7図(b)で示すように全体に乱反射の大きなパ
ターンとなる。そこで、この反射パターンを前処理部3
2にて所定の前処理を施した後、微分回路33にて微分
することにより変化率を求める。上記微分回路33から
の出力信号S4は、ガラス破片4aの場合は第9図中A
で示すようになり、異物4bの場合は第9図中8で示す
ようになる。この出力信@S4を信号検出回路34にて
所定の正負レベルを有するしきい値でパルス化すると、
ガラス破片4aの場合は第10図中Aで示すパルス信号
S5が検出され、異物の場合は第10図中Bで示すパル
ス信号S5が検出される。したがって、異物判定回路3
5においては、パルス信号S5に第10図Aに示すパル
ス■、■が存在するか否かを判断することによりガラス
破片4aと異物4bとを区別することができる。よって
、第1の実施例と同様の除去機構を用いることにより、
異物4bを除去することができる。
このように、被検査体4にレーザ光6を照射し、このと
きの被検査体4からの反射パターンを検出し、この反射
パターンの変化率を求めることによっても異物4bを検
出することができる。なお、上記実施例においてはレー
ザ光6を被検査体4の幅方向に走査させたが、スポット
状のレーザ光6を常に被検査体4の端部に照射させるこ
とかできるならば、同様にして反射パターンの変化率を
求めることにより異物4bを検出することができる。
きの被検査体4からの反射パターンを検出し、この反射
パターンの変化率を求めることによっても異物4bを検
出することができる。なお、上記実施例においてはレー
ザ光6を被検査体4の幅方向に走査させたが、スポット
状のレーザ光6を常に被検査体4の端部に照射させるこ
とかできるならば、同様にして反射パターンの変化率を
求めることにより異物4bを検出することができる。
第11図は本発明の第3の実施例における主要部構成を
示す模式図である。なお、第1図および第8図と同一部
分には同一符号を付しである。前記第1.第2の実施例
ではコンベアライン1上を被検査体4が1個ずつ搬送さ
れる場合を示したが、本実施例では複数の被検査体4が
不規則に搬送される場合を示している。この場合は光源
5からのレーザ光6を回転ミラー30によりコンベアラ
インの幅方向に走査させ、1回の走査毎に被検査体4か
らの反射光(乱反射成分)8を複数の光電変換素子を配
列した反射光検出器40により検出する。ここで、上記
検出器40は第12図に示す如く、コンベアライン1の
レーザ光照射位置Mを中心にして間隔りをあけた位置N
1.N2からの反射光8を光電変換素子に受光するよう
に構成されている。そして、上記間隔りは第7図(a)
においてガラス破片4aからの反射パターンが細くなっ
ている部分の間隔よりも広く、かつ第7図(b)におい
て異物4bからの反射パターンの間隔よりも狭く設定し
ている。こうすることにより、検出器40から出力され
る電気信号S6を2値化部11にて2値化号S2に変換
すると、被検査体4がガラス破片4aの場合は被検査体
4の端部に該当する位置にて「1Jが出力されるものの
ほぼrOJが連続するのに対し、異物の場合は「1」が
連続する。そこで、判定部41では、この2圃信号S2
に基いて異物判定を行ない、スキャン位置検出部42に
て検出されるレーザ光6のコンベアライン1上における
走査位置信号S7に基いて異物4bの搬送位置を検知す
る。すなわち、検出部41は第13図に示すフローにし
たがって動作する。先ず、2値化部11から2値化号S
2を入力したならば、「1」が連続して一定の長さ以上
続いているか否かを判Igiする(ステップ5TI)。
示す模式図である。なお、第1図および第8図と同一部
分には同一符号を付しである。前記第1.第2の実施例
ではコンベアライン1上を被検査体4が1個ずつ搬送さ
れる場合を示したが、本実施例では複数の被検査体4が
不規則に搬送される場合を示している。この場合は光源
5からのレーザ光6を回転ミラー30によりコンベアラ
インの幅方向に走査させ、1回の走査毎に被検査体4か
らの反射光(乱反射成分)8を複数の光電変換素子を配
列した反射光検出器40により検出する。ここで、上記
検出器40は第12図に示す如く、コンベアライン1の
レーザ光照射位置Mを中心にして間隔りをあけた位置N
1.N2からの反射光8を光電変換素子に受光するよう
に構成されている。そして、上記間隔りは第7図(a)
においてガラス破片4aからの反射パターンが細くなっ
ている部分の間隔よりも広く、かつ第7図(b)におい
て異物4bからの反射パターンの間隔よりも狭く設定し
ている。こうすることにより、検出器40から出力され
る電気信号S6を2値化部11にて2値化号S2に変換
すると、被検査体4がガラス破片4aの場合は被検査体
4の端部に該当する位置にて「1Jが出力されるものの
ほぼrOJが連続するのに対し、異物の場合は「1」が
連続する。そこで、判定部41では、この2圃信号S2
に基いて異物判定を行ない、スキャン位置検出部42に
て検出されるレーザ光6のコンベアライン1上における
走査位置信号S7に基いて異物4bの搬送位置を検知す
る。すなわち、検出部41は第13図に示すフローにし
たがって動作する。先ず、2値化部11から2値化号S
2を入力したならば、「1」が連続して一定の長さ以上
続いているか否かを判Igiする(ステップ5TI)。
そして、一定の長さ以上の「1」連続が存在しない場合
には、このときのレーザ光6の走査位置には異物4bが
存在せず全てガラス破片4aであったものと判定する(
ステップ5T2)。一方、一定の長さ以上の「1」連続
が存在した場合には、スキャン位置検出部42から与え
られるレーザ光走査位置信号S7に基いてベルトコンベ
ア1のし一ザ光走査開始側端部(たとえば1a)から「
1」連続となる位置までの距離を検出する(ステップ5
T3)。そして、この距離情報を有する異物除去指令8
3’ を除去機構制御部13に送出する(ステップ5T
4)。
には、このときのレーザ光6の走査位置には異物4bが
存在せず全てガラス破片4aであったものと判定する(
ステップ5T2)。一方、一定の長さ以上の「1」連続
が存在した場合には、スキャン位置検出部42から与え
られるレーザ光走査位置信号S7に基いてベルトコンベ
ア1のし一ザ光走査開始側端部(たとえば1a)から「
1」連続となる位置までの距離を検出する(ステップ5
T3)。そして、この距離情報を有する異物除去指令8
3’ を除去機構制御部13に送出する(ステップ5T
4)。
かくして、ポンプ14およびエアジェツト15の作用に
より所定位置の異物4bが除去される。
より所定位置の異物4bが除去される。
なお、上記ポンプ14およびエアジェツト15は異物位
置情報に応じて移動するようにしてもよいし、複数のポ
ンプ14およびエアジェツト15を対向設置し、所定位
置に設置されたポンプ14およびエアジェツト15を駆
動して除去するようにしてもよい。
置情報に応じて移動するようにしてもよいし、複数のポ
ンプ14およびエアジェツト15を対向設置し、所定位
置に設置されたポンプ14およびエアジェツト15を駆
動して除去するようにしてもよい。
このように、コンベアライン1上を被検査体4が不規則
に搬送されても、ガラス破片1と異物4bとを自動的に
かつ高信頼度で区別することができる。
に搬送されても、ガラス破片1と異物4bとを自動的に
かつ高信頼度で区別することができる。
次に、本発明の第4の実施例について説明する。
第4図に示す如く、ガラス破片4aと異物4bとではス
ポット状レーザ光6に対する反射パターンの大ぎさが異
なる。そこで、第14図に示す如く、ガラス破片4aの
場合の反射パターンCは検出せず、異物4bの場合の反
射パターンEは検出しうる最適位置Qに光電変換素子を
備えた反射光検出器を例えば第1図の反射光検出器7の
代わりに設置する。こうすることにより、この検出器か
らの出力信号に基いてガラス破片4aと異物4bとを区
別することができる。この場合は光電変換素子が1個で
済み、経済的である。
ポット状レーザ光6に対する反射パターンの大ぎさが異
なる。そこで、第14図に示す如く、ガラス破片4aの
場合の反射パターンCは検出せず、異物4bの場合の反
射パターンEは検出しうる最適位置Qに光電変換素子を
備えた反射光検出器を例えば第1図の反射光検出器7の
代わりに設置する。こうすることにより、この検出器か
らの出力信号に基いてガラス破片4aと異物4bとを区
別することができる。この場合は光電変換素子が1個で
済み、経済的である。
第15図は本発明の第5の実施例の主要部を示(模式図
である。本実施例においては機能的には前記第1の実施
例と同様であるが、コンベアライン1上を搬送中の被検
査体4に対して検査するのではなく、第1のコンベアラ
イン51より第2のコンベアライン52へ落下中の被検
査体4に対してレーザ光6を照射し、このときの反射光
(乱反射成分)を検出し、これに基いてガラス破片4a
と異物4bとを区別する。そして、異物4bはエアジェ
ツト15により落下方向をずらして第2のコンベアライ
ン52上には落下しないようにする。
である。本実施例においては機能的には前記第1の実施
例と同様であるが、コンベアライン1上を搬送中の被検
査体4に対して検査するのではなく、第1のコンベアラ
イン51より第2のコンベアライン52へ落下中の被検
査体4に対してレーザ光6を照射し、このときの反射光
(乱反射成分)を検出し、これに基いてガラス破片4a
と異物4bとを区別する。そして、異物4bはエアジェ
ツト15により落下方向をずらして第2のコンベアライ
ン52上には落下しないようにする。
このような構成にしても、被検査体4から異物4bを除
去することができ、ガラス破片4aのみを抽出すること
ができる。
去することができ、ガラス破片4aのみを抽出すること
ができる。
なお、本実施例においては、第15図に示す如く反射パ
ターン検出系を落下中の被検査体4の裏側に設けた場合
を示しているが表側に設けるようにしてもよい。ただし
裏側に設けた場合には検出系と被検査体4との距離がほ
ぼ一定となるのに対し、表側に設けると被検査体4の厚
みによりこの距離が変化してしまい誤動作するおそれが
ある。
ターン検出系を落下中の被検査体4の裏側に設けた場合
を示しているが表側に設けるようにしてもよい。ただし
裏側に設けた場合には検出系と被検査体4との距離がほ
ぼ一定となるのに対し、表側に設けると被検査体4の厚
みによりこの距離が変化してしまい誤動作するおそれが
ある。
また、本実施例では被検査体4が1個ずつ搬送される場
合について示したが、第3の実施例のように不規則に搬
送されても、レーザ光6を回転ミラー30を用いて走査
させ、かつ複数のエアジェツト15を適宜駆動して所定
位置を落下する異物4bを除去できるようにする。こと
により適用できる。
合について示したが、第3の実施例のように不規則に搬
送されても、レーザ光6を回転ミラー30を用いて走査
させ、かつ複数のエアジェツト15を適宜駆動して所定
位置を落下する異物4bを除去できるようにする。こと
により適用できる。
なお、本発明は前記第1ないし第5の実施例に限定され
るものではない。例えば前記実施例では透光体であるガ
ラス破片4aと不透光体である石。
るものではない。例えば前記実施例では透光体であるガ
ラス破片4aと不透光体である石。
陶磁器等の異物4bとを区別する装置に適用した場合を
示したが、コヒーレントな性質を有する光例えばレーザ
光6を照射した際に固有の透光度を有する材料の判別等
を行なうための検査装置として適用できるのは言うまで
もない。このほか本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々
変形実施可能であるのは勿論である。
示したが、コヒーレントな性質を有する光例えばレーザ
光6を照射した際に固有の透光度を有する材料の判別等
を行なうための検査装置として適用できるのは言うまで
もない。このほか本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々
変形実施可能であるのは勿論である。
以上詳述したように、本発明によれば、コヒーレントな
性質を有する光を被検査体に照射し、このときの被検査
体からの反射光を検出し、この検出された反射光の乱反
射成分に基いて被検査体の前記光に対する透光度を検査
するようにしたので、透光な物質中に混入する不通光な
物質を自動的にかつ高信頼度をもって検出できる透光度
検査装置を提供できる。
性質を有する光を被検査体に照射し、このときの被検査
体からの反射光を検出し、この検出された反射光の乱反
射成分に基いて被検査体の前記光に対する透光度を検査
するようにしたので、透光な物質中に混入する不通光な
物質を自動的にかつ高信頼度をもって検出できる透光度
検査装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例の構成を示す模式図、第
2図ないし第7図(a)(b)は本発明の原理説明図で
あって、第2図は光の反射、吸収。 透過現象を示す図、第3図は反射光検出機構を示す図、
第4図はレーザ光をスポット状に照射させた際のガラス
と異物との反射パターンを示す図、第5図(a)(b)
はガラスと異物との反射パターンに対応する電気信号を
示す図、第6図はレーザ光を走査させる機構を示す図、
第7図(a)(b)はレーザ光を走査させた際のガラス
と異物との反射パターンを示す図、第8図ないし第10
図は本発明の第2の実施例を示す図であって、第8図は
主要部の構成を示す模式図、第9図および第10図は信
号波形図、第11図ないし第13図は本発明の第3の実
施例を示す図であって、第11図は主要部の構成を示す
模式図、第12図は検出器を説明するための図、第13
図は判定回路の機能説明用流れ図、第14図は本発明の
第4の実施例を説明するための図、第15図は本発明の
第5の実施例の主要部構成を示す模式図である。 1・・・コンベアライン、4・・・被検査体、4a・・
・ガラス破片、4b・・・異物、5・・・光源、6・・
・レーザ光、7.31.40・・・反射光検出器、8・
・・反射光、9・・・データ収集部、11・・・2値化
部、12.41・・・判定部、13・・・除去機構制御
部、14・・・吸引ポンプ、15・・・エアジェツト、
16・・・主制御部、30・・・回転ミラー、33・・
・微分回路、34・・・信号検出回路、35・・・異物
判定回路。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 zl 第3図 A B CD E第4
図 第9図 第10図 第13図 CE 第14図 第15図
2図ないし第7図(a)(b)は本発明の原理説明図で
あって、第2図は光の反射、吸収。 透過現象を示す図、第3図は反射光検出機構を示す図、
第4図はレーザ光をスポット状に照射させた際のガラス
と異物との反射パターンを示す図、第5図(a)(b)
はガラスと異物との反射パターンに対応する電気信号を
示す図、第6図はレーザ光を走査させる機構を示す図、
第7図(a)(b)はレーザ光を走査させた際のガラス
と異物との反射パターンを示す図、第8図ないし第10
図は本発明の第2の実施例を示す図であって、第8図は
主要部の構成を示す模式図、第9図および第10図は信
号波形図、第11図ないし第13図は本発明の第3の実
施例を示す図であって、第11図は主要部の構成を示す
模式図、第12図は検出器を説明するための図、第13
図は判定回路の機能説明用流れ図、第14図は本発明の
第4の実施例を説明するための図、第15図は本発明の
第5の実施例の主要部構成を示す模式図である。 1・・・コンベアライン、4・・・被検査体、4a・・
・ガラス破片、4b・・・異物、5・・・光源、6・・
・レーザ光、7.31.40・・・反射光検出器、8・
・・反射光、9・・・データ収集部、11・・・2値化
部、12.41・・・判定部、13・・・除去機構制御
部、14・・・吸引ポンプ、15・・・エアジェツト、
16・・・主制御部、30・・・回転ミラー、33・・
・微分回路、34・・・信号検出回路、35・・・異物
判定回路。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 zl 第3図 A B CD E第4
図 第9図 第10図 第13図 CE 第14図 第15図
Claims (6)
- (1)コヒーレントな性質を有する光を発する光源と、
この光源からの光を被検査体に照射し、このとき被検査
体に生じる前記光の乱反射光成分を検出する乱反射光成
分検出手段と、この手段により検出された乱反射光成分
に基いて前記被検査体の前記光に対する透光度を検査す
る透光度検査手段とを具備したことを特徴とする透光度
検査装置。 - (2)前記透光度検査手段は、前記光源からの光を被検
査体にスポット状に照射し、このとき被検査体に生じる
前記光の乱反射パターンに基いて検査するものであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の透光度
検査装置。 - (3)前記透光度検査手段は、前記光源からの光を少な
くとも被検査体の端部に照射し、このとき被検査体に生
じる前記光の乱反射パターンにおける変化の度合に基い
て検査するものであることを特徴とする特許請求の範囲
第(1)項記載の透光度検査装置。 - (4)前記透光度検査手段は、前記光源からの光を被検
査体の幅方向に走査させて照射し、このとき被検査体に
生じる前記光の乱反射パターンにより透光度の異なる位
置を検知し、この位置情報に対応する被検査体を判別す
るものであることを特徴とする特許請求の範囲第(1)
項記載の透光度検査装置。 - (5)前記透光度検査手段は、前記光源からの光を被検
査体に照射し、このとき被検査体に生じる前記光の乱反
射パターンを適正位置にて検出することにより検査する
ものであることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項
記載の透光度検査装置。 - (6)前記透光度検査手段は、前記光源からの光を落下
する被検査体に照射し、このとき被検査体に生じる前記
光の乱反射パターンに基いて検査するものであることを
特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の透光度検査
装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61019615A JPH0690149B2 (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 | 透光度検査装置 |
| DE8787101210T DE3785370T2 (de) | 1986-01-31 | 1987-01-29 | Vorrichtung zur lichttransmissionspruefung. |
| EP87101210A EP0231027B1 (en) | 1986-01-31 | 1987-01-29 | Transmissivity inspection apparatus |
| US07/009,752 US4730932A (en) | 1986-01-31 | 1987-02-02 | Transmissivity inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61019615A JPH0690149B2 (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 | 透光度検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62177436A true JPS62177436A (ja) | 1987-08-04 |
| JPH0690149B2 JPH0690149B2 (ja) | 1994-11-14 |
Family
ID=12004089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61019615A Expired - Lifetime JPH0690149B2 (ja) | 1986-01-31 | 1986-01-31 | 透光度検査装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4730932A (ja) |
| EP (1) | EP0231027B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0690149B2 (ja) |
| DE (1) | DE3785370T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| JPH0781955B2 (ja) * | 1989-08-17 | 1995-09-06 | 東洋ガラス株式会社 | 透明体中の不透明異物除去方法 |
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