JPS621822A - 熱安定性、超低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 一方向性珪素鋼板の電気・磁気的特性の改善、なかでも
、鉄損の低減に係わる極限的な要請を満たそうとする近
年来の目覚ましい開発努力は、逐次その実を挙げつつあ
るが、その実施に伴う重大な弊害として、一方向性珪素
鋼板の使用に当たっての加工、組立てを経たのちいわゆ
るひ１み取り焼鈍がほどこされた場合に、特性劣化の随
伴を不可避に生じて、使途についての制限を受ける不利
が指摘される。

この明細書では、ひずみ取り焼鈍のような高温の熱雁歴
を経ると否とに拘わらず、上記要請を有利に充足し得る
新たな方途を招くことについての開発研究の成果に関連
して以下に述べる。

さて一方向性珪素鋼板は、よく知られているとおり製品
の２次再結晶粒を（１１０）　　〔００１）　、すなわ
ちゴス方位に、高度に集積させたもので、主として変圧
器その他の電気機器の鉄心として使用され電気・磁気的
特性として製品の磁束密度（Ｂ　ｒ　ｏ値で代表される
）が高く、鉄損（Ｎｕ／Ｓ。値で代表される）のとくに
低いことが要求される。

この一方向性珪素鋼板は複雑多岐にわたる工程を経て製
造されるが、今までにおびただしい発明改善が加えられ
、今日では板厚０．３０ｍｍの製品の磁気特性がＢｔｏ
ｌ、９０Ｔ以上、Ｗ　＋　７ｙｓ　ｏ　１．０５Ｗ／　
ｋｇ以下、また板厚０．２３１１１！Ｉ＋の製品の磁気
特性がＢｔｏｌ、８９Ｔ以上、ＶＢ−ｒｙ５ａＯ，９０
１１！／ｋｇ以下の超低鉄損一方向性珪素鋼板が製造さ
れるようになって来ている。

特に最近では省エネの見地から電力損失の低減を特徴と
する請が著しく強まり、欧米では損失の少ない変圧器を
作る場合に鉄損の減少分を金額に換算して変圧器価格に
上積みする「ロス・エバリユエーション」　（鉄損評価
）制度が普及している。

（従来の技術） このような状況下において最近、一方向性珪素鋼板の仕
上焼鈍後の鋼板表面に圧延方向にほぼ直角方向でのレー
ザー照射により局部微少ひずみを導入して磁区を細分化
し、もって鉄損を低下させることが提案された（特公昭
５７−２２５２号、特公昭５７−５３４１９号、特公昭
５８−２６４０５号及び特公昭５８−２６４０６号公報
参照）。

この磁区細分化技術はひずみ取り焼鈍を施さない、積鉄
心向はトランス材料として効果的であるが、ひずみ取り
焼鈍を施す、主として巻鉄心トランス材料にあっては、
レーザー照射によって折角に導入された局部微少ひずみ
が焼鈍処理により開放されて磁区幅が広くなるため、レ
ーザー照射効果が失われるという欠点がある。

一方これより先に特公昭５２−２４４９９号公報におい
ては、一方向性珪素鋼板の仕上げ焼鈍後の鋼板表面を鏡
面仕上げするか又はその鏡面仕上げ面上に金属薄めっき
やさらにその上に絶縁被膜を塗布焼付けすることによる
、８低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法が提案されてい
る。

しかしながらこの鏡面仕上げによる鉄損向上手法は、工
程的に採用するには、著しいコストアップになる割りに
鉄損低減への寄与が充分でない上、とくに鏡面仕上後に
不可欠な絶縁被膜を塗布焼付し、さらに６００℃以上の
高温で長時間の歪み取り焼鈍を経る間に鋼板との密着性
に問題があるため、現在の製造工程において採用される
に至ってはいない。

また特公昭５６−４１５０号公報においても鋼板表面を
鏡面仕上げした後、酸化物系セラミックス薄膜を蒸着す
る方法が提案されている。しかしながらこの方法も６０
０℃以上の高温焼鈍を施すと鋼板とセラミックス層とが
はく離するため、実際の製造工程では採用できない。

（発明が解決しようとする問題点） 発明者らは上記した鏡面仕上による鉄損向上の実効をよ
り有利に引き出すこと、とくに今日の省エネ材料開発の
観点では上記のごときコストアップの不利を凌駕する特
性、とくに高温処理でも特性劣化を伴うことなくして絶
縁層の密着性、耐久性の問題を克服することこそが肝要
と考え、この基本認識に立脚して、鏡面仕上後の鋼板処
理方法に根本的な再検討を加えてこの発明に到達した。

ここに最終仕上焼鈍法の一方向性珪素鋼板には、先行行
程の脱炭・１次再結晶焼鈍を経た時点で通常ＭｇＯを主
成分とする焼鈍分離剤を塗布し、通常最終仕上焼鈍の初
期に鋼板表面で脱炭・１次再結晶焼鈍の際に生じた主と
してＳｉ酸化物とＭｇＯの間の反応に由来した、いわゆ
るフォルステライト質下地被膜が形成されているところ
、このフォルステライト質被膜は、上記鏡面仕上による
鉄損向上を目指すとき、酸洗での除去がかなりに厄介で
あるために板面鉄素地面を荒らす結果となって、鏡面仕
上げ操作を困難にする不利の著しいことが明らかになっ
たのである。

（問題点を解決するための手段） 上記検討の結果フォルステライト質被膜の簡便な除去に
ついて検討を進める間に、むしろ、その生成を抑制する
方途がより有利に適合することに着目し実験を重ね、鏡
面仕上を前提とする、熱安定性、超低鉄損一方向性珪素
鋼板の有利な製造方法を、以下の手順にて確立したもの
である。

含珪素鋼スラブを熱間圧延して得られた熱延板に１回又
は中間焼鈍を挟む２回の冷間圧延を施して最終板厚にし
てから、脱炭・１次再結晶焼鈍を施したのち、引続く２
次再結晶および純化焼鈍を含む最終仕上げ焼鈍の際に主
としてＳｉ酸化物よりなる鋼板表層との間におけるフォ
ルステライト生成反応を抑制する成分組成になる焼鈍分
離剤を適用すること、 仕上焼鈍済みの一方向性けい素鋼板表面上の非金属物質
層を除去した後、研磨処理により中心線平均粗さ０．４
μｍ以下の鏡面状態に仕上げること、この鏡面仕上表面
上に、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法またはイオン
インプランテーション法により、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｖ
、Ｃｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、　Ｗ、　Ｚｒ。

Ｈｆ、Ｍｎ、及びＴａの窒化物及び／又は炭化物並びに
ＡＩ。

Ｓｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、　Ｚｒ、　Ｓｎ、　Ｆｅ、　Ｎｉ、
　Ｃｕ、　Ｗ及びＭｇの酸化物のうちから選ばれる少な
くとも１種からなる、膜厚０．００５〜５μｍの極薄の
張力被膜を被着させること の結合になることを特徴とする、熱安定性、超低鉄損一
方向性珪素鋼板の製造方法（第１発明）。

含珪素鋼スラブを熱間圧延して得られた熱延板に１回又
は中間焼鈍を挟む２回の冷間圧延を施して最終板厚にし
てから、脱炭・１次再結晶焼鈍を施したのち、引続く２
次再結晶および純化焼鈍を含む最終仕上げ焼鈍の際に主
としてＳ１酸化物よりなる鋼板表層との間における、フ
ォルステライト生成反応を抑制する成分組成になる焼鈍
分離剤を適用すること、 仕上焼鈍済みの方向性けい素鋼板表面上の非金属物質層
を除去した後、研磨処理により中心線平均粗さ０．４μ
ｍ以下の鏡面状態に仕上げること、この鏡面仕上表面上
に、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法またはイオンイ
ンプランテーション法により、Ｔｉ、　Ｎｂ、　Ｓｉ、
　Ｖ、　Ｃｒ、　Ａｌ、　Ｂ、　Ｎｉ、　Ｃｏ、　Ｍｏ
、　Ｗ、　Ｚｒ、　Ｈｆ。

Ｍｎ及びＴａの窒化物及び／又は炭化物並びにＡｌ、Ｓ
ｉ。

Ｚｎ、　Ｔｉ、　Ｚｒ、　Ｓｎ、　Ｆｅ、　及びＭｇの
酸化物のうちから選ばれる少なくとも１種からなる、膜
厚０．００５〜５μｍの極薄の張力被膜を被着させるこ
と、およびこの張力被膜上に、絶縁性塗布焼付層を重ね
て被着すること、 の結合になることを特徴とする、高絶縁性、熱安定性超
低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。（第２発明）。

ここにフォルステライト生成反応を抑制すべき焼鈍分離
剤の成分組成については、Ａｌ２Ｏ３、２ｒＯ７゜Ｔｉ
Ｏ□等のうちから選んだ少なくとも１種を、少なくとも
５０％、ＭｇＯに配合することがのぞましく、この場合
純化焼鈍の際にふけるインヒビターの焼鈍分離剤への移
行吸収の機能が保持される限りにおいて、ＭｇＯなども
また適合する。

上記各発明の成功が導かれた具体的な実験に従って説明
を進める。

Ｃ０，０４８％重量％（以下単に％で示す）、Ｓｉ３．
４４％、ＭｎＱ、０６０％、Ｓｅ　ｏ、　０２２％、Ｓ
ｂ　Ｏ，０２５％及びＭ。

Ｏ，０３５％を含有する珪素鋼連鋳スラブを、１３３０
℃で４時間加熱後熱間圧延して２．Ｏｍｍ厚の熱延板と
した。

その後９００℃で３分間の均−化焼鈍後、９５０℃で３
分間の中間焼鈍をはさむ２回の冷間圧延を施して０．２
３＋ｎｍ厚の最終冷延板とした。

その後８２０℃の湿水素雰囲気中で脱炭・−次回結晶焼
鈍を施した後、鋼板表面に ■ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布、■Ａ１２０
３（７０％）とＭｇＯ（３０％）とから成る焼鈍分離剤
を塗布した後、ついで８５０℃で５０時間の２次再結晶
焼鈍と、１２００℃で飽水素中５時間の純化焼鈍とを施
した。

その後■の焼鈍分離剤ではフォルステライト被膜が形成
されているため５０〜１００％Ｈ２ＳＯ４液中酸洗処理
によりフォルステライ被膜を除去した後、化学研磨及び
電解研磨を行って鏡面に仕上げた。

一方■の焼鈍分離剤ではフォルステライト被膜が形成さ
れていないため１０％Ｈ２ＳＯ，液中で軽酸洗処理後化
学研磨及び電解研磨に供することができた。

その後イオンプレーティング装置を使用して膜厚０゜５
μｍでＴｉＮのイオンプレーティングを行った。

上記のイオンプレーティングについで、りん酸塩とコロ
イダルシリカとを主成分とするコーテイング液でコーテ
ィング処理（絶縁性塗布焼付層の形成）を行った。

このときの製品の磁気特性及び密着性の実験結果をまと
めて表１に示す。

表１から明らかなように、■の通常のＭ　ｇ　Ｏ塗布に
より最終仕上焼鈍を行ってフォルステライト被膜をいっ
たん形成し、さらに強酸洗処理によりフォルステライト
被膜を除去をした後化学研磨及び電解研磨したときの製
品板の磁気特性は、■の焼鈍分離剤を用いて同様の処理
したものにくらべて鉄損が約０．０４Ｗ／ｋｇも劣って
いる。

フォルステライト被膜を形成させない■の場合、鋼板の
素子面が軽酸洗のため肌荒れが少なく、同一の研磨条件
の下で、■の場合よりも鉄損の低下が顕著であると考え
られる。

すなわち最終仕上焼鈍中におけるフォルステライトの生
成を抑制することによって、それ以後の超鉄損化の処理
行程が著しく容易になると同時に磁気特性の大幅な向上
が期待できるわけである。

（作　用） 上記した磁気特性の向上は仕上焼鈍後に鋼板表面の鏡面
化がなされた状況下で密着性を高めた極薄の張力被膜を
生成させることによって従来比類のない超低鉄損が実現
される。

ここに塑性的な微少ひずみの働きを利用するわけではな
いので、熱安定性に何らの問題なく、ひずみ取り焼鈍の
如き高温の熱雁歴の下に電気・磁気的特性に影響される
ところがない。

仕上表面の中心線平均粗さは、Ｒａ≦０．４　μｍの鏡
面状態とすることが必要で、Ｒａ＞０．４μｍのとき、
表面が粗いため、充分な鉄損低減が期待できない。

次に張力絶縁被膜の膜厚は、０．００５〜５μｍの範囲
で適合し、０．００５μｍに満たないときは、必要な張
力付与に寄与し得ない一方、５μｍをこえると、コスト
アップになると共に占積率および密着性において不利が
生じる。

この張力被膜の混合相を介した、鏡面状態の仕上表面上
における強固な被着は、ｃｖＤ、イオンプレーティング
、イオンインプランテーションの何れによっても有利に
もたらされる。

次に一方向性珪素鋼板の一般的な製造工程も含めてより
詳しく説明する。

出発素材は従来公知の一方向性珪素鋼素材成分、例えば ■Ｃ：０．旧〜０．０６０％、Ｓｉ：２．５０〜４．５
％、Ｍｎ：０．０４〜０．２％、Ｍｏ＋０．００３〜０
．１％、ｓｂ：ｏ、　００５〜０．２％、ＳあるいはＳ
ｅの１種あるいは２種合計で、０．００５〜０．０５％
を含有する組成 ■Ｃ：０．０１〜０．０８％、Ｓｉ　：２．０〜４．０
％、Ｓｏｌ　Ａｌ：０．００５〜０．０６％、　Ｓ：０
．００５〜０．０５％、Ｎ：０．００１〜０．０１％、
Ｓｎ：０．０１〜０．５％、Ｃｕ：０．０１〜０．３％
、Ｍｎ：０．０１〜０．２％を含有する組成■Ｃ：０．
０１〜０．０６％、Ｓｉ：２．０〜４．０％、Ｓ：０．
００５〜０、０５％　、Ｂｏｏ、　０００３〜０．００
４０％、Ｎ：０．００１〜０．０１％、Ｍｎ：０．０１
〜０．２％を含有する組成の如きにおいて適用可能であ
る。

次に熱延板は８００〜１１００℃の均一化焼鈍を経て１
回の冷間圧延で最終板厚とする１回冷延法か又は、通常
８５０℃から１０５０ｔの中間焼鈍をはさんでさらに冷
延する２回冷延法にて、後者の場合最初の圧下率は５０
％から８０％程度、最終の圧下率は５０％から８５％程
度で０．１５ｍｍから０．３５ｍｍ厚の最終冷延板厚と
する。

最終冷延を終わり製品板厚に仕上げた鋼板は・表面脱脂
後７５０℃から８５０℃の湿水素中で脱炭・１次再結晶
焼鈍処理を施す。

その後鋼板表面に、すでに述べたところに従い焼鈍分離
剤を塗布する。

その後２次再結晶焼鈍を行うが、この工程は（１００）
＜００１＞方位の２次再結晶粒を充分発達させるために
施されるもので、通常箱焼鈍によって直ちに１０００℃
以上に昇温し、その温度に保持することによって行われ
る。

この場合（１００）＜００１＞方位に、高度に揃った２
次再結晶粒組織を発達させるためには８２０℃から９０
０℃の低温で保定焼鈍する方が有利であり、そのほか例
えば０．５〜ｂ 熱焼鈍でもよい。

２次再結晶焼鈍後の純化焼鈍は、水氷素中で１１００℃
以上で１〜２０時間焼鈍を行って鋼板の純化を達成する
ことかた必要である。

次にこの純化焼鈍後表面上の非金属物質を公知の酸洗な
どの化学除去法や切削、研削などの機械的除去法または
それらの組み合せにより除去する。

この除去処理の後、化学研磨、電解研磨などの化学研磨
や、バフ研摩等の機械的研磨あるいはそれらの組合せな
ど従来の手法により鋼板表面を鏡面状態つまり中心線平
均粗さ０．４μｍ以下に容易に仕上げることができる。

その後に、ＣＶＤ、イオンプレーティング若しくはイオ
ンインプランテーションにより、鏡面状態の鋼板表面に
０．００５〜５μｍの極薄の張力被膜を形成することが
必要である。。

コノトキの、使用するＣＶＤ、イオンプレーティングあ
るいはイオンインプランテーションに使用する装置は従
来公知の方法を用いて良い。

これらの方法による極薄の張力被膜としては、例えばＴ
ｉＮ、　ＴｉＣ，ＶＮ、　ＶＣ，ＮｂＮ、　ＮｂＣ，Ｓ
ｉ、Ｎ、、　ＳｉＣ。

（：ｒ２Ｎ、　Ｃｒ３Ｃ，、ＡＩＮ、　Ａ１４Ｃ，ＢＮ
、　ＮｉＣ，ＣｏＣ，ＣｏＮ。

Ｍｏ２Ｃ，ＷＣ，ｉす２Ｎ、　ＺｒＮ、　ＺｒＣ，Ｈｆ
Ｎ、　ＨｆＣ，Ｍｎ２Ｃ，ＴａＣ。

ＴａＮ、　Ａｌ２Ｏ３，Ｓｉｎ。、　ＺｎＯ，Ｔｉｎ。

、ＺｒＯ２，５ｎ０２゜Ｆｅ２Ｏ３，Ｎｉｐ、　Ｃｕｂ
、　ＭｇＯなどが適当である。

さらに、ＣＶＤ、イオンプレーティングあるいはイオン
インプランテーションにより極薄の張力被膜を形成した
あと、これに重ねて、りん酸塩とコロイダルシリカとを
主成分とする絶縁被膜の塗布焼付を行うことが、１００
万ＫＶＡにも上る大容量トランスの使途において当然に
必要であり、この絶縁性塗布焼付層の形成の如きは、従
来公知の手法を用いて良い。

上記のように処理された珪素鋼板は平たん化熱処理を行
うことができる。

（実施例） 実施例１ （：：Ｑ、　０４６％、Ｓｉ：３．４２％、Ｍｎ：０．
０６４％、Ｍｏ：０．０２５％、Ｓｅ：０．０２１％、
Ｓｂ：０．０２５％を含有する熱延板を、９００℃で３
分間の均一化焼鈍後、９５０℃の中間焼鈍をはさんで２
回の冷間圧延を行って０．２３＋ｎｍ厚の最終冷延板と
した。

その後８２０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後鋼板表面にＡ１
２０３（７５％）、　ＭｇＯ（２５％）から成る焼鈍分
離剤を塗布した後８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍
し、１２００℃で８時間乾水素中で純化焼鈍を行なった
。

その後軽酸洗し、ついで３％ＨＦと８２０□液中で化学
研磨してＲａｇ、　０５μｍの中心線平均粗さに鏡面仕
上げした。

その後１０ＫＶのイオン化電圧で３分間イオンプレーテ
ィングし膜厚０．５μｍのＴｉＮ張力被膜を形成させた
。

次にりん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とする絶縁
性塗布焼付層を形成し、その後８０゛０℃で２時間のひ
ずみ取り焼鈍を行った。

そのときの製品の磁気特性及び密着性は次のとおりであ
った。

磁気特性　ＩＬｏ＝１．９０Ｔ、Ｗｕｚｓｏ＝０．６８
Ｗ／　ｋｇ密着性　　曲げ直径３０＋ｎ＋ｎで１８０°
曲げてもはく離せず密着性は良好であった。

実施例２ ｃｏｏ、　０６１％、Ｓｉ：３．３８％、Ｍｎ：０．０
８０％、Ａ１：０．０２５％、Ｓ：０．０２９％、Ｎ：
０．００６８％を含有する熱延板を、１１５０℃で３分
間の均−化焼鈍後急冷処理を行い、その後３００℃の温
間圧延を施して０．２３ｍｍ厚の最終冷延板とした。

その後８５０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、表面にＡｌ２
Ｏ３（４０％）とＺｒＯ２（３０％）、Ｍｇ０（３０％
）から成る焼鈍分離剤を塗布した後８５０℃から１１５
０℃まで８℃／ｈｒで昇温しで２次再結晶させた後、１
２００℃で８時間乾水素中で純化焼鈍を行った。

その後軽酸洗し、ついで３％ＨＦと８２０□液中で化学
研磨してＲａｇ、　３μｍの中心線平均粗さに鏡面仕上
げした。

その後イオンインプランテーション法によりイオン加速
電圧６０ＫＶで２５０分間窒素イオンを注入して膜厚１
．２μｍにてＳｉ３Ｎ、よりなる極薄の張力被膜を形成
させ、次にりん酸塩とコロイダルシリカとを主成分とす
る絶縁性塗布焼付層を形成させた後、８００℃で２時間
のひずみ取り焼鈍を行った。

そのときの製品の磁気特性及び密着性は次のとおりであ
った。

磁気特性　Ｂ、ｏ＝１，９４７．Ｗ＋７．＝ｓｏ＝０．
６５１１１／　ｋｇ密着性　　曲げ直径３０ｍｍで１８
０°曲げてもはく離せず密着性は良好であった。

実施例３ Ｃ：０．０４３％、Ｓｉ：３．４６％、Ｍｎ：０．０６
０％、Ｍｏ：０．０２６％、Ｓｅ：０．０２３％、Ｓｂ
：０．０２５％を含有する熱延板を、９００℃で３分間
の均一化焼鈍後、９５０℃の中間焼鈍をはさんで２回の
冷間圧延を行って０．２０ｍｊ厚の最終冷延板とした。

その後８００℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、鋼板表面にＡ
ｌ２Ｏ３（７０％）とＭｇＯ（３０％）から成る焼鈍分
離剤を塗布した後８５０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍
し、１１８０℃で１００時間乾水素中純化焼鈍を行った
。

その後軽酸洗し、ついで３％ＨＦ、、！：Ｈ２０□液中
で化学研磨してＲａｇ、　０５μｍの中心線平均粗さの
鏡面に仕上げた。

その後ＣＶＤ法により膜厚０．４μｍにてＴｉＣの極薄
の張力被膜を形成させた。

そのときの製品の磁気特性及び密着性は次のとおりであ
った。

磁気特性　Ｂ＋ｏ＝１．９ＬＴ、Ｗｕ７ｓｏ＝０．６９
Ｗ／　ｋｇ密着性　　曲げ直径３０ｍｍで１＆０°曲げ
てもはく離せず密着性は良好であった。

実施例４ ｃ：ｏ、　０４４％、Ｓｉ：３．３６％、Ｍｎ：０．０
６６％、Ｍｏ：０．０２７％、Ｓｅ：０．０２１％、ｓ
ｂ：（１，０２５％を含有する熱延板（２，２ｍｆｆ１
厚）を９００℃で３分間の均一化焼鈍後、９５０℃の中
間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を行って０．２３ｍｍ
厚の最終冷延板とした。

その後８２０℃の湿水素中で脱炭焼鈍後、鋼板表面にＡ
１２０ｚ　（７５％）とＭｇＯ（２０％）、　Ｚｒ０ｚ
　（５％）を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した後８５
０℃で５０時間の２次再結晶焼鈍及び１２００℃で８時
間乾水素中で純化焼鈍を行った。

その後軽酸洗により鋼板表面上の酸化被膜を除去し、次
いで電解研磨により鏡面に仕上げた。その後ＣＶＤ　（
表４中無印）、イオンプレーティング（表４中の○印）
及びイオンインプランテーション（表４中のΔ印）によ
り種々の窒化物、炭化物及び酸化物の薄膜を形成した（
１．０〜１．５μｍ厚）。

その後これらの処理をした試料は表面にりん酸塩とコロ
イダルシリカを主成分とする絶縁被膜処理した後、８０
０℃で３時間の歪み取り焼鈍を行った。そのときの製品
の磁気特性を表２にまとめて示す。

実施例５ ｃｏｏ、　０３９％、Ｓｉ：３．２６％、Ｍｎ：０．０
６２％、Ｂ：０．０２９％、Ｓ　：０．０３２％、Ｃｕ
：０．１２％を含有するけい素鋼スラブを１３２０℃で
６時間加熱後熱延して２．２ｍｍ厚の熱延板とした。そ
の後９５０℃で２分間の均一化焼鈍を施した後、９５０
℃の中間焼鈍をはさんで２回の冷間圧延を行って０．２
３＋ｎ＋ｎ厚の最終冷延板とした。

その後８４０℃の湿水素中で脱炭を兼ねた１次再結晶焼
鈍後、鋼板表面にＡｌ２Ｏ，（６０％）とＺｒＯ□（３
％）。

Ｍｇ０（３７％）を主成分とする焼鈍分離剤を塗布した
後、８５０℃から１０５０℃まで５℃／ｈｒで昇温しで
２次再結晶させた後、１２００℃で１０時間乾水素中で
純化焼鈍を行った。

その後酸洗により鋼板表面上の酸化被膜を除去し、つい
で電解研磨により鏡面状態に仕上げた。

その後イオンプレーティングによりＴｉＮ（３，５μｍ
厚）の張力被膜を形成させた後、りん酸塩とコロイダル
シリカとを主成分とする絶縁性塗布焼付層を形成させた
後、８００℃で３時間のひずみ取り焼鈍を行った。

そのときの製品の磁気特性及び密着性は次のとおりであ
った。

磁気特性　Ｂ　１ｏ＝１．９３Ｔ、　ＩＩ　＋　ｔ７ｓ
　ｏ＝０゜６９１’ｉ／　ｋｇ密着性　　曲げ直径３０
＋ｎｍで１８０°曲げてもはく離せず密着性は良好であ
った。

（発明の効果） 第１発明により、歪み取り焼鈍が施される使途でも有利
に適合する超極低鉄損の一方向性けい素鋼板の適切な製
造方法が確立され、また第２発明により、絶縁性の増強
がさらに加わる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、含珪素鋼スラブを熱間圧延して得られた熱延板に１
   回又は中間焼鈍を挟む２回の冷間圧延を施して最終板厚
   にしてから、脱炭・１次再結晶焼鈍を施したのち引続く
   ２次再結晶および純化焼鈍を含む最終仕上げ焼鈍の際に
   主としてＳｉおよびＦｅ酸化物よりなる鋼板表層との間
   における、フォルステライト生成反応を抑制する成分組
   成になる焼鈍分離剤を適用すすこと、 仕上焼鈍済みの方向性けい素鋼板にその鋼板表面上の非
   金属層を除去した後研磨処理により中心線平均粗さ０．
   ４μｍ以下の鏡面状態に仕上げること、 この鏡面仕上表面上に、ＣＶＤ法、イオンプレーティン
   グ法またはイオンインプランテーション法により、Ｔｉ
   、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ
   、Ｗ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｍｎ及びＴａの窒化物及び／又は炭
   化物並びにＡｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｆｅ
   、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ及びＭｇの酸化物のうちから選ばれる
   少なくとも１種からなる、膜厚０．００５〜５μｍの極
   薄の張力被膜を被着させること の結合になることを特徴とする、熱安定性、超低鉄損一
   方向性珪素鋼板の製造方法。 ２、含珪素鋼スラブを熱間圧延して得られた熱延板に１
   回又は中間焼鈍を挟む２回の冷間圧延を施して最終板厚
   にしてから、脱炭・１次再結晶焼鈍を施したのち、引続
   く２次再結晶および純化焼鈍を含む最終仕上げ焼鈍の際
   に主としてＳｉおよびＦｅ酸化物よりなる鋼板表層との
   間における、フォルステライト生成反応を抑制する成分
   組成になる焼鈍分離剤を適用すること、 仕上焼鈍済みの方向性珪素鋼板にその鋼板表面上の非金
   属物質層を除去した後研磨処理により中心線平均粗さ０
   ．４μｍ以下の鏡面状態に仕上げること、 この鏡面仕上表面上に、ＣＶＤ法、イオンプレーティン
   グ法またはイオンインプランテーション法により、Ｔｉ
   、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｂ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ
   、Ｗ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｍｎ及びＴａの窒化物及び／又は炭
   化物並びにＡｌ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｆｅ
   、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｗ及びＭｇの酸化物のうちから選ばれる
   少なくとも１種からなる、膜厚０．００５〜５μｍの極
   薄の張力被膜を被着させること、および この張力被膜上に、絶縁性塗布焼付層を重ねて被着する
   こと、 の結合になることを特徴とする、高絶縁性、熱安定性超
   低鉄損一方向性珪素鋼板の製造方法。