JPS6218362Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の技術分野〕 本考案は、ウエハを研削、ラツピング、ホーニ
ング加工する際の真空チヤツク装置の改良に関す
る。

〔考案の技術的背景とその問題点〕

一般に半導体装置の製造の過程において、半導
体を薄片状に切断して、いわゆるウエハを形成
し、これに研削、ラツピング、ホーニングなどの
加工を施すことが行なわれている。これらの加工
においては、ウエハは通常真空チヤツク装置で吸
着保持されて加工される。図面を参照して従来の
真空チヤツクの装置を説明すると、第１図および
第２図に示す第１の従来例においてウエハ１とほ
ぼ同径のチヤツク本体２は、多孔質材料からなる
吸着体３が埋め込まれていて、真空路４を介して
吸着体３を真空源に連通し、減圧により平坦な吸
着面５でウエハ１を吸着保持する。これは主に研
削加工などに使用される。次に第２の従来例とし
て第３および第４図に示すものは、チヤツク本体
吸着面５に同心に環状の吸着溝７，…とこれらを
連通する放射状の吸着溝８，…を設け、真空路
９，…により真空源に連通して上記の場合と同様
に減圧によりウエハ１を吸着する。

また溝を吸着面に設ける替りに多数の透孔をあ
けた板体を吸着面としたものもある。この形式の
ものや第３図、第４図に示す形式のものは、主と
してラツピングやホーニング加工に使用される。

しかるに、上述の真空チヤツク装置は、加工中
に加工液や切屑が吸着体とウエハの間に侵入して
来て、ウエハの裏面を腐食させて、ウエハを不良
品とし、また精度低下の原因となる欠点があつ
た。さらにまた吸着体自身の寿命を短かくし、吸
着力が低下し、ときとしてウエーハの飛散、割れ
などの事故を起す不都合があつた。

上述のような不都合を補うために改良された
種々な真空チヤツクが考案されている。すなわち
第３図および第４図に示すような真空チヤツク装
置の吸着面に吸着溝の部分を除いて弾性シールを
接着し、加工液などが吸着面とウエハとの間に入
るのを防止したものがある。この形式のものは、
吸着面に弾性シートを介して吸着されるので、精
度が悪く、また弾性シートをはり付けた後に加工
装置自体でシートを加工できないので、非常に高
精度に弾性シートを取付ける必要があり、また磨
耗したら再使用は不可である。しかもシール性能
はあまり良好とはいえないのである。また第５図
および第６図に示すものは、例えば第１図、第２
図に示したような多孔質部材を吸着体３とし、そ
の外周を囲繞してシール溝１０を設け、これに断
面Ｖ字状の環状ゴムからなるシール部材１１を嵌
め込んで構成したものである。そして、この吸着
面５はウエハ１より径小になつていて、ウエハ１
の外周部１ａにわずかに環状に突出している。こ
の外周部１ａの裏面１ｂはシール体１１に当接
し、減圧によりウエハ１を吸着すると、シール部
材１１の弾性力に抗してウエハ１の裏面１ｂがシ
ール部材１１を押圧し、ウエハ１の外周部１ａの
裏面１ｂはシールされる。この真空チヤツクは加
工液や切屑が裏面１ｂに回り込むのを防止する
が、ウエハ１を押圧する力の調節は極めて微妙
で、シール部材１１の弾性力が強すぎると、シー
ル性はよいがウエハ１の外周部１ａが上方に押さ
れラツピングの結果外周部１ａが薄くなり、一
方、弾性力が弱ければ加工液による汚れは避けら
れず、結局適切なシール部材１１を得るのが困難
であり、取付けに際しての調節がむづかしいとい
う不都合は避けられないのである。

〔考案の目的〕

本考案は上述の事情にかんがみてなされたもの
で、ウエハの取付けが容易で、しかも裏面の汚れ
を確実に防止する真空チヤツクを提供することを
目的とする。

〔考案の概要〕

本考案はウエハの外周部を環状に残した内側裏
面を減圧により吸着する本体と、これの外側に摺
動自在に嵌合したシール体とを設けて、ウエハを
減圧により本体で吸着保持するとともに、シール
体を減圧によりウエハの外周部に吸着して加工液
などが裏面に侵入するのを防止した真空チヤツク
である。

〔考案の実施例〕

以下本考案の詳細を第７図および第８図に示す
一実施例により説明する。２１はチヤツク本体で
製作のため取付部２２と保持部２３とを一体に結
合して構成されていて、取付部２２は円柱状部材
の下端に図示しないフランジを設けて構成されて
いて、これにより真空チヤツク装置全体が加工テ
ーブルに固定される。上部の保持部２３は上半部
２４を径小に形成して段部２５を設けた円盤ブロ
ツク部材を基体２３ａとし、そして径大部の外径
は、ほぼウエハ１の外径と同じで、径小部の外径
はウエハ１のそれより若干小さく形成されてお
り、また上面開口した凹部２６が同心に設けられ
ている。この凹部２６には底面に第３図で示した
と同様な複数個の環状溝２７，…およびこれらを
連通する複数個の放射溝２８，…および底面の中
心に一端が開口し、他端が下方を通つて真空源
（図示しない）に連通した減圧路２９が設けられ
ている。これらの環状溝２６，…の上には通気性
のある多孔質部材からなる円板状の吸着体３１が
上面である吸着面３１ａを基体２３ａの上面と面
一に埋め込まれて本体２１が構成されている。次
に段部２５には断面角形の環状部材からなるシー
ル体３２が径小な上半部２４に摺動自在に嵌合し
ている。このシール体３２にはこれの一端面３３
に開口した輪状の同心な吸着溝３５が適宜な深さ
に設けられていて、これはシール体２４の側面を
貫通した第２減圧路３６により真空源に連通して
おり、図示しない電磁弁の開閉によりこの吸着溝
３５は減圧、大気圧に切換えられるようになつて
いる。以上が構成の説明である。

次に本実施例の作動につき述べる。ウエハ１を
吸着面３１ａ上に載置すると、上述したように上
半部２４はウエハ１より径小なので、本体２１と
ウエハ１とを同心に置いた場合は、ウエハ１の外
周部１ａの裏面１ｂが本体２１の上面外周より突
出する。そしてこれはシール体３２の一端面３３
に対向した状態となる。なお必要に応じてシール
体３２の端面には薄い弾性部材からなる弾性シー
ト３７、例えばポリエステルを接着しておく。次
に減圧装置を作動させると、減圧路２９、環状溝
２７、放射溝２８が減圧され、ウエハ１は吸着体
３１に強固に吸着される。これと同時にシール体
３２の吸着溝３５も減圧され、シール体３２はウ
エハ１の外周部裏面１ｂに吸着して密着する。こ
の状態でウエハ１の取付けは終り、一般公知の方
法により、例えばウエハ１の表面１ｃをラツピン
グ加工する。この際砥粒を含んだ加工液が表面Ic
上に滴下されるが、シール体３２がウエハ１の外
周部裏面１ｂの全周にわたつて密着しているの
で、加工液がウエハ１の裏面１ｂにまわり込み、
侵入することはない。

〔考案の効果〕

以上詳述したように、本考案の真空チヤツク装
置は、本体に設けた吸着体でウエハを保持すると
ともにウエハの周辺部裏面に全周にわたり環状の
シール体３２を吸着するように構成したので、加
工液や切屑がウエハの裏面に侵入し裏面を汚すこ
とはないので不良品の発生が防止される。また吸
着体にも直接加工液や切屑などが侵入しないので
吸着体が損なわれることなく、寿命が長くなる。
さらにまたシール体は特にウエハ外周部を下から
押上げ変形させるようなことがないので、この裏
面シールのために特別に本体、シール体などの相
互位置を調節する必要がないから、ウエハの着脱
が極めて容易で、作業能率の向上、品質、歩留り
の向上に益するところ極めて大である。

なお本実施例においては、多孔質部材の吸着体
を使用したが、これに限定されず例えば他の従来
例などの構成でもよい。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１の従来例の平面図、第２図は同じ
く要部断面正面図、第３図は第２の従来例の平面
図、第４図は同じく要部断面正面図、第５図は第
３の従来例の要部断面正面図、第６図は第５図Ａ
部拡大図、第７図は本考案の一実施例の要部断面
正面図、第８図は第７図のＡ部拡大図である。 １：ウエハ、１ｂ：ウエハ外周部の裏面、２
１：チヤツク本体、３１ａ：吸着面、３２：シー
ル体、３３：一端面、３５：吸着溝、３７：弾性
シート。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) ウエハを減圧により吸着する平坦な吸着面を
   もち上記ウエハを環状の外周部を残して吸着保
   持するチヤツク本体と、環状部材からなり上記
   チヤツク本体の外周面に摺動自在に嵌合し一端
   面を上記吸着保持されたウエハ外周部の裏面に
   対向した環状のシール体と、上記シール体に設
   けられ上記一端面に沿つて環状に開口しかつ減
   圧源に連通し減圧により上記シール体を上記外
   周部の裏面に吸着させる吸着溝とを具備したこ
   とを特徴とする真空チヤツク装置。 (2) シール体は一端面にフイルム状の弾性部材か
   らなる弾性シートを具えていることを特徴とす
   る実用新案登録請求の範囲第１項記載の真空チ
   ヤツク装置。