JPS62187028A - セラミツクコ−ト積層板の製造方法 - Google Patents

セラミツクコ−ト積層板の製造方法

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JPS62187028A
JPS62187028A JP61028698A JP2869886A JPS62187028A JP S62187028 A JPS62187028 A JP S62187028A JP 61028698 A JP61028698 A JP 61028698A JP 2869886 A JP2869886 A JP 2869886A JP S62187028 A JPS62187028 A JP S62187028A
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ceramic
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寛士 長谷川
光弘 井上
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は耐熱性、熱伝専性にすぐrしたプリント配線板
用の積層板の製造方法に関する。
(従来の技術) 従来、プリント配線機としてはフェノール樹脂積層板、
エポキシ樹脂槓ノ1#也か多く用いらiしてきた。しか
し最近、電子機器のMJ注舵化、小型化に伴ない1部品
の高密度実装化か望まγし、そnKよって生ずる熱の高
密度発生をいかに処理するかということが問題になって
きた。
こnに対し、従来の有機質系基板(1熱伝導性が恐いた
め熱放散性に欠ける。また耐熱性に之しいなどのために
高密度実装化をヱ困奸であつた。
そのため、熱伝擲性にすぐ几た基板としてアルミナなど
のセラミック基板、あるいを;金g板を芯材としてその
表面を絶縁ノーで檄ったメタルコア基板などが注目さj
している、また、耐熱性の点からも従来のフェノール側
肋、エポキシ樹脂系基板に代わり、ポリイミド樹脂ある
いはポリエーテルエーテルクトン、ポリサル7オンなど
の耐熱性樹脂を用いた基板の開発も行わrしている。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、こrしらの基板についてみると櫨々の問題点が
ある。すなわち、アルミナ、炭化ケイ素、べIJ リア
などのセラミック基板は熱伝導性。
耐熱性にすぐrしているか、製造工程が複雑で加工性が
悪い、機械的強度か低い、基板の大きさに制限があり、
大型の基権か得らnないなどの欠点がある。また、金属
板を8拐としたメタルコア基板は回路となる専体部と接
しているのは熱伝専率の低い樹脂からなる絶縁層である
ために金炙芯の高熱伝導性を十分に粘かすことができず
、熱放散性11十分でない。また、8拐が金uA仏であ
るため、スルーホールの形成か@易ではなく、非常に複
雑な製造工程を必要とする。
さらに耐熱性+64脂基鈑は耐熱性に向上しているもの
の、樹脂の熱伝尋率が低い1こめに熱放散効果は望めな
い。
本発明はこ乙らの欠点全改良し、従来の有磯質系基彷と
同様な製造加工方法が可能で、しかも熱伝導性、耐PA
性にすぐrした基板を得る製造方法を提供するものであ
る。
(問題点を解決するための平波) すなわち本発明は金欄板の片開に電気絶線性セラミック
を溶射してセラミックj1m’に形成し、そのセラミッ
ク層側にグリプレグ紫積層して熱圧成形して一体化し、
成形後金FA依を剥離することによシ有機質系基板の表
面にセラミック層を有する積層板を得ることを特徴とす
るものである。
本発明においてセラミックを金属板に溶射してそこにプ
リプレグを載置して熱圧成形して一体化するのはセラミ
ックと樹脂の密着性同上のためと表向のセラミック層の
平滑性のためである。一般に無機質であるセラミックと
有機質である樹脂は!6.質でしかも熱Ile彊係数も
異なるために密着性に乏しい。したがって成形後の有機
質系基板表面にセラミックを俗刺したのでは十分な密着
性は得られにくい。また、#射層の表面はそのままでは
粗面であり、その表面に回路を形成するためKは研摩処
理して平滑にしなけrLばならない。そこで金属板上に
セラミックを溶射してその上にプリプレグを積層、熱圧
成形して一体化し、成形後、金属板を取り除くことによ
り粗面でしかも気孔か存在するセラミック溶射層上でプ
リプレグの樹脂か浴融、低粘度化し、その間隙に浸透し
て硬化するために接看血積が増大し、良好な1pI3i
性が得らnる。また。
成形後、金属板を取り除くことにより表面に現わiLる
セラミック沼射層はその金属板の表面がそのまま転写さ
nるので平滑な而が得らrし、研摩処理を必要とせす、
そのま1回路を形成することが可能である。
本発明で用いる金属板としてV工秩皆、銅板、アルミ板
、ステンレス板などが用いら才し%成形後の金属板とセ
ラミック層の剥11711は小さな機械的力で可能であ
るが、容易に剥離するためには溶射前の金属板のブラス
ト処理を行わないか、または軽く行うことが望ましい。
さらに剥WIを容易にするためには一般のプラスチック
成形に行うシリコーン系、フッ素系などの離型剤を塗布
する離型処i!Aを施すことが有効である。
ここで用いる電気絶縁性のセラミックはセラミック基板
として最も多く用いらnているアルミナが好適であるが
、その他にスピネル、ムライト、ベリリア、窒化アルミ
ニウムなどの高熱伝導性で電気絶縁性のセラミックを用
いることかできる。またセラミックの溶射法としてはプ
ラズマ浴射法、ガス溶射法、水プラズマ溶射法などが適
用できる。
さらにプリプレグについて述べると、樹脂としては電気
%注、成形加工性の点からエポキシ樹脂、ポリイミド樹
脂か好適であるが、その他にフェノール樹脂、不飽和ポ
リエステル樹脂。
メラミン樹脂、ビニルエステル樹脂などの熱硬化性樹脂
、あるいをエボリサル7オン、ポリ二一チルエーテルケ
トン、ホI7エーテルサルフオン、ポリエーテルイミド
などの熱可塑性樹脂を用いることができる。また、繊維
としては一般に用いらnるガラス做維の他にケブラー繊
維、紙、SiC繊維、シリカ繊維などを用いることがで
きる。
また、セラミック#は有機質基板の両面に設けても、片
面に設けてもさしつかえなく、その厚みは20μ〜50
0μの範囲であることか好ましい。20μ未満では耐熱
性、熱伝導性への効果が十分ではなく、500μを超え
るとドリル加工性などの加工性が悪くなり、また高価に
なってしまうためである。
本発明の方法により有機質基板の表面にセラミックJ−
を有する積層板を容易に得ることができる、本発明の方
法では有機質基板上にセラミック′tl″溶射するとい
う従来の考え方とは異なり、金属板上にセラミック溶射
層を形成し、その上にプリプレグを積層して熱圧成形、
一体化するため、セラミックと有機質基板の密着性I了
非常に良好である。また得らγLるセラミックコート積
層板の表面のセラミック層は金hA板の表面がそのまま
転写さnたものであるために平滑であり、七の筐ま回路
全形成することが口丁罷である。
以下、実施例を挙げて本発明ケさらに詳細に説明する。
(実施例) 第1図1工本発明の実施例の積層構成図、第2幽(工実
施例で得らrしたセラミックコート積層機の断面模式図
である。
平滑な表面を有するステンレス板1(厚さ2ffill
l)の表面にシリコーン系囃型剤を塗布恢、プラズマ溶
射装置を用いてアルミナ’tifE++ooμの厚さに
鹸創してアルミナ層2を形成した。
このステンレス板とガラスクロス/エポキシ樹脂含浸プ
リプレグ5を第1図の瑣層構成に槓み重ね、熱圧成形し
て一体化した。この成形品を冷却後1表面のステンレス
板を引きにかして除去し、第2図に示すごとき表面にア
ルミナ層を有する積層板を得た。
得らrした積層板は表面に平滑なアルミナ層をもつもの
でアルミナ層とエポキシ樹脂間の密着性は良好であり、
表面に熱伝導性のよいアルミナ/* 731あるために
、熱放散性にすぐn、耐熱性もあり耐アーク性、耐トラ
ツキング性も良好なものであった。また、この積層板の
芯は従来と同様のガラス/エポキシ基鈑であるためスル
ーホールの形成、ドリル加工などは従来の方法で可能で
あった。
(発明の効果) 本発明によnば熱伝導性、耐!I!%性にすぐrした積
層板を容易に製造することができる。得られる積層II
iは有機質基板上 加工性と、セラミック基板のもつすぐrt、た耐熱性、
熱伝導性を兼ねそなえたものであp、しかもこれらの従
来の欠点を解決し得るものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明の実施例の積層構成図、第2内は実施
例で得らnたセラミックコート積層板の断rIlJ模式
因である。 符号の説明 1 金属板    2 セラミック溶射層5 プリプレ
グ  4 繊維/側BfI鳩り\

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、金属板の片面に電気絶縁性のセラミックを溶射して
    セラミック層を形成し、該金属板のセラミック層側に所
    定数のプリプレグを積層し熱圧成形後金属板を剥離する
    ことを特徴とするセラミックコート積層板の製造方法。 2、セラミックを溶射する側の金属板の表面が予め離型
    処理を施したものである特許請求の範囲第1項記載のセ
    ラミックコート積層板の製造方法。 3、セラミックがアルミナを主成分とするものである特
    許請求の範囲第1項記載のセラミックコート積層板の製
    造方法。 4、プリプレグの樹脂がエポキシ樹脂またはポリイミド
    樹脂である特許請求の範囲第1項記載のセラミックコー
    ト積層板の製造方法。 5、プリプレグの繊維がガラス繊維である特許請求の範
    囲第1項記載のセラミックコート積層板の製造方法。
JP61028698A 1985-12-26 1986-02-12 セラミツクコ−ト積層板の製造方法 Expired - Lifetime JPH0655477B2 (ja)

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DE19863644310 DE3644310C2 (de) 1985-12-26 1986-12-23 Kupferkaschiertes Basismaterial und Verfahren zu dessen Herstellung

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