JPS62188152A - 質量分析装置 - Google Patents
質量分析装置Info
- Publication number
- JPS62188152A JPS62188152A JP61029988A JP2998886A JPS62188152A JP S62188152 A JPS62188152 A JP S62188152A JP 61029988 A JP61029988 A JP 61029988A JP 2998886 A JP2998886 A JP 2998886A JP S62188152 A JPS62188152 A JP S62188152A
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- Japan
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- electrostatic lens
- ion
- mass spectrometry
- magnetic field
- spectrometry system
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、4極静電レンズを構成要素に含む質量分析装
■の改良に関J゛る。
■の改良に関J゛る。
[従来技術]
第5図は特開昭59−160949号に紹介されている
質量分析装置の概略を示す。この質量分析装置では、イ
オン源S、一様扇形磁場II 、円筒電場C及びイオン
検出i5Dがこの順に並べられ、イオン源Sと一様扇形
電場1」との間に、通過するイオンビームの軌道平面に
垂直な方向に集束性を与え、イオンビームの動径方向に
は発散性を与える2個の4極静電レンズQ1 、Q2を
配置し、史に一様扇形電場1ど円n電3!ACの間に通
過するイオンビームの軌道平面に垂直な方向に集束性を
与える第3の4極静電レンズQ3を配置することを特徴
としている。
質量分析装置の概略を示す。この質量分析装置では、イ
オン源S、一様扇形磁場II 、円筒電場C及びイオン
検出i5Dがこの順に並べられ、イオン源Sと一様扇形
電場1」との間に、通過するイオンビームの軌道平面に
垂直な方向に集束性を与え、イオンビームの動径方向に
は発散性を与える2個の4極静電レンズQ1 、Q2を
配置し、史に一様扇形電場1ど円n電3!ACの間に通
過するイオンビームの軌道平面に垂直な方向に集束性を
与える第3の4極静電レンズQ3を配置することを特徴
としている。
第6図はこの4極静電レンズの一例を示し、同一円周上
に90°閤隔でイオンビームの進行方向(Z方向)に平
行に配置される4本の円柱電極から構成され、イオンビ
ームの軌道平面に垂直な方向(y方向)の対向Jる電極
には正の電位が印加され、イオンビームのV」径方向(
X方向)の対向する電極には負の電位が印加される。
に90°閤隔でイオンビームの進行方向(Z方向)に平
行に配置される4本の円柱電極から構成され、イオンビ
ームの軌道平面に垂直な方向(y方向)の対向Jる電極
には正の電位が印加され、イオンビームのV」径方向(
X方向)の対向する電極には負の電位が印加される。
このような提案装置では、4極静電レンズQ1゜Q2に
よりイオンビームの幅が広げられるため、質量分析系の
パラメータである像倍率を小さくすることができ、分解
能を向上さVることができる。
よりイオンビームの幅が広げられるため、質量分析系の
パラメータである像倍率を小さくすることができ、分解
能を向上さVることができる。
又、第3の4極静電レンズQ3によりイオンビームが軌
道平面に垂直な方向に集束されるため、質量分析系にお
けるイオンビームの通過効率が向上し、感度も向上させ
ることができる。
道平面に垂直な方向に集束されるため、質量分析系にお
けるイオンビームの通過効率が向上し、感度も向上させ
ることができる。
[発明が解決しようとする問題点]
ところが、本発明者の検討によれば、このような4権静
電レンズを使用したv1吊分析系では、極めて大ぎな5
次収差が発生し、この5次収差により、分解能及び感度
が所期の値に到達し1!7ない可能性がある。
電レンズを使用したv1吊分析系では、極めて大ぎな5
次収差が発生し、この5次収差により、分解能及び感度
が所期の値に到達し1!7ない可能性がある。
本発明は、この点に鑑みてなされたしのであり、静電1
2極レンズをW迅分析系に扉開することにより、4極静
電レンズによって生じる5次収差を打消すことができる
質量分析装置を提供することを目的としている。
2極レンズをW迅分析系に扉開することにより、4極静
電レンズによって生じる5次収差を打消すことができる
質量分析装置を提供することを目的としている。
[発明の構成]
この目的を達成するため、本発明は、イオン源と、該イ
オン源で生成されたイオンが導入されるT1m分析系と
、該質量分析系で選択されたイオンが入射するイオン検
出器とを備え、該質量分析系の構成要素として4極静電
レンズを備えた質BIi分析装置において、前記質量分
析系内に12極静゛市レンズを配置するようにしたこと
を特徴としている。
オン源で生成されたイオンが導入されるT1m分析系と
、該質量分析系で選択されたイオンが入射するイオン検
出器とを備え、該質量分析系の構成要素として4極静電
レンズを備えた質BIi分析装置において、前記質量分
析系内に12極静゛市レンズを配置するようにしたこと
を特徴としている。
以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳説する。
[実施例]
第1図は本発明の一実施例を示す装置構成図であり、第
5図の提案装置との相違点は、4極静電レンズQ2と一
様扇形磁場1」との間に12極静電レンズTが新たに挿
入配置されたことである。
5図の提案装置との相違点は、4極静電レンズQ2と一
様扇形磁場1」との間に12極静電レンズTが新たに挿
入配置されたことである。
第2図は、この12極静電レンズ下の断面図を示し、P
1〜P12の12本の円柱電極を30″間隔で同一円周
上に配置してあり、各電極には、交互に+V及び−Vの
電位が印加される。
1〜P12の12本の円柱電極を30″間隔で同一円周
上に配置してあり、各電極には、交互に+V及び−Vの
電位が印加される。
第3図はこの12木の電極によって生成される12重積
電場を示1′。
電場を示1′。
ところで、第6図に示すような構造を持つ4極静電レン
ズは、理想的には次式で示される電場を発生する。
ズは、理想的には次式で示される電場を発生する。
V (x、y、z ) =
(K(z )/ 2) ((x2− y2)+(K
(Z )/24) ((x4− y4 ) )・(
1)ここで、K (Z )は四重掻揚の強さに関する係
数である。
(Z )/24) ((x4− y4 ) )・(
1)ここで、K (Z )は四重掻揚の強さに関する係
数である。
(1)式の第1項は四重t4i場を承り関数で、レンズ
の内部で場が7方向に対して一様な場合はこの項だけに
なる。第2項は、レンズの出入口でポテンシャルが2方
向に一様でない場合に発生ずる項である。
の内部で場が7方向に対して一様な場合はこの項だけに
なる。第2項は、レンズの出入口でポテンシャルが2方
向に一様でない場合に発生ずる項である。
/181静電レンズの出入口では、レンズを出た部分に
もボテフシ1フルが存在するが、このポテンシャルは、
対称性から、6次までの近似で次のように表わすことが
できる。
もボテフシ1フルが存在するが、このポテンシャルは、
対称性から、6次までの近似で次のように表わすことが
できる。
V (x、y、z ) =
(K (z )/、2) ((x2− y2) +(K
(z)/24) ((x4− y’ ))トa (xg
−15x4 y2+15x2 y4− y’ )・
・・(2) ここで、aは十二虫極場の強さに関する係数である。
(z)/24) ((x4− y’ ))トa (xg
−15x4 y2+15x2 y4− y’ )・
・・(2) ここで、aは十二虫極場の強さに関する係数である。
(1)式と(2)式を比較すると、(2)式の第3項が
新たに発生したことが分る。この第3項は、4極静電レ
ンズの出入り口の境界条件が(1)式で与えられる条件
を満す場合には発生しない。
新たに発生したことが分る。この第3項は、4極静電レ
ンズの出入り口の境界条件が(1)式で与えられる条件
を満す場合には発生しない。
しかしながら、(1)式の条件を満すためには拘雑な電
極構造と電位配分を必要とし、現実には無理と言わざる
を冑ない。そのため、通I;シは、上記第3項が発生し
ている。ところが、この第3項は従来考慮されてJ3ら
ず、実際のイオン光学系では、5次収差となって現われ
、その大きさは必ずしも明らかではないが、7I極静電
レンズを構成要素とするイオン光学系は、大ぎな5次収
差が発生J−る可能性を含んでいることが分る。
極構造と電位配分を必要とし、現実には無理と言わざる
を冑ない。そのため、通I;シは、上記第3項が発生し
ている。ところが、この第3項は従来考慮されてJ3ら
ず、実際のイオン光学系では、5次収差となって現われ
、その大きさは必ずしも明らかではないが、7I極静電
レンズを構成要素とするイオン光学系は、大ぎな5次収
差が発生J−る可能性を含んでいることが分る。
一方、第1図で示す12極静電レンズは次式で表わされ
る十二用極電場φ(x、y )を発生する。
る十二用極電場φ(x、y )を発生する。
φ(x、y ) =
Vo (x6−15x4 y2 +15x2 y
4− y5 )・・・(3) VOは十三積電電場の強さに関する係数で、レンズ電極
に印加するポテンシャルによって決定される。
4− y5 )・・・(3) VOは十三積電電場の強さに関する係数で、レンズ電極
に印加するポテンシャルによって決定される。
(3)式は(2)式第3項と同じ形をしており、5次収
差を発生ずる。従って、この12極静電レンズを、4極
静電レンズを構成要素として持つ買足分析系(イオン光
学系内)に挿入し、その強度を適宜設定することにより
、4極静電レンズにより発生する5次収差の少なくとも
1つの項については打ち消すことが可能である。
差を発生ずる。従って、この12極静電レンズを、4極
静電レンズを構成要素として持つ買足分析系(イオン光
学系内)に挿入し、その強度を適宜設定することにより
、4極静電レンズにより発生する5次収差の少なくとも
1つの項については打ち消すことが可能である。
又、12極静電レンズを複数個配置すれば、5次収差の
更に多くの項を打ち消すことが可能である。
更に多くの項を打ち消すことが可能である。
12極静電レンズは、イオンビームの中心軌道から離れ
たところをイオンが通る場所、即ちイオンビームの幅が
広がっている場所に配置するに使用することが望ましい
。第1図の実施例では、4極静電レンズQ1 、Q2に
よってイオンビームの幅が最も広げられている4穫静電
レンズQ2と一様扇形磁場Hとの間、それもla場ヒト
1近い場所に配置されている。
たところをイオンが通る場所、即ちイオンビームの幅が
広がっている場所に配置するに使用することが望ましい
。第1図の実施例では、4極静電レンズQ1 、Q2に
よってイオンビームの幅が最も広げられている4穫静電
レンズQ2と一様扇形磁場Hとの間、それもla場ヒト
1近い場所に配置されている。
この12極静電レンズは、4次以下の収差については全
く影響を与えない。
く影響を与えない。
尚、実際に用いる12極静電レンズとしては、(3)式
で表わされる十二積電電揚を近似的に発生でさ゛るもの
であれば良い。最も簡単に実現できるのは、第1図のよ
うに円柱電極を用いたものであるが、例えば第4図に示
ずように円筒電極を用いるものでも良い。
で表わされる十二積電電揚を近似的に発生でさ゛るもの
であれば良い。最も簡単に実現できるのは、第1図のよ
うに円柱電極を用いたものであるが、例えば第4図に示
ずように円筒電極を用いるものでも良い。
[効果]
以上詳述した如く、本発明によれば、質囲分析系の構成
要素として4極静電レンズを備えた質量分析系内におい
て、前記質量分析系内に12極静電レンズを配置するこ
とにより、4極静電レンズによって発生する5次収差を
除去することのできる質ω分析装置が実現される。
要素として4極静電レンズを備えた質量分析系内におい
て、前記質量分析系内に12極静電レンズを配置するこ
とにより、4極静電レンズによって発生する5次収差を
除去することのできる質ω分析装置が実現される。
第1図は本発明の一実施例を示す装置構成図、第2図は
、第1図の実施例における12極静電レンズの断面図、
第3図は12*静電レンズにおいて生成される12重積
電場合示J−図、第4図は12極静電レンズの他の例を
示す図、第5図は従来装置の構成を示ず図、第6図は4
極静電レンズの断面図である。 S:イオン源 ト1ニ一様扇形磁場C:円筒電I
D:イオン検出器01〜Q3:4極静電レンズ T:12極静電レンズ P1〜P12二円柱電極 才4図
、第1図の実施例における12極静電レンズの断面図、
第3図は12*静電レンズにおいて生成される12重積
電場合示J−図、第4図は12極静電レンズの他の例を
示す図、第5図は従来装置の構成を示ず図、第6図は4
極静電レンズの断面図である。 S:イオン源 ト1ニ一様扇形磁場C:円筒電I
D:イオン検出器01〜Q3:4極静電レンズ T:12極静電レンズ P1〜P12二円柱電極 才4図
Claims (2)
- (1)イオン源と、該イオン源で生成されたイオンが導
入される質量分析系と、該質量分析系で選択されたイオ
ンが入射するイオン検出器とを備え、該質量分析系の構
成要素として4極静電レンズを備えた質量分析装置にお
いて、前記質量分析系内に12極静電レンズを配置する
ようにしたことを特徴とする質量分析装置。 - (2)前記質量分析系は、イオン源とイオン検出器との
間に配置される一様磁場と、該磁場とイオン検出器との
間に配置される電場と、イオンビームの軌道平面に垂直
な方向に集束性を与えそのイオンビームの動径方向には
発散性を与えるために前記イオン源と磁場との間に間隔
をあけて配置される第1及び第2の4極静電レンズと、
イオンビームの軌道平面に垂直な方向に集束性を与える
ために前記磁場と電場との間に配置される第3の4極静
電レンズとから構成され、前記12極静電レンズが上記
第2の4極静電レンズと一様磁場との間に配置される特
許請求の範囲第1項記載の質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61029988A JPS62188152A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61029988A JPS62188152A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62188152A true JPS62188152A (ja) | 1987-08-17 |
| JPH0477415B2 JPH0477415B2 (ja) | 1992-12-08 |
Family
ID=12291334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61029988A Granted JPS62188152A (ja) | 1986-02-14 | 1986-02-14 | 質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62188152A (ja) |
-
1986
- 1986-02-14 JP JP61029988A patent/JPS62188152A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0477415B2 (ja) | 1992-12-08 |
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