JPS62189428A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JPS62189428A JPS62189428A JP3236286A JP3236286A JPS62189428A JP S62189428 A JPS62189428 A JP S62189428A JP 3236286 A JP3236286 A JP 3236286A JP 3236286 A JP3236286 A JP 3236286A JP S62189428 A JPS62189428 A JP S62189428A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶表示装置（以下ＬＣＤと略す）の製造方法
、特に配向処理方法に関する。
、特に配向処理方法に関する。
Ｉ、ＣＤの製造方法で、液晶を所定の配向状態にするた
めの表面処理方法が従来から提案されている。主なもの
は５１０２及びＳｉＯ等をバッチ式の蒸着装置中でなな
め方向から蒸着する方法と、基板表面をサラシ等でラビ
ングする方法である。
めの表面処理方法が従来から提案されている。主なもの
は５１０２及びＳｉＯ等をバッチ式の蒸着装置中でなな
め方向から蒸着する方法と、基板表面をサラシ等でラビ
ングする方法である。
前者の方法は、液晶にあらかじめ所定のプレティルト角
を与えるのに有利であるが生産性にとぼしい０後者は生
産性は優れるものの液晶にプレティルト角を与えること
が困難であった。そのため近年注目されている比較的大
きなプレテ）ルト角を有する液晶の複屈折モードを用い
たＬＣＤでは、品質を上げるためにななめ蒸着法を用い
るか、生産を上げるためにラビング法を用いるか、選択
しなければならず、品質、生産性をともに満足させるの
は困儲であった。
を与えるのに有利であるが生産性にとぼしい０後者は生
産性は優れるものの液晶にプレティルト角を与えること
が困難であった。そのため近年注目されている比較的大
きなプレテ）ルト角を有する液晶の複屈折モードを用い
たＬＣＤでは、品質を上げるためにななめ蒸着法を用い
るか、生産を上げるためにラビング法を用いるか、選択
しなければならず、品質、生産性をともに満足させるの
は困儲であった。
本発明は前述したななめの蒸着法による生産性の欠点を
基板と蒸着源を、基板の進行方向に対して垂直にスリッ
トを設けた遮蔽板で仕切った、基板が移動する連続蒸着
装置で、基板上に８１０．。
基板と蒸着源を、基板の進行方向に対して垂直にスリッ
トを設けた遮蔽板で仕切った、基板が移動する連続蒸着
装置で、基板上に８１０．。
ＳｉＯ等の金属酸化物を蒸着する方法により解決した。
第１図に示す様な連続蒸着装置で、第２図に示すスリッ
ト７を設けた遮蔽板５を第１ｐＸＪの５に設置する。角
度θは、遮蔽板５の長さａ、ｂ、ｅを任意に設定する事
により、任意に設定できる０従来のバッチ式の蒸着装置
だと、第５図に示す様に角度θ′を得ながら多数の基板
１４を処理するためには真空槽１５を大きくしなければ
ならず、そのためにはポンプ系を含め非常に大きな設備
が必要であった〇 本発明による装置を用いた場合・真空槽は比較的小さく
でき、又連続膜付けできるため生産性が大幅に向上する
〇 〔実施例１〕 本実施例に用いた連続蒸着装置を第３図に示し説明する
。第５図に示すａ ” ｆの寸法は、ａ＝９０ｃｍＳｂ
＝１０ｃｍ５ ｃ＝１０ｃｍ５ ｄ＝６０ｃｍ、＄
＝７（１ｎ、 ／＝Ｑ、 ２Ｏｍｓ Ｓ’＝ １０ｃｍ
である。この寸法により第１図に示したθ＋５°となっ
た０次に膜付は条件は、成膜速度が；ｒＸ／ｓｅｅ、基
板加熱温度は約３５０℃とした。
ト７を設けた遮蔽板５を第１ｐＸＪの５に設置する。角
度θは、遮蔽板５の長さａ、ｂ、ｅを任意に設定する事
により、任意に設定できる０従来のバッチ式の蒸着装置
だと、第５図に示す様に角度θ′を得ながら多数の基板
１４を処理するためには真空槽１５を大きくしなければ
ならず、そのためにはポンプ系を含め非常に大きな設備
が必要であった〇 本発明による装置を用いた場合・真空槽は比較的小さく
でき、又連続膜付けできるため生産性が大幅に向上する
〇 〔実施例１〕 本実施例に用いた連続蒸着装置を第３図に示し説明する
。第５図に示すａ ” ｆの寸法は、ａ＝９０ｃｍＳｂ
＝１０ｃｍ５ ｃ＝１０ｃｍ５ ｄ＝６０ｃｍ、＄
＝７（１ｎ、 ／＝Ｑ、 ２Ｏｍｓ Ｓ’＝ １０ｃｍ
である。この寸法により第１図に示したθ＋５°となっ
た０次に膜付は条件は、成膜速度が；ｒＸ／ｓｅｅ、基
板加熱温度は約３５０℃とした。
第４図でソーダガラス基板８上に工ＴＯ膜による電極９
を形成したのち、該基板に前述の条件でＳ１６．膜１０
を２００Ｘ膜付けした。基板の送り速度は約２０ ｃｍ
７分であった。しかる後に前記基板２枚をシール１１
を介して組合せ、液晶１２を封入した。次にこのＬＣＤ
の液晶のプレティルト角を測定したところ、２８°であ
りだ。
を形成したのち、該基板に前述の条件でＳ１６．膜１０
を２００Ｘ膜付けした。基板の送り速度は約２０ ｃｍ
７分であった。しかる後に前記基板２枚をシール１１
を介して組合せ、液晶１２を封入した。次にこのＬＣＤ
の液晶のプレティルト角を測定したところ、２８°であ
りだ。
〔実施例２〕
第３図で、ａ Ｎｔの寸法を、α＝６０ＣＷＩＳｂ＝４
０ｃｒａ、ｃ ＝１０Ｏｍｓ ｄ＝６０ＯＩｌＩ１１ｇ
＝７ａｍ、！＝０．２ＣｍＳｆ＝１０ｃｍｑとした。
０ｃｒａ、ｃ ＝１０Ｏｍｓ ｄ＝６０ＯＩｌＩ１１ｇ
＝７ａｍ、！＝０．２ＣｍＳｆ＝１０ｃｍｑとした。
これにより第１図に示したθ＝８°となった〇
実施例１に対して上記条件のみ変更して同様のＬＯＤを
作成し、ＬＯＤの液晶のプレティルト角を測定したとこ
ろ、５５°であった。
作成し、ＬＯＤの液晶のプレティルト角を測定したとこ
ろ、５５°であった。
以上の様に本発明による液晶表示装置の製造方法を用い
ると、生産性を損うことなく液晶表示装置を製造できる
０又、遮蔽板の交換のみで自由な方向からななめ蒸着す
ることができ、液晶表示装置の特性を任意に変更するこ
とができる◇
ると、生産性を損うことなく液晶表示装置を製造できる
０又、遮蔽板の交換のみで自由な方向からななめ蒸着す
ることができ、液晶表示装置の特性を任意に変更するこ
とができる◇
第１図は本発明による連続蒸着装置の正面図＠第２図は
〃 〃 に用いる遮蔽板の正面図。 第３図は本発明の実施例１，２に用いた連続蒸着装置の
蒸着槽の正面図。 第４図は本発明により作成したＬＣＤの断面図。 第５図は従来のバッチ式のななめ蒸着装置の蒸着槽の正
面図。 １・・・そう入室 ２・・・蒸着室３・・・取り
出し室 ４・・・蒸着源５・・・遮蔽板
６・・・基板進行方向７・・・スリット ８・・
・ソーダガラス基板９−Ｉ Ｔ Ｏ電極 １Ｏ−８ｉ
Ｏ，膜１１・・・シール １２・・・液晶１３・
・・真空槽 １４・・・基板１５・・・蒸着源 ＜Ｉ ｓ ｂ ＋ ６ ＋ ｄ ＋ ＃ ＊ ／ ＋
ｆは図中のそれぞれの寸法を示す＠ 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士最上 務 他１名 Ｃ 第２図 ＩＦ５図 ８゛ンータシｆ５λ」≦１に 第４図 第５図
〃 〃 に用いる遮蔽板の正面図。 第３図は本発明の実施例１，２に用いた連続蒸着装置の
蒸着槽の正面図。 第４図は本発明により作成したＬＣＤの断面図。 第５図は従来のバッチ式のななめ蒸着装置の蒸着槽の正
面図。 １・・・そう入室 ２・・・蒸着室３・・・取り
出し室 ４・・・蒸着源５・・・遮蔽板
６・・・基板進行方向７・・・スリット ８・・
・ソーダガラス基板９−Ｉ Ｔ Ｏ電極 １Ｏ−８ｉ
Ｏ，膜１１・・・シール １２・・・液晶１３・
・・真空槽 １４・・・基板１５・・・蒸着源 ＜Ｉ ｓ ｂ ＋ ６ ＋ ｄ ＋ ＃ ＊ ／ ＋
ｆは図中のそれぞれの寸法を示す＠ 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士最上 務 他１名 Ｃ 第２図 ＩＦ５図 ８゛ンータシｆ５λ」≦１に 第４図 第５図
Claims (1)
- 一対の基板で液晶を挾持して成る液晶表示装置の製造工
程において、前記基板の少なくとも一方の前記液晶に面
する側に、前記基板の進行方向に対して垂直にスリット
を設けた遮蔽板で蒸着源と前記基板を仕切った連続蒸着
装置中で金属酸化物を蒸着する工程を含むことを特徴と
する液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3236286A JPS62189428A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3236286A JPS62189428A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62189428A true JPS62189428A (ja) | 1987-08-19 |
Family
ID=12356842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3236286A Pending JPS62189428A (ja) | 1986-02-17 | 1986-02-17 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62189428A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7518681B2 (en) | 2005-07-14 | 2009-04-14 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing apparatus for oriented film, liquid crystal device and electronic device |
-
1986
- 1986-02-17 JP JP3236286A patent/JPS62189428A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7518681B2 (en) | 2005-07-14 | 2009-04-14 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing apparatus for oriented film, liquid crystal device and electronic device |
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